选择性金属/金属氧化物刻蚀方法
【专利摘要】本发明提供了一种用于相对于氧化物半导体膜选择性地蚀刻钼或钛的方法，其包括提供基板，该基板包括氧化物半导体层和在该氧化物半导体层上的包含钼或钛的层；通过施加光致抗蚀剂层于包含钼或钛的层上，然后使光致抗蚀剂层形成图案并展开，以形成包含钼或钛的层的暴露部分来制备基板；提供包含氨或氢氧化铵、氢氧化季铵和过氧化物的组合物；和将所述组合物施加至所述暴露部分，持续足以蚀刻和去除包含钼或钛的层的暴露部分的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体选择性地去除钼或钛。
【专利说明】
选择性金属/金属氧化物刻蚀方法
技术领域
[0001]本发明涉及用于相对于氧化物半导体膜选择性地蚀刻金属的方法。更具体而言， 本发明涉及用于相对于氧化物如铟-镓-锌氧化物（IGZ0)的半导体膜选择性地蚀刻金属如 钼(Mo)和钛(Ti)的组合物和方法。
[0002] 背景
[0003] 氧化物半导体是作为显示应用的活性矩阵平板中使用的无定形硅TFT通道材料的 替代品受到主要关注。特别地，与无定形硅相比高的场效应迀移率和低的阈值电压使氧化 物半导体成为有吸引力的替代品。一个最有希望的氧化物材料是无定形的铟-镓-锌氧化物 (a-IGZO或简单的IGZ0,其是InGa0 3(Zn0)5)，其已被证明具有比无定形硅更优异的电性质并 且没有多晶硅通常所具有的不均匀性的缺点。IGZ0具有高流动性，电稳定性和优良的均匀 性。其他透明导电膜，如氧化铟锡锌（ΙΤΖ0)(实际上为无定形的In2〇 3-Sn〇2_ZnO(a-ITZO))已 经作为活性层特别应用于TFT中的薄膜显示领域中。由于这样的无定形氧化物半导体膜(特 别是IGZ0和ΙΤΖ0)可以在相对低的温度下形成于聚合物薄膜上，其已被应用于使用这样的 薄膜显示器的轻质便携式电子产品中。
[0004] 存在四种基本的TFT结构，包括式底栅交错(bottom-gate staggered)，顶栅交错 (top-gate staggered)，底概共面（bottom-gate coplanar)和顶概共面（top-gate coplanar)。在这样的TFT中，源极和漏极可以由来自金属如A1或Cu或这些金属的合金的金 属薄膜形成。在过去使用Mo作为源极/漏极，但是对于未来的器件，计划使用导电性更强的 金属A1和Cu。然而，如果施加的A1或Cu与IGZ0或ΙΤΖ0膜直接接触，可能会出现问题，如Cu扩 散到IGZ0或ΙΤΖ0中或由于A1与IGZ0或ΙΤΖ0中的氧反应而在IGZ0或ΙΤΖ0中产生其他空位。因 此，在大多数情况下，提供Mo或Ti的薄膜并且使用导电性更强的A1或Cu或其合金作为主要 导体。Mo或Ti的层使A1或Cu与氧化物半导体分隔，由此避免这些问题。该薄膜形成在IGZ0或 ΙΤΖ0上，由此在IGZ0或ΙΤΖ0上形成金属复合层，例如Mo/Cu/Mo/IGZ0，Mo/Al/Mo/IGZ0，Cu/ M〇/IGZO，M〇/IGZO，A1/M〇/IGZO金属复合层。在前述的复合材料中，钛可以代替Mo。为了形成 TFT结构，必须蚀刻已经形成的薄金属膜的层Mo/Cu/Mo，Mo/Al/Mo，Cu/Mo，Mo，Al/Mo(再次， 钛可以代替Mo)，以形成单独的源极和漏极。为了蚀刻薄金属膜并且不蚀刻掉氧化物半导体 膜，蚀刻剂必须相对于氧化物半导体膜对于金属具有高的选择性。已使用干蚀刻剂，但其选 择性差并且倾向于损坏底层氧化物半导体膜。常用的湿蚀刻剂，如PAN，已相对于底层半导 体氧化物膜显示出对金属的选择性差。已发现其他蚀刻剂如氨/过氧化物相对于氧化物半 导体膜在蚀刻金属时缺乏再现性，一致性和足够的选择性。最重要的问题是相对于氧化物 半导体例如IGZ0或IΤΖ0蚀刻剂对于叠层中的"底部"金属例如Mo或Ti的选择性，该问题仍然 未得到解决。
[0005] 因此，对于能够提供相对于底层氧化物半导体膜对金属的可靠和一致的高蚀刻选 择性的蚀刻剂存在持续的需求。
[0006] 发明概述
[0007] 本发明的发明人已经发现，氢氧化季铵，氨或氢氧化铵和过氧化氢的组合提供了 相对于氧化物半导体膜对金属例如钼(Mo)或钛(Ti)具有非常高的选择性的优异快速的蚀 亥IJ。虽然不被理论所束缚，据认为，氢氧化季铵对于氧化物半导体提供了某种程度的保护， 同时相对于氧化物半导体膜改善对于包含金属(例如包括钼或钛)的层的蚀刻。
[0008] 在一个实施方案中，本发明涉及用于相对于氧化物半导体膜选择性地蚀刻钼或钛 膜的方法，其包括：
[0009] 提供了基板，该基板包括氧化物半导体层和在该氧化物半导体层上的包含钼或钛 的层；
[0010] 通过施加光致抗蚀剂层至包含钼或钛的层上，然后使光致抗蚀剂层形成图案并展 开，以形成包含钼或钛的层的暴露部分来制备基板；
[0011] 提供了包含氨或氢氧化铵、氢氧化季铵和过氧化物的组合物;和
[0012] 使所述组合物施加至所述暴露部分，持续足以蚀刻和去除包含钼或钛的层的暴露 部分的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体选择性地去除钼或钛。
[0013] 在另一个实施方案中，本发明涉及一种用于形成晶体管的方法，其包括：
[0014] 形成氧化物半导体的通道层；
[0015] 在所述通道层上沉积包含钼或钛的源极/漏极层；
[0016] 将光致抗蚀剂层施加至包含钼或钛的层，然后使光致抗蚀剂层形成图案并展开， 以形成包含钼或钛的层的暴露部分；
[0017] 提供包含氨或氢氧化铵、氢氧化季铵和过氧化物的组合物;和
[0018] 将所述组合物施加至所述暴露部分，持续足以蚀刻和去除包含钼或钛的层的暴露 部分的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体选择性地去除钼或钛，以形成晶体管 的源极和漏极。
[0019] 因此，本发明解决了现有技术对于相对于氧化物半导体膜(在其上布置有钼或钛） 有效蚀刻和去除钼或钛的至少一种的需求。
[0020] 附图的简要说明
[0021] 图1是在器件上形成光致抗蚀剂层的图案之前的半导体器件一部分的示意性剖视 图。
[0022] 图2是在根据本发明的蚀刻之前在形成光致抗蚀剂层的图案之后的半导体器件一 部分的示意性剖视图。
[0023] 图3是在根据本发明的蚀刻之后半导体器件一部分的示意性剖视图。
[0024] 图4和5是包含钼或钛的层的实施方案的示意性剖视图，该实施方案显示在包含钼 或钛的层上复合或夹层的金属层。
[0025] 应当理解，为了说明的简单和清楚起见，在图中所示的元件没有必要按比例绘制。 例如，为了清晰，一些元件的尺寸相对彼此被放大。此外，在认为适当时，附图标记在图中重 复以指示相应的或相同的元件。
[0026] 详细说明
[0027]应当理解，本文中所描述的方法步骤和结构并不构成用于进行蚀刻工艺（如将在 制造半导体器件或TFT显示屏器件中使用）的一个完整的系统或工艺流程。本发明可以与本 领域中目前使用的制造技术和装置相结合来实施，并且只是为了理解本发明必须包括的那 么多的通常实践使用的材料，设备和方法步骤。
[0028] 贯穿本公开内容和权利要求书，所公开的范围和比率的数值限制可以组合，并且 所有中间值被视为被公开在本公开的范围之内。此外，所有数值被认为之前有修饰语"约"， 无论该术语是否被特别陈述。在整个公开内容和权利要求书中，可以从组中删除该组的任 何一员。在整个公开内容和权利要求书中，所公开的各种要素的所有可能的组合可以进行 组合，并且所有这些组合都被认为包括在本发明的范围之内。在整个公开内容和权利要求 书中，除非另外指明，否则"一个(a)"、"一个(an)"和/或"该(the)"都可包含一或超过一，且 单数项目亦可包括复数项目。在整个公开内容和权利要求书中，除非另外指明，否则所有温 度以摄氏度测量，所有工艺均在室温或环境温度下进行并且所有压力都是大气压。
[0029] 在上述概述中简单描述的某些本发明实施方式将在下文中进行更详细的描述，从 而使本领域技术人员能够实施并使用本发明。
[0030] 在根据本发明的方法中，可以进行蚀刻以从直接沉积在IGZ0或其它透明半导体氧 化物材料的一个或多个金属层上通过选择性地蚀刻掉金属层以形成源极和漏极，而无需蚀 刻停止层且不损坏IGZ0或其它透明半导体氧化物层。金属层包括例如Mo/Cu/M 〇、M〇/Al/Mo、 &1/^〇、1〇^1/^〇、替代任何相应金属的此、〇1和41的任何的合金，以及现有技术中已知的用 作TFT源极/漏极导体的相似金属。
[0031] 图1是在光致抗蚀剂层112形成图案之前的半导体器件一部分的示意性剖视图。如 图1所示，器件100包括基板1〇2(由例如用于TFT显示装置的玻璃形成），绝缘体层104,栅极 106,通道层108,待蚀刻以形成源极和漏极的金属层110,以及光致抗蚀剂层112。在一个实 施方案中，通道导体108是氧化物半导体，如IGZ0或ΙΤΖ0。在一个实施方案中，金属层110包 括钼(Mo)或钛(Ti)、Mo或Ti上的铝(A1)层、Mo/Al/Mo或Ti/Al/Ti夹层、Mo或Ti上的铜（Cu) 层、Mo/Cu/Mo或Ti/Cu/Ti夹层或以相同结构的这些金属的合金。如本文所用，"这些金属的 任何的合金"包括用于半导体器件中的公知的Mo、Ti、Cu或A1的任何一种的合金。如图1所 示，光致抗蚀剂层112已经被应用，但是还没有形成图案。
[0032] 图2是根据本发明的实施方案在蚀刻之前在图1的光致抗蚀剂层112形成图案之后 的半导体器件一部分的示意性剖视图，其中光致抗蚀剂层212已经被图案化，在适当的位置 上形成开口，以形成金属层110的暴露部分ll〇a，以用于随后蚀刻以形成新生TFT的源极和 漏极。
[0033] 图3是根据本发明在蚀刻之后的半导体器件一部分(例如薄膜晶体管300)的示意 性剖视图。如图3所示，金属层110的暴露部分110a被蚀刻，以形成源极310s和漏极310d。在 图3所示的方法中，光致抗蚀剂212已去除。按照本发明的实施方案，由氧化物半导体如IGZ0 制造的通道层108由于本发明的高选择性蚀刻方法而没有任何显著程度的蚀刻。
[0034] 图4和5是金属层110的其他实施方案的示意性剖视图，该实施方案显示在包含钼 或钛的层上的复合或夹层的金属层。在这方面，应注意的是在图1-3所示的实施方案中，包 含钼或钛的层是单一材料，例如Mo或Mo的合金或Ti或Ti的合金。如本文所公开的，在其他实 施方案中，包含钼或钛(或其合金）的层还可以包括在Mo层上的铝或铜层，并且还在其它实 施方案中，另一钼层可以覆盖在第一Mo层上的铝或铜层，形成夹层结构Mo/Al/Mo或Mo/Cu/ Mo〇
[0035] 图4示出实施方案400,其中包含钼或钛的层还包括形成在钼或钛层上的A1或Cu的 额外层。因此，如图4所示，其中形成了源极410s和漏极410d，其每一个均包括在氧化物半导 体底层108上并且与氧化物半导体底层108接触的钼或钛层，以及在钼或钛层上的A1或Cu的 额外层。因此，在一个实施方案中，包含钼或钛的层110还包含在该包含钼或钛的层上的铝 层或铜层，其将成为氧化物半导体层上的源极和漏极。
[0036]图5示出了实施方案500,其中包含钼或钛的层还包括在钼或钛层上形成的A1或Cu 的额外层和该A1或Cu的额外层上的又一个钼或钛的层。因此，如图5所示，其中形成了源极 510s和漏极510d，其每一个均包括在氧化物半导体底层108上并且与氧化物半导体底层108 接触的钼或钛层，和在钼或钛层上的A1或Cu的额外层，以及在A1或Cu的额外层上的又一个 Mo层。因此，在一个实施方案中，包含钼或钛的层110还包含在钼或钛层上的铝层或铜层上 的钼或钛的第二层，由此形成Mo/Al/Mo夹层或Mo/Cu/Mo夹层或Ti/Al/Ti夹层或Ti/Cu/Ti夹 层，其将成为源极和漏极。
[0037] 因此，根据本发明的实施方案，本文提供一种用于相对于氧化物半导体膜选择性 地蚀刻钼或钛的方法，其包括以下步骤：
[0038] 提供基板102,其包括氧化物半导体层108和在氧化物半导体的通道层108上的包 含钼或钛的层110;
[0039] 通过施加光致抗蚀剂层112至包含钼或钛的层110上，然后使光致抗蚀剂层112形 成图案并展开，以形成包含钼或钛的层110的暴露部分ll〇a来制备该基板；
[0040] 提供包含氨或氢氧化铵，氢氧化季铵和过氧化物的组合物;和
[0041] 将所述组合物施加至所述暴露部分110a，持续足以蚀刻和去除包含钼或钛的层的 暴露部分110a的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体的通道层108选择性地去除 钼或钛。
[0042]在其他实施方案中，本发明提供用于形成晶体管300的方法，其包括 [0043] 形成氧化物半导体的通道层108;
[0044] 在通道层108上沉积包含钼或钛的源极/漏极层110;
[0045] 将光致抗蚀剂层112施加至包含钼或钛的层110上，然后使光致抗蚀剂层110形成 图案并展开，以形成包含钼或钛的层110的暴露部分ll〇a;
[0046] 提供包含氨或氢氧化铵、氢氧化季铵和过氧化物的组合物;和
[0047]将所述组合物施加至所述暴露部分110a，持续足以蚀刻和去除包含钼或钛的层 110的暴露部分ll〇a的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体选择性地去除钼或钛， 以形成晶体管300的源极310s和漏极310d。
[0048] 在一个实施方案中，选择性蚀刻基本上去除包含钼或钛的层110的所有的暴露部 分110a，且基本上不去除氧化物半导体的层108。
[0049] 在一个实施方案中，选择性蚀刻表现出至少6:1的金属/氧化物半导体选择性。在 另一个实施方案中，选择性蚀刻表现出至少20:1的金属/氧化物半导体选择性。在另一个实 施方案中，选择性蚀刻表现出至少100:1的金属/氧化物半导体选择性。在另一个实施方案 中，选择性蚀刻表现出至少250:1的金属/氧化物半导体选择性。在另一个实施方案中，选择 性蚀刻表现出至少2500:1的金属/氧化物半导体选择性。在另一个实施方案中，选择性蚀刻 表现出约3000:1的金属/氧化物半导体选择性。由于范围和比率的限定可以被组合，因此前 述包括例如在约100:1至约3000:1的范围内的选择性，以及类似的组合。
[0050] 在一个实施方案中，组合物包含：
[0051 ] 2-10wt%的氨，并且在一个实施方案中，l-10wt%的氨；
[0052] 0.01-0.5逆的氢氧化季铵;和
[0053] 0.1-7wt%的过氧化氢。
[0054]在一个实施方案中，组合物包含：
[0055] 3-10wt% 的氨；
[0056] 0.01-0.50的氢氧化季铵;和
[0057] 0.1-7wt%的过氧化氢。
[0058]在一个实施方案中，组合物包含：
[0059] 6_8wt% 的氨；
[0060] 0.05-0.20的氢氧化季铵;和
[0061] 0.5_2wt%的过氧化氢。
[0062]在一个实施方案中，组合物包含：
[0063] 7wt% 的氨；
[0064] 0.10的氢氧化季铵;和
[0065] lwt%的过氧化氢。
[0066] 在一个实施方案中，过氧化物以小于所添加的试剂(不包括溶剂如水)的小于主要 量即50%存在。 实施例
[0067] 在初始组的测试中，测试了在含有lwt %的过氧化氢水溶液中TMAH和氨的各种组 合中Mo的比较蚀刻速率，发现Mo的蚀刻速率在低浓度的TMAH时较高，并且显示出依赖于蚀 刻组合物中的氨浓度。在这些测试中，对于表1中在NH 3水溶液中的TMAH样品，蚀刻时间为 10、20、30和60秒，对于表2中的在TMAH水溶液中的NH3样品，蚀刻时间在6号溶液中为1、2、5、 10和20分钟，且在7-10号溶液中为10、20、30、60秒和2、5和10分钟。
[0068] 表1:順3水溶液中的TMAH
[0069]
[0070] 认为最佳的Mo蚀刻组合物为实施例编号4的组合物。
[0071] 表2: TMAH水溶液中的NH3
[0072]
[0073] 在第二组测试中，测试了在含有lwt%过氧化氢的水溶液中TMAH和氨的各种组合 中Mo/IGZO选择性，如下表3所示。在这些测试中，发现用与实施例编号4相同的蚀刻剂获得 最好的选择性，其中分别地，零TMAH样品对应于如上表1中的实施例编号1且0.TMAH样品 对应于实施例编号6。
[0074] 表3:Mo/IGZ0蚀刻选择性
[0075]
[0076] 在第三组测试中，测定了季铵和氨对于Mo蚀刻速率的影响。对于这些测试，厚度为 200nm的Mo层被溅射到硅晶片上，并且通过测量在40 °C (表4)和20 °C (表5和6)蚀刻后的薄层 电阻率来评价Mo蚀刻。首先只使用氨水和过氧化氢(如以下表4-5所示），然后使用TMAH水溶 液和过氧化氢(如以下表6所示），获得以下结果。
[0077] 表4:在40 °C下的NH3水溶液和不同的过氧化物
[0078]
[0079] 如表4所示，只需10秒之后，用H2O2的样品的薄层电阻率为约60 Ω/sq，这对应于几 乎完全蚀刻的层。没有H202的溶液显示没有薄层电阻率的变化，因此认为这些层在该蚀刻时 间内完全没有被蚀刻。
[0080]表5:在20 °C下具有不同的过氧化物的NH3水溶液
[0081]
[0082] 如表5所示，在20 °C下Mo蚀刻速率可以定性确定，除了具有5wt %过氧化氢的溶液， 因为该层在10秒后被完全蚀刻。结果表明，增加 H202浓度增大了Mo蚀刻速率，正如人们当添 加氧化剂时基于氧化剂强度增大所预料的。
[0083] 表6:在20°C下的TMAH和过氧化物水溶液
[0085]表6的结果表明，增加 H202浓度增大了Mo蚀刻速率，正如人们当添加氧化剂时基于 氧化剂强度增大所预料的。比较NH3和TMAH溶液，NH3溶液具有更高的Mo蚀刻速率。
[0086]在第四组试验中，测试了许多不同的氢氧化季铵以确定在两个不同的氢氧化季铵 浓度下Mo蚀刻速率。对于这些测试，厚度为200nm的Mo层被溅射到硅晶片上，并且通过测量 在20°C蚀刻后的薄层电阻率来评价Mo蚀刻。获得以下结果，如表7-8所示。
[0087] 表7.不同季铵对Mo蚀刻速率的影响
[0088]
[0089] TMAH=四甲基氢氧化铵
[0090] TEAH=四乙基氢氧化铵
[0091] DMDP =二甲基二丙基氢氧化铵
[0092] BnTMAH=苄基三甲基氢氧化铵
[0093] 金刚烷基ΤΜΑΗ=金刚烷基三甲基氢氧化铵
[0094] ΕΤΜΑΗ=乙基三甲基氢氧化铵
[0095] 如表7所示，在0.1M的Q0H，7wt%的NH3和lwt%的H2〇2下，Mo的蚀刻速率不受季铵阳 离子分子结构的影响，其在所有情况下均较高。
[0096] 表8.不同季铵对于Mo蚀刻速率的影响
[0097]
[0098] 如表8所示，在0.5M的Q0H，7wt%的NH3和lwt%的H2O2下，Mo的蚀刻速率受季铵阳离 子分子结构的影响，
[0099]在另一组测试中，在Mo蚀刻中，测试了具有不同浓度的氢氧化物和氨的两个额外 氢氧化季铵。结果示于表9。
[0100] 表9.不同季铵和不同氨浓度对于Mo蚀刻速率的影响
[0101]
[0102] TBAH=四丁基氢氧化铵
[0103] 胆碱0H=三甲基乙醇氢氧化铵
[0104] 如表9所示，用0.10氢氧化季铵，7wt %的氨和lwt %的过氧化氢获得最高的Mo蚀刻 速率。如用其他测试所观察到的，Mo蚀刻速率与这些浓度下的阳离子无关，但是较高的氢氧 化季铵浓度或较低的氨浓度降低Mo蚀刻速率。
[0105] 在另一组测试中，用0.1M的TMAH，lwt %的过氧化氢和0或7wt%的氨测定了铜的蚀 刻速率。所得到的结果示于表10。
[0106] 表10.铜蚀刻速率
[0107]
[0108]如表10所示，在用含有7wt %的NH3溶液时Cu蚀刻非常快。蚀刻速率如此之快，使得 200nm厚的Cu层在几秒钟内被完全蚀刻。
[0109] 在另一组测试中，用0.1M的TMAH，lwt%的过氧化氢和0或7wt%的氨测定了铝的蚀 刻速率。所得到的结果示于表11。
[0110] 表11.铝的蚀刻速率
[0111]
[0112] 如表11所示，A1的蚀刻速率随着更高浓度的TMAH而增加。在0. lg的TMAH下，NH3的 添加增加了蚀刻速率，而在0.50的TMAH下，A1的蚀刻速率不受NH 3浓度的影响。这表明，在 0.50的TMAH下，蚀刻速率是依赖于还原速率并且氧化速率不限制总的蚀刻速率。在0.1.其 显示是完全相反的，其中添加已知为良好络合剂的NH 3可能增加氧化速率，因此是依赖于氧 化速率的。
[0113] 在另一组测试中，使用0或0 · 10的TMAH，16 · 67或6 ·67wt%的过氧化氢和6 ·44wt% 的氨来测定钛的蚀刻速率。所得结果示于表12。
[0114] 表12. Ti的蚀刻速率
[0115]
[0116] 如表12所示，在较高浓度的过氧化氢下在无氢氧化季铵存在时，Ti的蚀刻速率实 际上更高，并且当过氧化氢浓度较低时，Ti的蚀刻速率在有或没有氢氧化季铵下是相同的。 然而，考虑到已证明氢氧化季铵的存在对于IGZ0有保护作用，显示出钛可以有效地并选择 性地被蚀刻掉，并且当蚀刻和除去IGZ0上的Ti层时，可以得到本发明所示的选择性。
[0117]虽然已通过某些特定实施方式对本发明的原理进行了解释，并为说明的目的提供 了这些特定实施方式，但应该理解，其各种修改在本领域技术人员阅读说明书后将显而易 见。因此，应该理解，本文所公开的发明旨在涵盖落入所附权利要求书中的此类修改。本发 明的范围仅由权利要求书的范围来限定。
【主权项】
1. 一种用于相对于氧化物半导体膜选择性地蚀刻钼或钛的方法，其包括： 提供基板，该基板包括氧化物半导体层和在该氧化物半导体层上的包含钼或钛的层； 通过施加光致抗蚀剂层至所述包含钼或钛的层上，然后使所述光致抗蚀剂层形成图案 并展开，以形成所述包含钼或钛的层的暴露部分来制备所述基板； 提供包含氨或氢氧化铵、氢氧化季铵和过氧化物的组合物;并且 将所述组合物施加至所述暴露部分，持续足以蚀刻和去除所述包含钼或钛的层的暴露 部分的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体选择性地去除钼或钛。2. 根据权利要求1所述的方法，其中所述选择性蚀刻基本上去除所述包含钼或钛的层 的所有暴露部分，且基本上不去除所述氧化物半导体层。3. 根据前述权利要求任一项所述的方法，其中所述选择性蚀刻表现出至少6:1的金属/ 氧化物半导体选择性。4. 根据前述权利要求任一项所述的方法，其中所述组合物包含： 2-10wt% 的氨； 0.01-0.50的氢氧化季铵;和 0.1-7wt%的过氧化氢。5. 根据前述权利要求任一项所述的方法，其中所述氧化物半导体包括IGZO或ITZO。6. 根据前述权利要求任一项所述的方法，其中所述包含钼或钛的层还包括在所述氧化 物半导体层上的钼或钛层上的铝层或铜层。7. 根据权利要求6所述的方法，其中所述包含钼或钛的层还包括在所述铝层或所述铜 层上的钼或钛的第二层，形成Mo/Al/Mo夹层，Mo/Cu/Mo夹层、Ti/Al/Ti夹层或Ti/Cu/Ti夹 层。8. -种用于形成晶体管的方法，其包括： 形成氧化物半导体的通道层； 在所述通道层上沉积包含钼或钛的源极/漏极层； 将光致抗蚀剂层施加至包含钼或钛的层，然后使所述光致抗蚀剂层形成图案并展开， 以形成所述包含钼或钛的层的暴露部分； 提供包含氨或氢氧化铵、氢氧化季铵和过氧化物的组合物;和 将所述组合物施加至所述暴露部分，持续足以蚀刻和去除所述包含钼或钛的层的暴露 部分的时间，其中所述蚀刻相对于所述氧化物半导体选择性地去除钼或钛，以形成晶体管 的源极和漏极。9. 根据权利要求8所述的方法，其中所述选择性蚀刻基本上去除所述包含钼或钛的层 的所有暴露部分，且基本上不去除氧化物半导体层。10. 根据权利要求8-9中任一项所述的方法，其中所述选择性蚀刻表现出至少6:1的金 属/氧化物半导体选择性。11. 根据权利要求8-10中任一项所述的方法，其中所述组合物包含： 2-10wt% 的氨； 0.01-0.50的氢氧化季铵;和 0.1-7wt%的过氧化氢。12. 根据权利要求8-11中任一项所述的方法，其中所述氧化物半导体包括IGZO或ΙΤΖ0。13. 根据权利要求8-12中任一项所述的方法，其中所述包含钼或钛的层还包括在氧化 物半导体层上的钼或钛层上的铝层或铜层。14. 根据权利要求13所述的方法，其中所述包含钼或钛的层还包括在所述铝层或铜层 上的钼或钛的第二层，形成Mo/Al/Mo夹层、Mo/Cu/Mo夹层、Ti/Al/Ti夹层或Ti/Cu/Ti夹层。
【文档编号】C23F1/38GK105899713SQ201580004409
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2015年1月13日
【发明人】P·韦尔默朗, C·艾伦
【申请人】塞克姆公司