蒸发源的利记博彩app
【技术领域】
[0001]本发明涉及蒸发源。
【背景技术】
[0002]在蒸镀装置中，需要在蒸镀时使坩祸内的蒸镀材料的温度分布均匀。这是因为在蒸镀材料的蒸发量和温度之间存在相关关系。
[0003]这里，要使坩祸内的蒸镀材料的温度分布均匀，需要使坩祸的温度分布均匀。这是因为坩祸内的蒸镀材料接受来自坩祸的热传递和辐射。
[0004]S卩，为了使蒸镀材料的蒸发量均匀，需要使坩祸的温度分布均匀，尤其重要的是使坩祸的蒸镀材料附近部分的温度分布均匀化。
[0005]另外，作为坩祸的温度分布不良的主要原因，可以举出坩祸与其它部件接触的情况。例如，在设置坩祸时，若坩祸底面与蒸发源支架或绝缘子接触，则只有接触部温度下降。此外，接触热阻根据与蒸发源保持器或绝缘子的接触状态而发生变化，因此温度产生各种变化。
[0006]因此，为了解决上述问题点，提出了例如在专利文献I中公开的技术。在该专利文献I中公开的技术如下:在收纳于被加热的外壳内的坩祸的底面设置脚部，来在坩祸的底面和外壳的底面之间设置间隔，由此减缓接触所导致的热变动。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1:日本专利第4696710号公报
【发明内容】
[0010]发明所要解决的课题
[0011]然而，在上述专利文献I中，脚部设于蒸镀材料的正下方，因此认为坩祸的脚部附近通过经由脚部的热传递而被局部地加热，与其它部位相比，脚部附近的蒸镀材料的蒸发量增加。
[0012]因此，即便设置脚部的位置是坩祸端部，如果局部的蒸发量增加，则来自端部附近开口的蒸镀材料喷出量增加，从而在膜厚分布方面产生波动。
[0013]本发明是鉴于上述现状而完成的，其目的在于提供一种蒸发源，其通过以坩祸的外侧面上比蒸镀材料的填充面高的位置支承坩祸，而能够将坩祸在坩祸的外底面与收纳体的内底面分开的状态下收纳并配置在收纳体内，并且能够使坩祸的与收纳体的接触部位于远离蒸镀材料的位置，从而接触所导致的热变动的影响难以波及蒸镀材料，能够使蒸镀材料的温度分布均匀化，能够实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。
[0014]用于解决课题的手段
[0015]参照附图对本发明的要点进行说明。
[0016]本发明涉及一种蒸发源，其由如下部分构成:坩祸2，其中可填充蒸镀材料I ;加热部3，其被设成包围该坩祸2 ;和收纳体4，其收纳并配置所述坩祸2和所述加热部3，其特征在于，该蒸发源的构成为，在所述坩祸2的外侧面上比所述蒸镀材料I的填充面Ia高且比坩祸2的开口位置低的位置设置坩祸承载部5，利用设于所述收纳体4的内侧的坩祸支持部6支承所述坩祸承载部5，能够在所述坩祸2的外底面与所述收纳体4的内底面分开的状态下将所述坩祸2收纳并配置于所述收纳体4内。
[0017]并且，根据第I方面所述的蒸发源，其特征在于，所述坩祸承载部5和所述坩祸支承部6的接触点设成比所述加热部3更靠坩祸2侦U。
[0018]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，沿长度方向设有两个以上的供蒸镀材料I通过的开口部7。
[0019]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，分别设有两个以上的所述坩祸承载部5和所述坩祸支承部6。
[0020]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源的构成为，由所述加热部3对所述坩祸承载部5和所述坩祸支承部6进行加热。
[0021]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，在所述坩祸2的外侧面设有朝向所述收纳体4的内侧面突出的突出部8，在该突出部8处设有所述坩祸承载部5。
[0022]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述坩祸2以使两个以上的分割体2a、2b彼此相互抵接的方式形成，在该分割体2a、2b彼此的抵接部处设有密封部件9。
[0023]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸发源具备针对所述坩祸承载部5和所述坩祸支承部6的温度调节机构。
[0024]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，所述坩祸支承部6是所述加热部3。
[0025]并且，根据第I或2方面所述的蒸发源，其特征在于，在所述收纳体4和所述加热部3之间设有热反射部件。
[0026]发明效果
[0027]本发明如上述那样构成，由此形成蒸发源，该蒸发源使接触导致的热变动的影响难以波及蒸镀材料，能够使蒸镀材料的温度分布均匀化，能够实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。
【附图说明】
[0028]图1是实施例1的示意性剖视图。
[0029]图2是实施例1的主要部分的示意性立体图。
[0030]图3是实施例2的示意性横剖视图。
[0031]图4是实施例2的主要部分的示意性立体图。
[0032]图5是实施例2的其它例的示意性横剖视图。
[0033]图6是实施例2的其它例的主要部分的示意性立体图。
【具体实施方式】
[0034]基于附图，示出本发明的作用，并简单说明据认为是优选的本发明的实施方式。
[0035]利用加热部3加热坩祸2使蒸镀材料I蒸发，来对基板等被蒸镀物进行蒸镀。
[0036]此时，坩祸2的外底面不与收纳坩祸2的收纳体4的内底面接触，且坩祸承载部5设于比蒸镀材料I的填充面Ia高的位置，因此能够尽可能地减小坩祸2的收纳体4与蒸镀材料I的接触所导致的热变动的影响。
[0037]S卩，在坩祸2和收纳体4的接触部处因热传递而产生局部的热变动，但由于以比蒸镀材料I的填充高度高且远离蒸镀材料I的位置支承坩祸2，所以能够尽可能减小该热变动对蒸镀材料I的蒸发量造成的影响。
[0038]因此，本发明能够利用加热部3使坩祸2的温度分布均匀从而使填充在坩祸2中的蒸镀材料I的温度分布均匀，实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。
[0039]并且，例如，在沿长度方向设置两个以上的供蒸镀材料I通过的开口部7的线形蒸发源(即所谓的线性源(line source))的情况下，蒸镀材料I的蒸发量变得均匀且与坩祸2内的位置无关，因此能够以均匀的膜厚分布形成膜。
[0040]并且，坩祸承载部5和坩祸支承部6位于比开口低的位置，因此能够避免来自蒸镀材料I的污染。
[0041]实施例1
[0042]基于图1、2对本发明的具体实施例1进行说明。
[0043]实施例1为一种蒸发源，其由如下部分构成:坩祸2，其可填充蒸镀材料I ;加热部3，其被设成包围该坩祸2 ;和收纳体4，其收纳并配置所述坩祸2和所述加热部3，该蒸发源的构成为，在所述坩祸2的外侧面上比所述蒸镀材料I的填充面Ia高且比坩祸2的开口位置低的位置设置坩祸承载部5，利用设于所述收纳体4的内侧的坩祸支承部6支承所述坩祸承载部5，能够将所述坩祸2在所述坩祸2的外底面与所述收纳体4的内底面分开的状态下收纳并配置于所述收纳体4内。
[0044]具体地，如图1、2所示，实施例1是具有筒状的坩祸2的蒸发源，在具备排气机构的真空槽内，设成与基板等被蒸镀物对置的状态。
[0045]具体对各部分进行说明。
[0046]坩祸2为钛制，在其上端面设有圆形的开口部7。另外，不限于钛，也可以使用钽、钼或钨等其它材料。
[0047]并且，实施例1的坩祸2以将上下分割开的分割体2a、2b抵接连结的方式构成。具体地，在分割体2a、2b上分别设置外螺纹部和内螺纹部，并使它们螺合连结。从而，在要将蒸镀材料I填充到坩祸2时，使分割体2a、2b分离，可以在不经由开口部7的条件下向坩祸2的底部直接填充蒸镀材料I。
[0048]另外，蒸镀材料I一般是粉状体或粒状体，在实施例1中，将向坩祸2填充该蒸镀材料I时的露出面(上端面)作为填充面la。
[0049]收纳体4是不锈钢制的在上部有开口的筒状体，在内侧面突出设置有坩祸支承部
6。另外，不限于不锈钢制，也可以是铝制。
[0050]坩祸支承部6是方棒