专利名称：一种多用途真空镀膜机的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种旋转磁控柱状弧源-柱状磁控溅射源镀膜机。属于等离子体气相沉积领域。既能用于表面镀纯金属膜，也可以用于镀氮化钛等化合物膜，是一种多用途的真空镀膜机。
真空镀膜机的种类很多，与柱状镀膜源相关的镀膜机有以下几种类型单独安装柱状磁控溅射源(简称柱状靶)的镀膜机、单独安装旋转磁控柱状弧源(简称柱弧源)的镀膜机。也有在镀膜室壁上安装平面弧源，镀膜室中央安装柱状靶的镀膜机、在镀膜室壁上安装平面弧源，镀膜室中央安装柱状弧源的镀膜机、还有在镀膜室壁上安装平面磁控溅射靶，在镀膜室中央安装柱弧源的镀膜机。尚没有在一台镀膜机中既能安装柱状靶又能安装柱弧源的多用途镀膜机。
本实用新型公开了一种旋转磁控柱状弧源-旋转磁控柱状磁控溅射源镀膜机。其特征是在一台镀膜机中既可以安装旋转磁控柱状弧源又可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源。可以单独使用柱状弧源镀氮化钛等化合物涂层，又可以单独使用柱状靶在塑料等低温基材上镀纯金属膜。本实用新型是一种多用途镀膜机，克服了单独安装柱弧源或单独安装柱状靶的镀膜机只能镀氮化钛膜或者只能镀纯金属膜的不足。
本实用新型是这样实现的，在镀膜室的中央可以安装旋转磁控柱状弧源，也可以安装旋转磁控柱状磁控溅射靶。当厂家承接了镀氮化钛膜的任务时将柱弧源安装在镀膜室的中央，用所配的弧电源产生冷场致弧光放电，工件在弧光放电等离子体条件下反应镀氮化钛膜，由于弧光放电等离子体密度高，很容易得到绚丽的仿金色泽，镀膜工艺简便。当接到在塑料等低温基材上镀纯金属膜的任务时，可以将柱弧源拆下换上柱状靶，用所配的磁控溅射电源产生辉光放电，工件在辉放电等离子体条件下镀纯金属膜。由于辉光放电等离子体密度低，镀氮化钛的工艺难度大。但是，被氩离子溅射下来的膜层粒子的能量低，不易使零件升温。适于在承受温度低的零件上镀膜。因此，本实用新型是一种多用途的镀膜机，对于镀膜生产厂家扩大生产范围是非常有利的。
本实用新型的另一个特征是在柱弧源或柱状靶的管状靶材中均安装条形永磁体，永磁体在靶管中做旋转运动，在靶管表面的弧斑轨迹或辉光放电轨迹呈直线状或曲线状。靶面刻蚀均匀，靶材利用率高。
图1是本实用新型的实施例简图。由旋转磁控柱状弧源(1)、弧源电源(2)、工件转架(3)、烘烤加热源(4)、镀膜室(5)、真空系统(6)、引弧针(7)、工件偏压电源(8)、进气系统(9)和旋转磁控柱状磁控溅射靶(Ⅰ)及靶电源(Ⅱ)组成。
下面结合镀膜过程对本实用新型做进一步说明。
镀氮化钛膜工件清洗、安装后开启真空机组抽真空，对工件进行烘烤加热、氩离子轰击净化，引燃旋转磁控柱状弧源，通入氮气，施加一定的工件偏压后在工件表面沉积氮化钛膜层。获得预定的膜厚之后停弧源及气源、工件旋转机构等。
在塑料零件上镀纯金属膜工件喷底漆并烘干后安装在镀膜室中，开启真空机组抽真空，通入氩气，开启旋转磁控柱状磁控溅射靶镀铝等塑料金属化膜。获得预定膜厚之后，停柱状磁控靶及气源、工件旋转机构等。
权利要求1．一种多用途真空镀膜机，其特征是在一台镀膜机中既可以安装旋转磁控柱状弧源又可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源，可以单独使用柱孤源镀氮化钛等化合物涂层，又可以单独使用旋转磁控柱状磁控溅射源镀纯金属膜，在柱弧源和柱状靶中均安装条形永磁体，永磁体在靶管中做旋转运动，靶管表面上的弧斑轨迹或辉光放电轨迹呈直线状或曲线状。
2．如权利要求1所述的一种多用途真空镀膜机，其特征是在一台镀膜机中既可以安装旋转磁控柱状弧源又可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源。
3．如权利要求1所述的一种多用途镀膜机，其特征是可以单独使用柱弧源镀氮化钛等化合物涂层或单独使用柱状靶镀纯金属膜。
4．如权利要求1所述的一种多用途真空镀膜机，其特征是柱状弧源或柱状靶的靶管中均安装条形永磁体，永磁体在靶管中做旋转运动，在靶管表面上的弧斑轨迹或辉光放电轨迹呈直线形或曲线形。
专利摘要本实用新型公开了一种多用途真空镀膜机。在镀膜室中央可以安装旋转磁控柱状弧源,用于镀氮化钛等化合物膜,也可以安装旋转磁控柱状磁控溅射源,用于在低熔点基材上镀纯金属膜。是一种多用途真空镀膜机。在柱弧源和柱状靶的靶管中安装的条形永磁体做旋转运动,在靶管表面的弧斑轨迹或辉光放电轨迹呈直线形或曲线形。
文档编号C23C14/35GK2305408SQ97225988
公开日1999年1月27日 申请日期1997年9月22日 优先权日1997年9月22日
发明者王福贞 申请人:王福贞