本发明属于陶瓷层制备技术领域，特别是一种tin涂层的制备方法。
背景技术：
等离子喷涂是一种应用广泛的材料表面强化和表面改性技术，可以使基体表面具有耐磨、耐蚀、耐高温氧化、隔热、减磨等性能。但是，等离子喷涂涂层在形成过程中，部分颗粒不能完全熔化，容易在涂层中夹杂生粉，难以制备出具有陶瓷固有性能的涂层，陶瓷材料优良的耐磨、耐蚀性能得不到充分发挥。等离子喷涂制备的tin涂层较为粗糙，涂层中的孔洞较大且多，涂层性能大大降低；且涂层中残留不同程度的ti粉，使tin涂层本身所具备的高硬度、高耐磨性等性能无法表现出来。在制备过程中涂层的沉淀速率低，涂层与基体的结合性能较差，并且制备设备昂贵，增加了tin涂层的制备成本，制约着tin的应用。
反应等离子喷涂所用粉末为高放热反应体系，喷涂时，粉末在飞行过程中与反应气体发生反应，反应产物颗粒沉积到基体上形成涂层。所得涂层呈典型的层状组织结构，涂层由硬质相原位合成，合成反应热与等离子弧热叠加，有利于熔点高的硬质相的熔化，但目前还没有发现应用反应等离子喷涂方法来进行tin涂层的制备。
技术实现要素：
本发明的目的是针对现有技术的不足，而提出一种tin涂层的制备方法。
本发明解决其技术问题是采取以下技术方案实现的：
一种tin涂层的制备方法，包含步骤如下：
(1)基体材料预处理，将基体材料用砂纸打磨，除去铁锈、油污，提高试样表面的粗糙度；
(2)在预处理后的基体材料上喷涂al/ni粉末，制备nial粘接底层，所述nial粘结底层制备参数为：ar离子气体流量50～100l/min，n2离子气体流量20～50l/min，送粉气体流量0.5m3/h，电弧功率28～40kw，电流350～500a，喷涂距离100～150mm；
(3)采用反应等离子喷涂ti粉制备tin涂层，所述tin涂层的制备参数为：ar离子气体流量40～60l/min，n2离子气体流量40～60l/min，送粉气体流量3～5m3/h，电弧功率28～40kw，电流350～500a，喷涂距离80～120mm。
而且，基体材料为碳钢或者不锈钢。
而且，nial粘结底层的厚度为100～150um。
而且，ti粉的粒度为30～40um，tin涂层的厚度为100～300um。
而且，所述步骤(2)、(3)中送粉气体为n2。
本发明的优点和积极效果是：
1、本发明采用反应等离子喷涂制备tin涂层的成本低，工艺参数可控；
2、本发明通过控制喷涂参数可以得到不同厚度的tin涂层；
3、本发明所得tin涂层致密、性能优良。
具体实施方式
以下对本发明实施例做进一步详述：需要强调的是，本发明所述的实施例是说明性的，而不是限定性的，因此本发明并不限于具体实施方式中所述的实施例，凡是由本领域技术人员根据本发明的技术方案得出的其它实施方式，同样属于本发明保护的范围。
实施例一：
一种tin涂层的制备方法，包含如下步骤：
(1)基体材料预处理，将45#切成10mm×10mm×12mm的试样，用砂纸打磨，除去铁锈、油污，提高试样表面的粗糙度。
(2)在预处理后的基体试样上喷涂al/ni粉末，制备nial粘接底层。
其中，所述nial粘结底层制备参数为：ar离子气体流量80l/min，n2离子气体流量30l/min，送粉气体n2的流量0.5m3/h，电弧功率28kw，电流350a，喷涂距离120mm。
所述nial粘结底层的厚度为100um。
(3)采用反应等离子喷涂ti粉制备tin涂层。
所述tin涂层的制备参数为：ar离子气体流量50l/min，n2离子气体流量50l/min，送粉气体n2的流量3m3/h，电弧功率28kw，电流350a，喷涂距离100mm。
所述ti粉的粒度为30um，所述tin涂层的厚度为100um。
实施例二：
一种tin涂层的制备方法，包含如下步骤：
(1)基体材料预处理，将45#切成10mm×10mm×12mm的试样，用砂纸打磨，除去铁锈、油污，提高试样表面的粗糙度。
(2)在预处理后的基体试样上喷涂al/ni粉末，制备nial粘接底层。
其中，所述nial粘结底层制备参数为：ar离子气体流量100l/min，n2离子气体流量50l/min，送粉气体n2的流量0.5m3/h，电弧功率40kw，电流500a，喷涂距离100mm。
所述nial粘结底层的厚度为150um。
(3)制备tin涂层，采用反应等离子喷涂复合粉制备tin涂层。
所述tin涂层的制备参数为：ar离子气体流量60l/min，n2离子气体流量60l/min，送粉气体n2的流量5m3/h，电弧功率40kw，电流500a，喷涂距离80mm。
所述ti粉的粒度为40um，所述tin涂层厚度为300um。