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【专利摘要】一种设备，具有至少一个导电的第一接触板(11)和至少一个导电的第二接触板(12)和分别具备电阻加热机构(1.3至9.3)的加热件(1至9)，所述电阻加热机构(1.3至9.3)借助第一连接触头(1.1至9.1)与所述第一接触板(11)相连接并且借助第二连接触头(1.2至9.2)与所述第二接触板(12)相连接。为了延长所述设备的使用寿命并减少制造成本，在此建议，所述两个接触板(11、12)位于共同的第一平面(E1)内。
【专利说明】加热设备
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种设备，具有至少一个导电的第一接触板和至少一个导电的第二接触板和分别具备电阻加热机构的加热件的，所述电阻加热机构借助第一连接触头与所述第一接触板相连接并且借助第二连接触头与所述第二接触板相连接。
【背景技术】
[0002]用于加热CVD(化学气相沉积)反应器的基座的设备由现有技术、例如DE 10 2009043 960 AU DE 10 2007 009 145 AU DE 103 29 107 AU DE 102005 056 536 AU DE 102006 018 515 Al 或 DE 10 2007 027 704 Al 已知。
[0003]在已知的加热件中，热量由流过电阻加热机构的电流产生。电阻加热机构具有第一和第二端部，在这些端部上设有第一和第二连接触头。连接触头相互平行地延伸，但是具有不同的长度。第一、较短的连接触头与第一接触板相连接，该接触板由导电材料制成。但是，在第一接触板的平行面内，第二电气接触板与电阻加热机构有较大间距地延伸。两个电气接触板一定程度上相叠地延伸。较长的第二连接触头穿过第一接触板的开口，并且由此与第二接触板相连接。被第二连接触头穿过的开口比第二连接触头的直径要大，因而在开口的边缘和第二连接触头之间存在间距。这种间距自由空间影响第二连接触头与第一接触板的绝缘性。在加热和冷却加热件的属于现有技术的电阻加热机构时会导致巨大的热应力。这种机械应力能够导致接触板不可逆的变形。这会导致，在长时间使用后和尤其在多次加热和冷却后，在第二连接触头和导电的第一接触板的开口之间形成短路。随后，理论上这会导致整个加热件的毁坏。在此，在使用所述设备时，通过金属的挥发还能够污染CVD反应器的处理室。
实用新型内容
[0004]本实用新型所要解决的技术问题在于，在减少制造费用的情况下延长设备的使用寿命。
[0005]根据本实用新型，所述两个接触板处于共同的平面内。接触板可以具有齿形相互咬合的凸起。在接触板之间、尤其在凸起之间可以设置用于绝缘的间隔自由空间。但是，还可以设定，两个接触板通过不导电的、尤其陶瓷的间隔件永久地相互绝缘。根据本实用新型的改进方案还具有这样的优点，即两个连接触头能够是相同长度。所述一个或多个电阻加热机构可以位于共同的平面内。这些电阻加热机构能够沿着圆弧线或者沿着一条或多条螺旋线安置。优选第一连接触头位于由两个接触板构成的、具有圆形轮廓的接触板装置的中央，该第一连接触头优选配属于中央加热件。中央加热件具有在螺旋弧形上延伸的加热机构。中央加热件构成加热设备最内侧的加热区域。在中央加热件的加热机构上连接着多个分别优选在至少180°上延伸的外侧加热件的加热机构。但是，优选全部加热机构中的多数设在共同的、多次绕着中心弯曲的螺旋弧线上。两个在螺旋弧线上相继设置的加热件的直接并排安置的连接触头配属于共同的接触板。由此，大量加热件、例如新加热件连接技术上并联连接。各个加热件的加热功率可以通过它的加热机构的长度来确定。如果加热件相应地提供相同的加热功率，则设定，各个加热件的加热机构的圆弧长度基本相同。因此尤其可以设定，加热设备的各个加热件具有配备基本相同圆弧长度的加热机构。这一方面提高了设备的使用寿命，并且另一方面降低了制造成本。在本实用新型的改进方案中设定，连接触头沿着共同的第一平面的面法线方向突出。因此，连接触头沿着第二平面的方向突出，电阻加热机构位于第二平面内。这种平面构成加热面，接触板的平面与该加热面相隔。在加热面和接触板的平面之间可以设置支撑板。该支撑板能够具有与加热机构相连接的支撑件。由此将加热机构相互相对地固持在位置上。支撑件可以具有基本上Y型的结构。借助两个Y型侧边固持加热机构。优选具有圆形截面的加热机构位于两个Y型侧边之间。Y型支杆与支撑板固定连接。支撑件可以由板件冲压而成，并且形状接合地插入支撑板相应的开口中。每个支撑件可以具有两个相互平行延伸的臂，在这两个臂之间固持有圆形截面的加热机构。相对于设备的中心向外指向的臂可以比向内指向的臂更长。总体上支撑件具有叉形的结构，其中，自由空间的底部在加热机构的轮廓的两个叉尖之间适配。但是，支撑件还可以设计为j型。此外规定，支撑件只具有一个臂。加热件通过一条或多条金属线可以与支撑件相连接。支撑板由不导电的材料制成。支撑件可由金属构成。但是，支撑板也可以由金属制成，并且起到屏蔽板的作用。该支撑板朝向加热件的表面可反射热量。导电的支撑件可以通过绝缘体与支撑板相连接。加热件优选由钨或者钨合金制成。每个加热件可以由加热丝组成。该加热丝是绕着加热件的圆弧形延伸方向的螺旋式卷绕的金属线。优选两个并排延伸的钨丝是电气并联的。两条加热丝盘绕成双股加热丝。但是，还可以安置总体上螺旋形的多于两条的加热丝，以便提供具有三股加热丝的加热件。
[0006]此外，还可以设置盖板。这可以直接设置在接触板的上方，并且设置在加热面和接触板的平面之间的间隔空间内。盖板具有开口，连接触头穿过该开口。该盖板由不导电的材料构成。尤其当多个不同的加热机构被相互隔离通电时，可以设置多于两个的接触板，从而能够使得设备的不同区域被加热到不同的温度。加热设备尤其是CVD反应器的组件。CVD反应器具有反应器壳体和安置于其内的进气机构，借助进气机构能够将处理气体导入处理室内。处理室具有由基座构成的底部，在该基座上安置一个或多个基板，该基板通过导入的处理气体被覆层。之前所述的加热件用于将处理室或基座加热到处理温度。加热件如此安置在基座的下方，使得设置的加热面平行于支承着基板的上侧面或平行于基座的下侧面。连接触头在接触板的平面内的优化布置可以使每个接触板具有凸起，该凸起嵌入相应其它接触板的凹处内。因此，接触板相互齿形地咬合。由此构成的接触凸起支承连接触头。CVD设备的基座优选借助具有多个加热区域的加热器来加热。每个加热区域优选由配属于该区域的加热设备构成。根据本实用新型的变型方案的设备具有多个加热设备，其中，中央加热设备被至少一个、优选三个或多个加热设备所包围。中央加热设备优选具有圆形轮廓。另外的围绕中央加热设备的径向外侧的加热设备具有环形轮廓。其它外侧加热设备可以同样具有环形轮廓。至少一个径向外侧加热设备优选具有两个接触板，它们被安置在共同的平面内，并且相互间且相对于其余加热装置的接触板被电流隔离。至少两个加热设备可以相互隔离地通电。两个加热设备的加热件可以同样处于相同的平面内。在本实用新型的变型方案中设置最外侧的加热设备，其中接触板在第一平面内，第二接触板在第二平面内。所述平面相互间隔。径向最外侧的加热设备可以具有一个或多个加热件，这些加热件在平面上方，内侧加热设备或至少一个中央加热设备的加热件处于所述平面内。径向最外侧的加热设备的加热件可以如此紧密地并排设置，使得它们相互接触。对于径向最外侧的加热设备尤其规定，支撑件同时支撑多个加热件。并排延伸的加热件被支撑件在多个位置上支承。如果支撑件由金属构成，则加热件也在多个位置上通过支撑件相互电气连接。设置连接件，其尤其在空间上配属有绝缘件。连接件能够使接触板与盖板或支撑板相连接。优选将连接件与接触板形状接合地连接。用于导电的接触销可以从接触板中突出。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]以下结合附图对本实用新型的实施例进行说明。在附图中:
[0008]图1示出CVD反应器的结构示意图，
[0009]图2示出第一实施例的根据本实用新型的加热设备的俯视图，
[0010]图3示出图2所示加热设备的侧视图，
[0011]图4示出加热设备的底面图，
[0012]图5示出加热设备的立体图，
[0013]图6示出沿图5中剖切钱V1-VI剖切所得的剖面图，
[0014]图7示出沿图2中剖切钱VI1-VII剖切所得的剖面图，
[0015]图8示出第二实施例的加热设备的俯视图，
[0016]图9示出沿图8中箭头IX观察所得的侧视图，
[0017]图10示出在图8的俯视图所示实施例中的仰视图，
[0018]图11示出根据图10中剖切线X1-XI剖切所得的三维视图，
[0019]图12示出根据本实用新型的第三实施例的俯视图，
[0020]图13示出根据图12中的箭头XIII观察所得的侧视图，
[0021]图14示出图12所示实施例的俯视图的仰视图，
[0022]图15示出按图14中剖切线XV-XV剖切所得的剖面图，
[0023]图16示出按图14中剖切线XV-XV剖切所得剖面的三维视图，
[0024]图17示出根据本实用新型的第四实施例的俯视图，
[0025]图18示出沿图17的箭头XVIII观察所得的侧视图，
[0026]图19示出沿图17的箭头XIX观察所得的另一侧视图，
[0027]图20示出根据图17的剖切线XX-XX剖切所得的剖面图，
[0028]图21示出根据图17的剖切线XX1-XXI剖切所得的剖面图，
[0029]图22示出根据图21的剖切线XXI1-XXII剖切所得的剖面图，
[0030]图23示出剖切连接件所得的三维视图，
[0031]图24示出三个加热设备合为多区域加热器的仰视图，
[0032]图25示出沿图24中剖切线XXV-XXV剖切所得的剖面图，
[0033]图26示出沿图25中剖切线XXV1-XXVI剖切所得的剖面图，
[0034]图27示出由两个绕着加热件的延伸方向螺旋弯曲地加热丝构成的加热件的示意图，
[0035]图28示出图24所示的多区域加热器的仰视图的俯视图，和
[0036]图29示出剖切加热设备所得的剖面图，用于表明在接触板的开口的圆锥形壁上的接触销的圆锥形贴靠面。
【具体实施方式】
[0037]如图1所示，根据本实用新型的加热设备优选是CVD反应器的组件。CVD反应器具有反应器壳体24，在反应器壳体24内设有进气机构22，通过该进气机构将处理气体导入安置在进气机构22下方的处理室23。处理室23的底部由支承待覆层的基板的基座21构成。在基座21下方设有具有多个加热区域的加热装置10。
[0038]在图1中仅示意性示出的加热设备10在图2至6中被详细地示出。
[0039]加热设备具有总共9个加热机构1.3至9.3。加热机构1.3至9.3被安置在平面E2内的螺旋线上。加热机构1.3至9.3具有基本上统一的长度。但是，当加热机构1.3至9.3需要提供不同的加热功率时，加热机构1.3至9.3的长度也能够是各自不同的。
[0040]每个截面呈圆形的加热机构1.3至9.3由加热件I至9构成。在示图中，将加热机构1.3至9.3表示为安置在螺旋弧形轨迹上的圆形体。这是加热机构1.3至9.3的结构设计的变型方案。但是，在本实用新型的优选设计方案中，加热件1.9至9.3分别由一根或多根丝线、即加热丝制成。一根或多根丝线是螺旋形状地绕着螺旋线的中心线卷绕，从而形成截面呈圆形的空心体，它的外壁由加热丝的缠绕构成。加热件I至9构成同轴的相互嵌套的加热区域。中心加热件9构成中心加热区域。大约在具有圆形轮廓的加热设备的中心设有加热件9的连接触头9.2。该连接触头9.2与接触板12相连接。另一个连接触头9.1径向地在中心外部与接触板11相连接。接触板11是第一接触板，其分别与加热件I至9的第一触头1.1、2.1,3.1,4.1,5.1,6.1,7.1,8.1,9.1相连接。相应的第二连接触头1.2、
2.2,3.2,4.2,5.2,6.2,7.2,8.2,9.2与第二接触板12相连接。第一接触板11和第二接触板12由导电材料、例如金属构成，并且导电地与相应的连接触头1.1至9.2相连接。
[0041]连接触头1.1至9.2沿着面的法线方向突出，即沿着垂直于接触板11、12的平面突出。第一连接触头1.1至9.1具有与第二连接触头1.2至9.2相同的长度。这会使得两个接触板11、12处于相同的平面El内。加热机构1.3至9.3在第二平面E2内，连接触头
1.1至9.1或1.2至9.2垂直地从加热机构1.3至9.3中突出。
[0042]由图2和图4可以看出，在优选实施例中两个连接触头总是成对地并排地设立。在此涉及的或者是与第一接触板11相连接的第一连接触头，或者是分别与第二接触板12相连接的第二连接触头。
[0043]两个接触板11、12通过绝缘间隙13相互间隔。绝缘间隙13足够的大，使得在加热设备加热和冷却时，接触板11、12可以轻微地移动，而不会使它们之间发生构成短路的碰触或者在绝缘间隙13上构成电弧。间隔缝隙13在弧形线上延伸。因此，构成舌形的接触凸起11’、12’，它们相应地嵌入相对地另一个接触板11、12的凹处。
[0044]加热件I可由金属构成。连接触头N.1或N.2与相应加热件的相应加热机构N.3材料相同地制造成型。每个连接触头N.1、N.2在其自由端部上具有支脚20，该支脚是可压缩的，并且支撑在接触板11、12上。从支脚20中突出的螺纹部段穿过接触板11、12的开口。在螺纹部段上旋入螺母16。
[0045]规定由不导电材料、例如陶瓷材料构成支撑板15，该支撑板位于在第一平面El和第二平面E2之间的间隔空间内。支撑板15直接位于加热机构N.3下方，并且借助大量的支撑件17与单个加热机构N.3相连接。因此，将加热机构N.3固持在螺旋线上。连接触头N.1和N.2穿过支撑板15的开口 19。
[0046]Y型支撑件可由金属构成。该Y型支撑件的Y型支杆插入支撑板15的固定开口中。两个Y型侧边向上突出。Y型侧边能够相互平行地突出。它们被容纳在加热机构之间。图7示出剖切支撑件所得的剖面图并且由此示出它的轮廓。在加热机构和支撑板15之间延伸的间隔板条固持着加热机构，形成与支撑板15的限定间距。由冲压件构成的支撑件17形状接合地插入支撑板15的开口内。加热机构I位于支撑件17的两个臂之间，其中，在加热机构I的轮廓的两个臂之间的自由空间是适配的。径向外侧的臂比径向内侧的臂要长。
[0047]设有由钥构成的盖板14，其直接位于在共同平面El内的接触板11、12上方。该盖板由不导电的材料，例如陶瓷材料制成，并且具有位于连接触头N.1、N.2的支脚20的高度上的开口 18。连接触头N.1和N.2被导引穿过开口 18。
[0048]在未示出的实施例中，设有多于两个的接触板11、12。在此可变地为不同的加热件I至9通电。在该实施例所示的加热设备中，加热件I至9的加热机构N.3相应并联地接通。由在基座21上的单独的径向区域输出的加热功率基本上与加热机构N.3的长度有关。
[0049]在实施例中，大量的加热件位于螺旋型的曲线上。但是，这些加热件也能够相互嵌套地位于圆弧形线上。此外，加热件还能够被安置在多个相互嵌套地螺旋线上。
[0050]在图2至7中示出的加热设备可以是多区域加热装置的中央加热设备。图8至11示出多区域加热装置的中央加热设备10的另一实施例。
[0051]加热设备具有大量的相继绕着圆形基础面的中央、安置在螺旋线上的加热件I至9。在该实施例中，单个加热件I至9不是全部延伸超过至少360°弧线。它们比第一实施例设计得更短。当然，在第二实施例中加热件的全部数量要多于在第一实施例中的数量。加热件I至9基本上以相同的间距并排设置，其中，在几个位置上在相互靠近延伸的加热件之间的间距自然要被扩大，因为在此设有贯穿相应接触板11、12的开口 28，通过该开口能够有推杆穿过，以便能够使得基座21被抬闻。
[0052]单个加热件I至9相应地由一根或两根加热丝38、39构成。如图27所示，该加热丝是呈螺旋型的。两根加热丝38、39以大致相同的间距在螺旋线上并排地沿着加热件的延伸方向延伸。
[0053]在图8至11所示的实施例中，全部加热件I至9位于共同的平面内，该平面平行于支撑板15延伸。但是还可规定，径向最外侧的加热件在比径向内侧的加热件在更低的水平面上延伸，即更靠近接触板11、12的平面。
[0054]加热件I至9被位于与支撑板15平行的平行面内的支撑件17所固持。支撑件17借助在支撑板内的支脚被固定。为此，设有形状接合件，其上下固持住支撑板15。
[0055]支撑板15与板14借助连接件27相连接。板14可由金属或者陶瓷制成。支撑板15优选由金属构成，并且因此凭借其反射作用具有抵抗热辐射的屏蔽功能。
[0056]板14通过绝缘的连接件与接触板11、12相连接。由此将接触板11、12相互间隔地固持，从而在接触板11、12之间形成缝隙13，该缝隙使得两个接触板11、12相互电绝缘。
[0057]多个接触销25从接触板11、12的后侧突出，能够将接触端子设置在该接触销上，以便将加热件I至8通电。全部的加热件I至9具有相同的弧长，即具有相同的欧姆电阻，并且被并联接通。
[0058]在图12至16中所示的实施例与之前所示实施例的基本区别在于基础面。在此，基础面在此同样是圆形的，但是在中央具有孔，该孔的大小如此确定，使得在图8至11中所示的实施例能够被置入中央的自由空间中。在图12至16中所示的加热设备26因此构成多区域加热器的加热区域。如果多区域加热器只是由两个加热设备组成，例如由图8至11所示的和图12至16所示的加热设备组成，则该加热设备构成两区域加热器的外部加热区域。
[0059]设有多个接触板11、12。在此涉及两个接触板11、12，它们通过缝隙13相互隔开。多个加热件I至9在一条螺旋线上绕着基础面的中央延伸。加热件I至9具有相同的长度，并且被并联接通。接触板11、12具有分别从接触板11、12的背侧突出的接触销25。这些接触销25与未示出的端子接触件相连接或者插入接触插座中，以便为接触板11、12单独地提供电能。加热设备26因此相对于加热设备19能够被独立地通电。
[0060]图15和16示出支脚20的特别结构设计，加热件I至9、即构成加热件的加热丝38、39借助该支脚与接触板11、12相连接。接触板11、12具有圆锥形的孔，将支脚20的圆锥形部段插入该孔中。在支脚20的螺纹部段上旋入螺母16，所述螺母16使支脚20的圆锥形面较大面积地接触圆锥形孔的壁。螺母16通过安全销被固定不能转动。螺纹部段连接在截锥体的截锥部段上。安全销能够穿过螺纹部段的孔。这种孔也可以处在与螺母16的壁的开口平齐的位置上，从而安全销即穿过螺母也穿过螺纹杆。
[0061]在图15和16所示的实施例中，径向最外侧的加热件在具有比径向内侧加热件离接触板11、12更近的距离的平面内延伸，径向内侧的加热件因此在与比安置径向最外侧的加热件的平面离接触板11、12的平面相距更远的平面内延伸。加热件的构成最外侧螺旋线圈的加热丝借助支脚20与接触板11、12相连接，所述支脚20因此设计得比内侧加热件与接触板11、12相连接所借助的支脚20更短。
[0062]在图17至23中所示的实施例示出径向最外侧的加热区域。在此，多个加热件I至5在局部接触贴靠的情况下在共同的圆弧线上延伸。另外，与之前所述的实施例相比，这里有两个圆环形接触板11、12相重叠。每个接触板11、12能够借助与加热件I至5远离的接触销25通电。这里，接触板11、12位于相互平行延伸和相互间隔的平面内。
[0063]另外，与之前所述的实施例相比，在此支撑件分别只支撑一个加热件，支撑件30在此一共支撑5个加热件。因为支撑件30由金属构成，所以加热件I至5在支撑位置上相互连接。
[0064]支撑件30的支脚34穿过支撑板15的缺口 35。设有从支脚34突出的搭边，其在支撑板的下侧和上侧上延伸。
[0065]在该实施例中，支撑板15由不导电材料构成。支撑件30构成凹腔状的槽，其中，每个凹腔状的槽具有槽纹边缘。在这种槽纹边缘上设置在图20至23中由于视线问题显示为体积体的加热丝38、39上。
[0066]从图20中可以看出，加热件I至5不在相同的平面内延伸。加热件更确切地说设在彼此不同的平面内。加热件I至5分别具有距离支撑板15或距离接触板11、12不同的间距。径向在加热件I外部延伸的加热件2比加热件I距离支撑板15更远。径向最外侧的加热件3、4、5距离加热设备26的中心以大约相同的距离延伸，其中，加热件3和加热件I距离支撑板有大约相同的间距。但是，径向最外侧的加热件4、5则最靠近支撑板15。因此，径向最外侧的加热件4、5设在接触板11或12的平面的最下面的平行面内。
[0067]此外，图21至23还示出连接件27，该连接件将支撑板15与两个接触板11和12相连接。连接件27由固定在支撑板15开口内的金属条制成。金属条27穿过两个接触板
11、12的开口，并且在那分别借助绝缘体32、33与接触板11、12相连接。接触板11、12借助由绝缘材料制成的间距保持件31以一定间距被固持。间距保持件31是包围连接件27的陶瓷套筒。借助侧向突出的、能够贴靠在陶瓷管31的内壁上的侧翼，间距保持件31相对于连接件27定中心。绝缘体32、33是具有直径减少部段的圆柱形陶瓷体。该直径减少部段插入接触板11、12的开口。直径扩大部段支撑在接触板11、12的宽侧面上。绝缘体32、33的中轴具有缺口，连接件27穿过该缺口。从图22可以看出，连接件的梯形凸起支撑在绝缘体32上，并且绝缘体33借助固定件36固定在连接件27上，其中，固定件36具有穿过连接件27的开口的固定销。
[0068]支撑板15被连接件27的侧向突出的支撑臂所支承。连接件27的部段穿过支撑板15的开口。在那，固定件36的销同样插入开口内。
[0069]固定件36可由具有销的固定薄板构成，所述销能够穿过固定开口。
[0070]图24和28示出之前所述的加热装置10、26、29，其布置方式是，将加热装置作为在基座21下的加热器使用。单独的加热设备10、26、29相互嵌套。当加热设备10和26的加热件I至9在相同的平面内延伸时，加热件I至5部分地位于所述平面上方，但是部分位于该平面下方。径向最内侧的加热设备10的加热件全部处于相同的平面内。中间的加热设备26的加热件、除了安置在径向最外侧的螺旋线圈上的加热件外，都在该平面内延伸。径向最外侧的加热件在降低的水平面上延伸，该加热件比径向内侧加热件在使用状态下具有距离基座底面更大的间距。径向最外侧加热设备29的加热件部分比中央加热设备10的加热件处于更高的水平面。但是，最外侧加热设备29的径向最外侧加热件处于更低的水平面。尤其设定，在径向最外侧加热设备29中比在径向内侧加热设备10、26中，各个加热件更加紧密地并排设置。在最外侧加热设备29中比在两个径向内侧加热设备10、26中，每个径向长度单位上安置更多的加热件。
[0071]此外，从图13中还可以看出，不只一个径向最外侧的螺旋线圈在降低的水平面上延伸。安置在多个径向最外侧螺旋线圈上的加热件在更低的水平面上延伸。
[0072]图25和26示出特别构造的接触销25，该接触销导电地通过螺纹连接与接触板11相连接。借助螺纹部段通过螺母固定的栓37伸入空心栓25内。在此，栓37的横向开口与空心接触销25的横向缺口相对齐。
[0073]还在此设定，接触销25通过圆锥形接触面贴靠在接触板11内的开口的圆锥形壁上。例如图29所示。
[0074]前述实施方式用于阐述包括本申请的实用新型，其通过下述技术特征组合相应独立地改进了现有技术，即:
[0075]—种设备，其特征在于，所述两个接触板位于共同的第一平面内。
[0076]一种设备，其特征在于，所述加热机构安置在与所述第一平面平行的、在CVD反应器的处理室的基座下方的平面内。
[0077]一种设备，其特征在于，沿所述第一平面的面法线方向延伸的连接触头1.1至9.1、1.2至9.2，所述连接触头1.1至9.1、1.2至9.2与所述加热件的延伸方向呈90°夹角地延伸，其中尤其规定，所述电阻加热机构1.3至9.3形成基本呈90°的弯曲，或者所述连接触头1.1至9.2构成90°角。
[0078]—种设备，其特征在于，沿着螺旋线或圆弧线围绕所述设备的中心安置所述电阻加热机构，和/或沿着圆弧线或螺旋线尤其相继地设置或相互嵌套地安置多个所述加热机构 1.3 至 9.3。
[0079]—种设备，其特征在于，所述两个接触板11、12以一个间距13相互间隔，其中，所述间距13尤其设计为缝隙，其中尤其规定，所述两个由金属构成的接触板11、12通过由绝缘体构成的间隔保持件31相互保持一个间距，其中，所述间隔保持件31尤其可配属于连接件27。
[0080]一种设备，其特征在于，所述两个位于共同的第一平面El内的第一和第二接触板
11、12具有齿形的相互咬合的接触凸起11’、12’。
[0081]一种设备，其特征在于，分别有两个并排安置的连接触头1.2,2.2 ；2.1,3.1 ；3.2、
4.2...；8.2,9.2配属于一个共同的接触板11、12。
[0082]一种设备，其特征在于，平行于所述接触板11、12安置的具有支撑件17的支撑板15，所述支撑板15借助所述支撑件17支撑着所述加热机构1.3至9.3，其中尤其设定，所述支撑件17固定所述加热件I至9与所述支撑板15的间隔位置和所述加热件I至9相互间的间距，其中尤其规定，所述支撑板15被设计为至少在其朝向所述加热件I的一侧反射热量。
[0083]一种设备，其特征在于，安置在所述支撑板15和所述接触板11、12之间的盖板14构成开口 18，所述连接触头1.1至9.2突出穿过所述开口 18。
[0084]一种设备，其特征在于，具有所述加热件I至9的中央加热设备10被具有一个或多个加热件I至9的外侧加热设备26、29围绕，其中，所述加热设备10、26、29具有能相互独立地通电的加热件I至9。
[0085]一种设备，其特征在于，所述支撑板15借助连接件27与所述接触板11、12中的至少一个相连接，其中，所述连接件27借助绝缘体32、33与所述接触板11、12相连接。
[0086]一种设备，其特征在于，所述多个加热机构10、26、29圆形地相互围绕安置，其中，第一中央加热设备10具有圆形的轮廓，并且至少一个径向外侧的加热设备26、29具有圆环形的轮廓。
[0087]—种设备，其特征在于，径向最外侧的加热设备具有多个并排延伸的加热件，所述加热件借助所述支撑件相互电气连接。
[0088]一种设备，其特征在于，所述加热件由螺旋形卷绕的加热丝构成，其中，所述加热件尤其由双股加热丝构成。
[0089]所有公开的特征(本身及其相互组合)都有实用新型意义或实用新型价值。在本申请的公开文件中，所属/附属的优先权文本(在先申请文件)的公开内容也被完全包括在内，为此也将该优先权文本中的特征纳入本申请的权利要求书中。从属权利要求的特征都是对于现有技术有独立的实用新型意义或价值的改进设计，尤其可以这些从属权利要求为基础提出分案申请。
[0090]附图标记列表
[0091]I力口热件
[0092]2加热件
[0093]3加热件
[0094]4加热件
[0095]5加热件
[0096]6加热件
[0097]7加热件
[0098]8加热件
[0099]9加热件
[0100]1.1连接触头
[0101]2.1连接触头
[0102]3.1连接触头
[0103]4.1连接触头
[0104]5.1连接触头
[0105]6.1连接触头
[0106]7.1连接触头
[0107]8.1连接触头
[0108]9.1连接触头
[0109]1.2连接触头
[0110]2.2连接触头
[0111]3.2连接触头
[0112]4.2连接触头
[0113]5.2连接触头
[0114]6.2连接触头
[0115]7.2连接触头
[0116]8.2连接触头
[0117]9.2连接触头
[0118]1.3加热机构
[0119]2.3加热机构
[0120]3.3加热机构
[0121]4.3加热机构
[0122]5.3加热机构
[0123]6.3加热机构
[0124]7.3加热机构
[0125]8.3加热机构
[0126]9.3加热机构
[0127]10加热设备
[0128]11接触板
[0129]12接触板
[0130]13缝隙
[0131]14盖板
[0132]15支撑板
[0133]16螺母
[0134]17支撑件
[0135]18开口
[0136]19开口
[0137]20支脚
[0138]21基座
[0139]22进气机构
[0140]23处理室
[0141]24CVD 反应器
[0142]25接触销
[0143]26加热设备
[0144]27连接件
[0145]28开口
[0146]29加热设备
[0147]30支撑件
[0148]31间隔保持件
[0149]32绝缘体
[0150]33绝缘体
[0151]34支脚
[0152]35缺口
[0153]36固定件
[0154]37栓
[0155]38加热丝，钨丝
[0156]39加热丝，钨丝
[0157]El第一平面
[0158]E2第二平面
[0159]N.1连接触头
[0160]N.2连接触头
[0161]N.3加热机构
【权利要求】
1.一种加热设备，具有至少一个导电的第一接触板(11)和至少一个导电的第二接触板(12)和分别具备电阻加热机构(1.3至9.3)的加热件(I至9)，所述电阻加热机构(1.3至9.3)借助第一连接触头(1.1至9.1)与所述第一接触板(11)相连接并且借助第二连接触头(1.2至9.2)与所述第二接触板(12)相连接，其特征在于，所述两个接触板(11、12)位于共同的第一平面(El)内。
2.根据权利要求1所述的加热设备，其特征在于，所述加热机构(1.3至9.3)安置在与所述第一平面(El)平行的、在CVD反应器(24)的处理室(23)的基座(21)下方的平面(E2)内。
3.根据权利要求2所述的加热设备，其特征在于，沿所述第一平面的面法线方向延伸的连接触头(1.1至9.1、1.2至9.2)，所述连接触头(1.1至9.1、1.2至9.2)与所述加热件的延伸方向呈90°夹角地延伸，和/或所述电阻加热机构(1.3至9.3)形成基本呈90°的弯曲，或者所述连接触头(1.1至9.2)构成90°角。
4.根据权利要求1所述的加热设备，其特征在于，沿着螺旋线或圆弧线围绕所述设备的中心安置所述电阻加热机构(1.3至9.3)，和/或沿着圆弧线或螺旋线尤其相继地设置或相互嵌套地安置多个所述加热机构(1.3至9.3)。
5.根据权利要求1所述的加热设备，其特征在于，所述两个接触板(11、12)以一个间距(13)相互间隔，其中，所述间距(13)设计为缝隙，和/或所述两个由金属构成的接触板(11、12)通过由绝缘体构成的间隔保持件(31)相互保持一个间距，其中，所述间隔保持件(31)可配属于连接件(27)。
6.根据权利要求1所述的加热设备，其特征在于，所述两个位于共同的第一平面(El)内的第一和第二接触板(11、12)具有齿形的相互咬合的接触凸起(11’、12’)。
7.根据上述权利要求之一所述的加热设备，其特征在于，分别有两个并排安置的连接触头(1.2,2.2 ；2.1,3.1 ；3.2,4.2...；8.2,9.2)配属于一个共同的接触板(11、12)。
8.根据权利要求1所述的加热设备，其特征在于，平行于所述接触板(11、12)安置的具有支撑件的支撑板(15)，所述支撑板(15)借助所述支撑件支撑着所述加热机构(1.3至9.3)，其中设定，所述支撑件固定所述加热件(I至9)与所述支撑板(15)的间隔位置和所述加热件(I至9)相互间的间距，和/或所述支撑板(15)被设计为至少在其朝向所述加热件(I)的一侧反射热量。
9.根据权利要求8所述的加热设备，其特征在于，安置在所述支撑板(15)和所述接触板(11、12)之间的盖板(14)构成开口(18)，所述连接触头(1.1至9.2)突出穿过所述开口(18)。
10.根据权利要求8或9所述的加热设备，其特征在于，具有所述加热件(I至9)的中央加热设备(10)被具有一个或多个加热件(I至9)的外侧加热设备(26、29)围绕，其中，所述中央加热设备和外侧加热设备(10、26、29)具有能相互独立地通电的加热件(I至9)。
11.根据权利要求8所述的加热设备，其特征在于，所述支撑板(15)借助连接件(27)与所述接触板(11、12)中的至少一个相连接，和/或所述连接件(27)借助绝缘体(32、33)与所述接触板(11、12)相连接。
12.根据权利要求10所述的加热设备，其特征在于，所述多个中央加热设备和外侧加热设备(10、26、29)圆形地相互围绕安置，其中，第一中央加热设备(10)具有圆形的轮廓，并且至少一个径向外侧的加热设备(26、29)具有圆环形的轮廓。
13.根据权利要求12所述的加热设备，其特征在于，径向最外侧的加热设备(29)具有多个并排延伸的加热件(I至5)，所述加热件(I至5)借助所述支撑件相互电气连接。
14.根据权利要求1所述的加热设备，其特征在于，所述加热件(I至9)由螺旋形卷绕的加热丝(38、39)构成，其中，所述加热件(I至9)尤其由双股加热丝(38、39)构成。
【文档编号】C23C16/46GK204162788SQ201420245940
【公开日】2015年2月18日 申请日期:2014年5月14日 优先权日:2013年11月26日
【发明者】P-A.伯丁, M.E.奥彭, K.艾伦, H.席尔瓦 申请人:艾克斯特朗欧洲公司