一种导电薄膜的溅镀成型装置制造方法
【专利摘要】一种导电薄膜的溅镀成型装置。本实用新型为了解决现有技术的生产工序长、成本高、占用场地多和导电薄膜热处理过程存在传送张力，会导致薄膜被拉伸变形和使用上产生热收缩的缺陷。技术方案要点：是一个真空封闭室，其内设有特定的放卷室、溅镀室和收卷室，特征是溅镀室和收卷室之间设有热处理室，热处理室与溅镀室之间由带有缝口的溅镀室隔板隔开，热处理室与收卷室之间由带有缝口的收卷室隔板隔开，导电薄膜从溅镀室隔板的缝口进入热处理室进行热处理后才从收卷室隔板的缝口进入收卷室，导电薄膜在热处理室内是以自然悬垂状态进行传送，热处理室内在导电薄膜的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器。放卷室和溅镀室之间还可以设有溅镀预加热室。
【专利说明】 一种导电薄膜的溅镀成型装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及导电薄膜的成型设备，具体是一种导电薄膜的溅镀成型装置。
【背景技术】
[0002]导电薄膜是一种目前已经广泛应用于平板显示、屏式触控技术、太阳能电池板、太阳能控制膜、防止起雾除霜玻璃、冰玻璃、防静电涂层等诸多领域的材料。结构是在薄膜基材的一面附着有透明导电层，附着导电层可以采用溅镀、脉冲激光沉积、真空蒸镀、化学气相沉积、溶胶凝胶法等技术手段来实现。
[0003]导电薄膜的溅镀工艺，就是在真空状态充入惰性气体的环境下，在塑胶薄膜基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，通过辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等离子体将金属靶材的原子轰出，沉积在薄膜基材上。金属靶材(阴极)可以采用ITO(氧化铟锡)、IGZO (氧化铟镓锌)、ITiO (氧化铟钛)、AZO (氧化铝锌)、ZnO (氧化锌)中的一种。
[0004]导电薄膜的溅镀成型设备，有如中国台湾专利申请第TW201250027A1号中的设备部分，是一个真空封闭室内依次设置有放卷室、溅镀预加热室、第一溅镀室、第二溅镀室、收卷室，第一溅镀室和第二溅镀室内各设有膜薄传送辊筒，在薄膜传送辊筒的外侧各分布有若干个金属靶材阴极，溅镀预加热过程的膜薄传送是由若干导向辊进行有张力传送。
[0005]导电薄膜溅镀成型后一般需要进行热处理(或称退火)，一是为了促使导电薄膜的透明导电层形成结晶，以提高导电薄膜的使用寿命；二是让导电薄膜进行预先热收缩，避免日后使用上会出现热收缩。当将整卷传送的导电薄膜进行热处理时，如果导电薄膜的加热过程存在传送张力，导电薄膜就会被拉伸变形，日后使用也会容易产生热收缩现象。
[0006]导电薄膜溅镀成型后的热处理设备，有如中国台湾专利申请第TW201221363A1号中的设备部分，是一个可以减少导电薄膜加热过程的传送张力的技术方案。其加热装置采用热风加热方式，加热装置内设有多个上下交叉对吹的热风嘴，导电薄膜作水平传送经过加热炉时由于热风嘴上下交叉鼓风而形成悬浮状态，从而减少了加热过程的传送张力。但是加热过程对导电薄膜鼓风也会形成对导电薄膜的一定张力且张力不很均匀，所以这种消除张力的加热效果不佳。
[0007]使用上述已有技术存在的缺点:一是溅镀成型设备和溅镀成型后的热处理设备各为独立设备，造成整个导电薄膜生产工序较长，生产成本较高，设备占用场地较多；二是导电薄膜热处理过程仍然存在一定的传送张力，会导致导电薄膜被拉伸变形和日后使用容易产生热收缩；三是溅镀预加热的膜薄传送是有张力传送，会导致导电薄膜被拉伸变形而影响导电薄膜的溅镀成型质量；四是分布在薄膜传送辊筒外侧的若干个金属靶材阴极没有分隔开，会造成溅镀均匀性较差。
【发明内容】
[0008]本实用新型的主要目的是提供一种改进的导电薄膜的溅镀成型装置，以克服现有技术的整个导电薄膜生产工序较长、生产成本较高、设备占用场地较多和导电薄膜热处理过程仍然存在一定的传送张力，会导致导电薄膜被拉伸变形和日后使用容易产生热收缩的缺陷。本实用新型的另外目的是进一步改进，以克服现有技术的溅镀预加热的膜薄传送是有张力传送，导致导电薄膜被拉伸变形而影响导电薄膜的溅镀成型质量和溅镀均匀性的缺陷。
[0009]本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种导电薄膜的溅镀成型装置，是一个真空封闭室，其内设置有放卷室、溅镀室和收卷室，溅镀室内设有膜薄传送辊筒，薄膜传送辊筒外侧分布有若干个金属靶材阴极，薄膜基材从放卷室的放卷机构输出、进入溅镀室绕薄膜传送辊筒传送、由金属靶材阴极释放的粒子溅镀在薄膜基材上而成为导电薄膜、然后进入收卷室为收卷机构所收卷，其特征是:所述溅镀室和收卷室之间设有热处理室，热处理室与溅镀室之间由带有缝口的溅镀室隔板隔开，热处理室与收卷室之间由带有缝口的收卷室隔板隔开，导电薄膜是先从溅镀室隔板的缝口进入热处理室进行热处理后才从收卷室隔板的缝口进入收卷室，导电薄膜在热处理室内是以自然悬垂状态进行传送，热处理室内在导电薄膜的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器。
[0010]上述技术方案所述的真空封闭室内可以由若干传送辊与放卷机构、薄膜传送辊筒和收卷机构等配合构成薄膜基材及其导电薄膜的传送路径。
[0011]上述技术方案所述的溅镀室内在溅镀室隔板的缝口处可以设有一对传送速度限定辊、热处理室内在溅镀室隔板的缝口处可以设有悬垂限位辊，所述收卷室内在收卷室隔板的缝口处可以设有一对传送速度限定辊、加热室内在收卷室隔板的缝口处可以设有悬垂限位辊，传送速度限定辊可以是由一对有动力驱动的压滚组成。
[0012]上述技术方案所述的热处理室内在与导电薄膜的悬垂底部相对应处可以设有测量悬垂底部位置的光电传感器。
[0013]上述技术方案所述的放卷室和溅镀室之间可以设有溅镀预加热室，溅镀预加热室与放卷室之间由带有缝口的放卷室隔板隔开，溅镀预加热室与溅镀室之间由带有缝口的溅镀预加热室隔板隔开，薄膜基材是先从放卷室隔板的缝口进入溅镀预加热室进行预加热后才从溅镀预加热室隔板的缝口进入溅镀室，薄膜基材在溅镀预加热室内是以自然悬垂状态进行传送，溅镀预加热室内在薄膜基材的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器。
[0014]上述技术方案所述的放卷室内在放卷室隔板的缝口处可以设有一对传送速度限定辊、溅镀预加热室内在放卷室隔板的缝口处可以设有悬垂限位辊，所述溅镀室内在溅镀预加热室隔板的缝口处可以设有一对传送速度限定辊、溅镀预加热室内在溅镀预加热室隔板的缝口处可以设有悬垂限位辊，传送速度限定辊可以是由一对有动力驱动的压滚组成。
[0015]上述技术方案所述的溅镀预加热室内在与薄膜基材的悬垂底部相对应处可以设有测量悬垂底部位置的光电传感器。
[0016]上述技术方案所述的溅镀室内可以在每二个相邻金属靶材阴极之间设有隔板。
[0017]本实用新型的有益效果:一是由于溅镀室和收卷室之间设有热处理室，热处理室与溅镀室之间由带有缝口的溅镀室隔板隔开，热处理室与收卷室之间由带有缝口的收卷室隔板隔开，导电薄膜是先从溅镀室隔板的缝口进入热处理室进行热处理后才从收卷室隔板的缝口进入收卷室，所以导电薄膜的溅镀成型工艺和溅镀成型后的热处理工艺可以在同一台设备上完成，整个导电薄膜生产工序短，降低了生产成本，减少设备使用场地；二是由于导电薄膜在热处理室内是以自然悬垂状态进行传送，所以导电薄膜在热处理室内加热的过程是处于无张力状态，这样导电薄膜不会在加热时被拉伸变形，也能够达到预先热收缩的较佳效果，解决了日后使用上容易产生热收缩的问题；三是由于热处理室也是处于真空状态，同时热处理室内设有热辐射加热的加热器，加热过程导电薄膜不会抖动和被吹胀，所以薄膜基材不会碰触到上下两侧的加热器，这样就可以在薄膜基材的自然悬垂传送路径的上下两侧处都设有加热器，从而提高了导电薄膜的热收缩均匀度和加热效率；四是由于放卷室和溅镀室之间可以设有溅镀预加热室，薄膜基材在溅镀预加热室内是以自然悬垂状态进行传送，溅镀预加热室内在薄膜基材的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器，所以溅镀预加热的膜薄传送也是无张力传送，避免了导电薄膜在溅镀预加热过程被拉伸变形而影响导电薄膜的溅镀成型质量；五是溅镀室内可以在每二个相邻金属靶材阴极之间设有隔板，可以有效提高溅镀成型的均匀性。
[0018]以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。
【专利附图】
【附图说明】
[0019]图1是本实用新型一种实施例的示意图。
[0020]图2是本实用新型另一种实施例的示意图。
[0021]图中:1、真空封闭室；2、放卷室；3、溅镀室；4、收卷室；5、膜薄传送辊筒；6、金属革巴材阴极；7、薄膜基材；8、放卷机构；9、导电薄膜；10、收卷机构；11、热处理室；12、缝口 ；13、溅镀室隔板；14、缝口 ；15、收卷室隔板；16和17、加热器；18、传送辊；19、传送速度限定棍；20、悬垂限位棍；21、传送速度限定棍；22、悬垂限位棍；23、悬垂底部；24和25、光电传感器；26、电浆处理器；27、传送速度光电检测器；28、金属靶材阴极；29、隔板；30、放卷室；31、溅镀室；32、溅镀预加热室；33、缝口 ；34、放卷室隔板；35、缝口 ；36、溅镀预加热室隔板；37、薄膜基材；38和39、加热器；40、传送速度限定辊；41、悬垂限位辊；42、传送速度限定棍；43、悬垂限位棍；44、悬垂底部；45和46、光电传感器。
【具体实施方式】
[0022]参照图1，本导电薄膜的溅镀成型装置，是一个真空封闭室1，其内设置有放卷室
2、溅镀室3和收卷室4，溅镀室3内设有膜薄传送辊筒5，薄膜传送辊筒5外侧分布有若干个金属靶材阴极6等，薄膜基材7从放卷室2的放卷机构8输出、进入溅镀室3绕薄膜传送辊筒5传送、由金属靶材阴极6等释放的粒子溅镀在薄膜基材上而成为导电薄膜9、然后进入收卷室4为收卷机构10所收卷，其特征是:所述溅镀室3和收卷室4之间设有热处理室11，热处理室11与溅镀室3之间由带有缝口 12的溅镀室隔板13隔开，热处理室11与收卷室4之间由带有缝口 14的收卷室隔板15隔开，导电薄膜9是先从溅镀室隔板13的缝口 12进入热处理室11进行热处理后才从收卷室隔板15的缝口 14进入收卷室4，导电薄膜9在热处理室11内是以自然悬垂状态进行传送，热处理室11内在导电薄膜9的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器16、17等。
[0023]另外，真空封闭室I内由若干传送辊18等与放卷机构8、薄膜传送辊筒5和收卷机构10等配合构成薄膜基材7及其导电薄膜9的传送路径；溅镀室3内在溅镀室隔板13的缝口 12处设有一对传送速度限定辊19、热处理室11内在溅镀室隔板13的缝口 12处设有悬垂限位辊20 ;收卷室4内在收卷室隔板15的缝口 14处设有一对传送速度限定辊21、热处理室11内在收卷室隔板15的缝口 14处设有悬垂限位辊22，传送速度限定辊19和21均是由一对有动力驱动的压滚组成；热处理室11内在与导电薄膜9的悬垂底部23相对应处设有测量悬垂底部23位置的光电传感器24、25等；溅镀室3内在薄膜传送辊筒5上的薄膜基材7切入处还设有电浆处理器26 ;收卷室4内在导电薄膜9的传送路径上设有传送速度光电检测器27 ;灘镀室3内在每二个相邻金属靶材阴极6、28等之间均设有隔板29等。
[0024]使用上，薄膜基材7从放卷室2的放卷机构8输出、进入溅镀室3绕薄膜传送辊筒5传送、由金属靶材阴极6等释放的粒子溅镀在薄膜基材7上而成为导电薄膜9，然后由传送速度限定辊19进行限速传送，经溅镀室隔板13的缝口 12进入热处理室11、并分别挂在悬垂限位辊20和22上作向下自然悬垂传送，自然悬垂传送过程由上下两侧的加热器16、17等进行热处理，然后经收卷室隔板15的缝口 14进入收卷室4、为收卷机构10所收卷，光电传感器24、25等将导电薄膜9的悬垂底部23位置随时反馈给控制电路、传送速度光电检测器27将导电薄膜9的传送线速度随时反馈给控制电路，作为整机运行控制依据。
[0025]参照图2，本导电薄膜的溅镀成型装置，与图1的导电薄膜的溅镀成型装置比较，其不同点在于:放卷室30和溅镀室31之间设有溅镀预加热室32，溅镀预加热室32与放卷室30之间由带有缝口 33的放卷室隔板34隔开，溅镀预加热室32与溅镀室31之间由带有缝口 35的溅镀预加热室隔板36隔开，薄膜基材37是先从放卷室隔板34的缝口 33进入溅镀预加热室32进行预加热后才从溅镀预加热室隔板36的缝口 35进入溅镀室31，薄膜基材36在溅镀预加热室32内是以自然悬垂状态进行传送，溅镀预加热室32内在薄膜基材36的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器38、39等。
[0026]另外，放卷室30内在放卷室隔板34的缝口 33处设有一对传送速度限定辊40、溅镀预加热室32内在放卷室隔板34的缝口 33处设有悬垂限位辊41 ;溅镀室31内在溅镀预加热室隔板36的缝口 35处设有一对传送速度限定辊42、溅镀预加热室32内在溅镀预加热室隔板36的缝口 35处设有悬垂限位辊43 ;传送速度限定辊40和42均是由一对有动力驱动的压滚组成；溅镀预加热室32内在与薄膜基材37的悬垂底部44相对应处设有测量悬垂底部44位置的光电传感器45、46等。
[0027]其他结构与图1所示的导电薄膜的溅镀成型装置相同。
[0028]使用上，薄膜基材37从放卷室30的放卷机构输出、由传送速度限定辊40作限速传送，经放卷室隔板34的缝口 33进入溅镀预加热室32、并分别挂在悬垂限位辊41和43上作向下自然悬垂传送，自然悬垂传送过程由上下两侧的加热器38、39等进行溅镀前的预加热，然后溅镀经预加热室隔板36的缝口 35进入溅镀室31、并由传送速度限定辊42作限速传送后、绕在薄膜传送辊筒上传送、进行溅镀成型，光电传感器45、46等将薄膜基材37的悬垂底部44位置随时反馈给控制电路，作为整机运行控制依据。其他使用方法与图1所示的导电薄膜的溅镀成型装置相同。
【权利要求】
1.一种导电薄膜的溅镀成型装置，是一个真空封闭室，其内设置有放卷室、溅镀室和收卷室，溅镀室内设有膜薄传送辊筒，薄膜传送辊筒外侧分布有若干个金属靶材阴极，薄膜基材从放卷室的放卷机构输出、进入溅镀室绕薄膜传送辊筒传送、由金属靶材阴极释放的粒子溅镀在薄膜基材上而成为导电薄膜、然后进入收卷室为收卷机构所收卷，其特征是:所述溅镀室和收卷室之间设有热处理室，热处理室与溅镀室之间由带有缝口的溅镀室隔板隔开，热处理室与收卷室之间由带有缝口的收卷室隔板隔开，导电薄膜是先从溅镀室隔板的缝口进入热处理室进行热处理后才从收卷室隔板的缝口进入收卷室，导电薄膜在热处理室内是以自然悬垂状态进行传送，热处理室内在导电薄膜的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器。
2.按权利要求1所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述溅镀室内在溅镀室隔板的缝口处设有一对传送速度限定辊、热处理室内在溅镀室隔板的缝口处设有悬垂限位辊，所述收卷室内在收卷室隔板的缝口处设有一对传送速度限定辊、加热室内在收卷室隔板的缝口处设有悬垂限位辊。
3.按权利要求1所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述溅镀室内可以在薄膜传送棍筒上的薄膜基材切入处的待派镀表面一侧设有电衆处理器。
4.按权利要求1所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述溅镀室内在每二个相邻金属靶材阴极之间设有隔板。
5.按权利要求1、2、3或4所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述热处理室内在与导电薄膜的悬垂底部相对应处设有测量悬垂底部位置的光电传感器。
6.按权利要求1、2、3或4所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述放卷室和溅镀室之间设有溅镀预加热室，溅镀预加热室与放卷室之间由带有缝口的放卷室隔板隔开，溅镀预加热室与溅镀室之间由带有缝口的溅镀预加热室隔板隔开，薄膜基材是先从放卷室隔板的缝口进入溅镀预加热室进行预加热后才从溅镀预加热室隔板的缝口进入溅镀室，薄膜基材在溅镀预加热室内是以自然悬垂状态进行传送，溅镀预加热室内在薄膜基材的自然悬垂传送路径的上下两侧处设有加热器。
7.按权利要求6所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述放卷室内在放卷室隔板的缝口处设有一对传送速度限定辊、溅镀预加热室内在放卷室隔板的缝口处设有悬垂限位辊，所述溅镀室内在溅镀预加热室隔板的缝口处设有一对传送速度限定辊、溅镀预加热室内在溅镀预加热室隔板的缝口处设有悬垂限位辊。
8.按权利要求6所述的导电薄膜的溅镀成型装置，其特征是所述溅镀预加热室内在与薄膜基材的悬垂底部相对应处设有测量悬垂底部位置的光电传感器。
【文档编号】C23C14/34GK203513789SQ201320634750
【公开日】2014年4月2日 申请日期:2013年10月15日 优先权日:2013年10月15日
【发明者】杜成城, 刘比尔 申请人:汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司