成膜装置及成膜装置用传送托盘的利记博彩app

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【专利摘要】本发明提供一种成膜装置及成膜装置用传送托盘，其能够实现驱动机构的简单化，并且降低粒子附着于基板的风险，抑制成膜基板的品质下降。所述成膜装置（100）具有传送装置（10），且该传送装置具备对基板（101）进行传送的多个传送辊（11），由此设为简单的结构。而且，将传送辊（11）配置于基板（101）的下端侧。由此，即便伴随传送辊（11）的旋转而产生粒子，也降低粒子附着于比传送辊（11）更靠上方而配置的基板（101）的可能性。而且，构成为具备与形成于传送托盘（20）的上端部的槽部（30）的壁面抵接而旋转的从动辊（12、13）。能够从上方限制传送托盘（20）的位置，能够稳定且顺畅地传送传送托盘（20）及基板（101）。
【专利说明】成膜装置及成膜装置用传送托盘
【技术领域】
[0001]本申请主张基于2012年7月5日申请的日本专利申请第2012-151666号的优先权。其申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。
[0002]本发明涉及一种成膜装置及成膜装置用传送托盘。
【背景技术】
[0003]例如对基板等对象物进行成膜的成膜装置中，基板搭载(保持)于托盘上而被传送。基板在多个真空腔室间移动，并被实施成膜等处理。近几年，伴随太阳能电池及液晶显示面板等的大型化，基板也被大型化。在能够应对被大型化的基板的成膜装置中，已知有以纵姿势传送基板及托盘的装置(例如参考专利文献I)。
[0004]专利文献I所记载的装置中，驱动齿轮设置于真空腔室的上部侧，与该驱动齿轮啮合的齿条形成于托盘的上端侧。通过使真空腔室侧的驱动齿轮旋转来使托盘在水平方向上移动。基板与托盘一同在真空腔室内移动。
[0005]专利文献1:日本特开平1-268870号公报
[0006]然而，上述专利文献I所记载的技术中，采用齿条小齿轮方式的驱动机构的结构复杂，因此要求简单化。而且，上述以往技术中，齿条小齿轮方式的驱动机构比基板更靠上方而配置，因此在驱动机构产生的粒子落下时附着于基板，存在使成膜的品质下降的可能性。

【发明内容】

[0007]本发明是为了解决`这种课题而完成的，其目的在于提供一种能够实现驱动机构的简单化，并且降低粒子附着于基板的风险，抑制成膜基板的品质下降的成膜装置及成膜装置用传送托盘。
[0008]本发明提供一种成膜装置，其对基板进行成膜处理，其中，所述成膜装置具备:真空容器，其能够容纳基板；及传送机构，其在真空容器内将保持所述基板的传送托盘在与所述基板的板厚方向交叉的传送方向上进行传送，且所述传送托盘以使基板的板厚方向成为水平方向或成为从水平方向倾斜的方向的方式，以使基板直立的状态、或以从直立的状态倾斜的状态来保持基板，传送机构具有:多个传送辊，其配置于基板的下端侧，绕沿着板厚方向延伸的第I轴线旋转，并对传送托盘进行传送；及多个从动辊，其配置于基板的上端侧，绕沿着与板厚方向及传送方向交叉的方向延伸的第2轴线旋转，传送托盘的上端面形成有沿着传送方向连续的槽部，从动辊与槽部内的壁面抵接且伴随传送托盘的移动而旋转。
[0009]依据这种成膜装置，其为具有具备对基板进行传送的多个传送辊的传送装置的结构，因此能够设为简单的结构的装置。例如与以往的齿条小齿轮方式的传送机构进行比较，能够设为简单的结构。而且，成膜装置中，传送辊配置于基板的下端侧，因此即使伴随传送辊的旋转而产生粒子，粒子附着于比传送辊更靠上方而配置的基板的可能性也较低。由此，能够降低粒子附着于基板的风险，抑制成膜基板的品质下降。而且，构成为从动辊与形成于传送托盘的上端部的槽部内的壁面抵接而旋转，因此能够从上方限制传送托盘的位置，能够稳定且顺畅地传送传送托盘及基板。
[0010]也可为传送托盘的下端面设置有向传送方向延伸且能够与传送辊的周面抵接的轨道部的结构。若传送托盘的下端面设置有轨道部，则能够使传送托盘的行驶稳定化。
[0011] 在此，优选多个从动辊具备--第I从动辊，其与槽部内的I对壁面的一侧抵接；及第2从动辊，其与槽部内的I对壁面的另一侧抵接，第I从动辊及第2从动辊在传送方向上交替配置。该结构的成膜装置中，第I从动辊仅与传送托盘的槽部内的I对壁面的一侧抵接，第2从动辊仅与传送托盘的槽部内的I对壁面的另一侧抵接。由此，第I从动辊及第2从动辊始终分别向不同方向旋转，因此能够防止从动辊的旋转方向向反方向转换。因此，能够减小传送托盘20被传送时的摩擦阻力，所以能够实现传送托盘的顺畅的传送。
[0012]而且，优选在板厚方向上，第I从动辊的周面最靠I对壁面的一侧的位置与第2从动辊的周面最靠I对壁面的另一侧的位置的距离比槽部的I对壁面间的距离小。依据该结构的成膜装置，容许传送托盘相对于从动辊的位置偏离，能够稳定且顺畅地传送传送托盘及基板，进而，减轻从动辊与槽部壁面的摩擦阻力，较易提高传送速度。
[0013]而且，优选传送辊具有I对凸缘部，所述I对凸缘部配置成向该传送辊的径向外侧突出，并且在第I轴线方向上对置且夹持传送托盘的两侧。依据该结构的成膜装置，配置成从板厚方向的两侧夹持传送托盘的下端部的I对凸缘部形成于传送辊，因此能够使传送托盘相对于传送辊的位置稳定。由此，能够使传送托盘及基板的姿势稳定并顺畅地传送。
[0014]成膜装置可为具备闸阀部，所述闸阀部具备能够密封真空容器的传送托盘所通过的开口部的阀体，并且闸阀部上设置有从动辊的结构。该结构的成膜装置中，闸阀部内配置有从动辊，因此能够使传送托盘及基板的姿势稳定并顺畅地传送。
[0015]本发明提供一种成膜装置用传送托盘，其以按基板的板厚方向成为水平方向或成为从水平方向倾斜的方向的方式将基板以直立的状态、或以从直立的状态倾斜的状态在与板厚方向交叉的方向上传送时，能够保持基板，所述成膜装置用传送托盘具备:上端部保持部，其保持基板的上端部；下端部保持部，其保持基板的下端部；及连结部，其连结上端部保持部及下端部保持部，上端部保持部的上端面形成有在传送方向上连续的槽部。
[0016]这种成膜装置用传送托盘能够适用于上述成膜装置。该成膜装置用传送托盘在上端部保持部的上端面形成有在传送方向上连续的槽部，因此能够将上述成膜装置的从动辊配置于槽部。伴随传送托盘的传送，槽部壁面与从动辊抵接，从动辊旋转。从动辊在基板传送时能够适宜地引导传送托盘的传送方向。
[0017]优选槽部在传送方向上的端部形成有以该槽部的宽度朝向端部而扩展的方式形成的倾斜部。该结构的成膜装置用传送托盘中，从动辊进入槽部时的入口侧端部的宽度较宽，越进入传送方向的内侧越变窄，因此能够减轻位置偏离的影响而顺畅地传送。即便产生传送托盘相对于从动辊的位置偏离，也能够防止从动辊的碰撞并进行传送。
[0018]可为下端部保持部的下端面设置有向传送方向延伸的轨道部的结构。若传送托盘的下端面设置有轨道部，则能够使传送托盘的行驶稳定化。
[0019]发明效果
[0020]本发明能够提供一种成膜装置，其能够实现驱动机构的简单化，并且降低粒子附着于基板的风险，抑制成膜基板的品质下降。
[0021]而且，本发明能够提供一种成膜装置用传送托盘，其能够适用于上述成膜装置，能够实现成膜装置的驱动机构的简单化，并且降低粒子附着于基板的风险，抑制成膜基板的品质下降。
【专利附图】

【附图说明】
[0022]图1是表示本发明的实施方式所涉及的成膜装置的概要侧视图。
[0023]图2是从侧方表示腔室内的截面图。
[0024]图3是从传送方向的前方表不成膜腔室内的截面图。
[0025]图4是表示传送托盘的上端部的截面图。
[0026]图5是表示传送托盘的下端部的截面图。
[0027]图6是表示传送托盘的上端部的俯视图。
[0028]图7是表示形成于传送托盘的上端部的倾斜部的俯视图。
[0029]图中:10_传送装置，11-传送棍，I Ia-凸缘部，I Ib-周面，12、13-从动辊，14-旋转轴，20-传送托盘，21-上端部保持部，22-下端部保持部，23-侧端部保持部(连结部)，26-轨道部，30-导向槽，32、33_导向板，32a、33a-壁面(槽部内的壁面)，51_顶板，52-底板，53-正面壁，54-背面壁，55-入侧壁，56-出侧壁，100-成膜装置，101-基板，121、125-过渡腔室(真空容器)，122、124-缓冲腔室(真空容器)，123-成膜腔室(真空容器)，140-蒸镀装置。
【具体实施方式】
[0030]参考附图对本发明所涉及的成膜装置进行说明。另外，“上”、“下”等表示方向的词基于附图所示的状态，为了便于理解而使用。而且，图1~图7中为了便于说明还示出XYZ直角坐标系。
[0031](成膜装置)
[0032]图1是表示本发明的实施方式所涉及的成膜装置100的概要侧视图。图1中，示出基板101 (参考图2)的传送方向Y的侧方。图1示出的成膜装置100为用于对基板101(例如玻璃基板)实施成膜等处理的装置。成膜装置100为进行基于例如RPD法(反应性等离子体蒸镀法)的成膜的装置。成膜装置100具备生成等离子体的等离子枪(140)，使用生成的等离子体，对成膜材料进行离子化，使成膜材料的粒子附着于基板101的表面，由此进行成膜。
[0033]成膜装置100能够适用于例如制造太阳能电池的太阳能电池制造装置、制造液晶显示元件的液晶显示元件制造装置、及制造平面输入元件(触控面板)的平面输入元件制造装置等。[0034]成膜装置100具备过渡腔室121、缓冲腔室122、成膜腔室(成膜室)123、缓冲腔室124及过渡腔室125。这些腔室121~125依次排列配置。所有腔室121~125由真空容器构成，腔室121~125的出入口设置有开闭闸131~136。成膜装置100可为排列有多个缓冲腔室122、124、成膜腔室123的结构。
[0035]各真空腔室121~125上连接有用于将内部设为适当的压力的真空泵(未图示)。而且，各真空腔室121~125内设置有多个(例如2个)用于监视腔室内的压力的真空仪(未图示)。各腔室121~125连通有与真空泵连接的真空排气管，该真空排气管上设置有真空仪。
[0036]如图2所示，成膜装置100设置有用于传送保持基板101的传送托盘20的传送装置10。传送装置10为在真空腔室121~125内以使基板101及传送托盘20直立的状态传送的装置(详细内容进行后述)。
[0037]接着，参考图1，对各种真空腔室121~125进行说明。过渡腔室121为如下腔室:打开设置于入口侧的开闭闸131，由此开放在大气中，导入被处理的基板101及保持该基板101的传送托盘20。过渡腔室121的出口侧经开闭闸132与缓冲腔室122的入口侧连接。
[0038]缓冲腔室122为如下压力调整用腔室:打开设置于入口侧的开闭闸132，由此与过渡腔室121连通，导入通过过渡腔室121后的基板101。缓冲腔室122的出口侧经开闭闸133与成膜腔室123的入口侧连接。而且，缓冲腔室122设置有用于对基板101进行加热的加热器(未图示)。该加热器对基板101的成膜面(被成膜的面)进行加热，并与成膜面对置配置。本实施方式中，基板101以直立状态配置，因此成膜面沿着上下方向配置。缓冲腔室122中，基板温度加热成为例如200°C左右。缓冲腔室122设置于成膜腔室123的前级，作为对基板101进行加热的加热用腔室发挥作用。
[0039]作为加热器，能够使用例如灯式加热器。灯式加热器呈棒状，向上下方向Z延伸。灯式加热器在缓冲腔室122内设置有多个(例如12个)，并且在传送方向Y上隔着预定的间隔而配置。加热器的热量传热至基板101，对基板101进行加热。
[0040]成膜腔室123为如下处理腔室:打开设置于入口侧的开闭闸133，由此与缓冲腔室122连通，导入通过缓冲腔室122后的基板101及传送托盘20，在基板101成膜薄膜层。成膜腔室123的出口侧经开闭闸134与缓冲腔室124的入口侧连接。如图3所示，成膜腔室123设置有用于在基板101将成`膜材料(薄膜层)成膜的蒸镀装置140。蒸镀装置140由保持成膜材料的主炉缸、及将等离子射束照射于主炉缸的等离子枪等构成。而且，成膜腔室123设置有用于对基板101进行加热的加热器。该加热器设置成例如从基板101的背面IOlf(成膜面IOle相反侧的面)侧对基板101进行加热。成膜腔室123中，基板温度维持在例如200 °C左右。
[0041]图1示出的缓冲腔室124为如下压力调整用腔室:打开设置于入口侧的开闭闸134，由此与成膜腔室123连通，导入通过成膜腔室123成膜后的基板101及保持所述基板的传送托盘20。缓冲腔室124的出口侧经开闭闸135与过渡腔室125的入口侧连接。而且，缓冲腔室124设置有用于对基板101进行冷却的冷却板(未图示)。该冷却板对基板101的成膜面进行冷却，并与基板101的成膜面对置配置。也可为具备从基板101的背面IOlf侧对基板101进行冷却的冷却板的结构。缓冲腔室124中，基板温度冷却成例如120°C左右。缓冲腔室124设置于成膜腔室123的后级，并作为对基板101进行冷却的冷却用腔室发挥作用。另外，也可为缓冲腔室124内未设置冷却机构的结构。也可为在从真空腔室出来之后的大气压环境下，通过大气对基板101进行冷却(空冷)的结构。
[0042]冷却板作为对基板101进行冷却的冷却机构发挥作用。冷却板例如由铜板形成，呈板状，并以与基板101对置的方式配置。冷却板设置有使冷却水流通的冷却管(未图示)。基板101的热量传热至冷却板，传递至冷却板的热量传热至冷却管，冷却管通过在管内流过的冷却水冷却。由此，冷却板被冷却而冷却基板101。[0043]过渡腔室125为如下腔室:打开设置于入口侧的开闭闸135，由此与缓冲腔室124连通，导入通过缓冲腔室124后的基板101。过渡腔室125的出口侧设置有开闭闸136，打开开闭闸136，由此过渡腔室125开放在大气中。过渡腔室125中，通过大气开放而进行空冷，在基板101被传送至腔室外的时刻冷却成100°C以下。
[0044](传送托盘)
[0045]接着，参考图2~图7，对本实施方式的成膜装置100中使用的传送托盘20进行说明。当以使基板101直立的状态传送时，传送托盘20保持基板101。使基板101直立的状态是指基板101的板厚方向X成为水平方向的状态。此时，基板101的成膜面沿着上下方向Z配置。另外，也可为以从基板101直立的状态倾斜的状态来保持基板101的结构。基板101的板厚方向X既可为大致水平的方向，也可从水平方向倾斜。板厚方向X为与上下方向Z正交且与基板101的传送方向Y正交的方向。
[0046]如图2所示，传送托盘20作为保持基板101的端部的矩形的框体形成。传送托盘20具备:上端部保持部21,其保持基板101的上端部IOla ;下端部保持部22,其保持基板101的下端部IOlb ;及I对侧端部保持部23，其保持基板101的侧端部101c。本实施方式的传送托盘20构成为保持I个基板101。传送托盘20也可为能够保持多个(例如2个)基板101的结构。传送托盘可保持基板101的边缘部的整周，也可保持基板101的边缘部的局部。作为上端部保持部21、下端部保持部22、侧端部保持部23的材质，能够使用例如不锈钢。
[0047](上端部保持部)
[0048]上端部保持部21沿着基板101的上端部IOla配置。如图4所示，上端部保持部21具备:支承板21a，其支承基板101 ;及基板按压部件21b，其用于相对于支承板21a保持基板101。
[0049]支承板21a从基板101的成膜面IOle的相反侧支承基板101的上端部101a。基板按压部件21b通过从成膜面IOle侧按压基板101的上端部IOla来保持基板101。基板101的上端部IOla从板厚方向X的两侧被支承板21a及基板按压部件21b夹持。上端部保持部21为能够防止基板101的位置偏离的结构即可。
[0050](导向槽)
[0051]如图4、图6、图7所示，上端部保持部21的顶面(上端面)21c形成有用于规定传送托盘20的传送方向(Y方向)的导向槽30。导向槽30构成为后述的从动棍12、13 (导向辊)能够进入。导向槽30在Y方向上遍及上端部保持部21的整个长度而形成。导向槽30以向下方凹陷的方式形成。导向槽30可例如通过对上端部保持部21的顶面21c进行切削而形成，也可通过组装多个部件而形成。
[0052]上端部保持部21具有从支承基板101的支承板21a向上方突出的I对导向板32、33。I对导向板32、33在X方向上对置配置。I对导向板32、33的相对置的壁面32a、33a为导向槽30内的I对壁面。I对导向板32、33例如通过螺栓34固定于主体31。另外，图6及图7中，省略螺栓34的图示。
[0053](倾斜部)
[0054]图7是表示形成于传送托盘20的上端部的倾斜部的俯视图。如图7所示，上端部保持部21的导向槽30内形成有倾斜部32b、33b。倾斜部32b、33b形成于I对导向板32、33的Y方向的端部。倾斜部32b、33b以导向槽30的宽度朝向Y方向的端部而扩展的方式形成。倾斜部32b、33b以导向槽30的宽度朝向Y方向的中央变窄的方式形成。导向板32、33的相对置的壁面32a、33a形成为除倾斜部32b、33b以外平行。
[0055](下端部保持部)
[0056]如图2所示，下端部保持部22沿着基板101的下端部IOlb配置。下端部保持部22与上端部保持部21在上下方向(Z方向)上对置配置。如图5所示，下端部保持部22具备:支承板22a，其支承基板101 ;及基板按压部件22b，其用于相对于支承板22a保持基板101。[0057]支承板22a从基板101的成膜面IOle的相反侧支承基板101的下端部101b。基板按压部件22b通过从成膜面IOle侧按压基板101的下端部IOlb来保持基板101。基板101的下端部IOlb从板厚方向X的两侧被支承板22a及基板按压部件22b夹持。下端部保持部22为能够防止基板101的位置偏离的结构即可。
[0058]下端部保持部22的下端面设置有向传送方向Y延伸且能够与传送辊11的周面Ilb抵接的轨道部26。轨道部26遍及传送托盘20的长边方向Y的整个长度直线形成。传送托盘20设置有轨道部26，因此能够使传送托盘20的传送稳定化。作为轨道部26的材质，能够使用例如不锈钢。
[0059](侧端部保持部)
[0060]侧端部保持部23(连结部)沿着基板101的侧端部IOlc配置。与上端部保持部21及下端部保持部22相同，侧端部保持部23例如具备:支承板，其支承基板101 ;及基板按压部件，其用于相对于支承板保持基板101。侧端部保持部23为能够防止基板101的位置偏离或变形的结构即可。另外，I对侧端部保持部23对上端部保持部21及下端部保持部22的Y方向的端部彼此进行连结，并形成矩形的框体。上端部保持部21、下端部保持部22及侧端部保持部23可为一体成形，也可为连接分体的部件而成。
[0061]如图2~图5所示，传送托盘20形成有使基板101的背面IOlf (成膜面IOle的相反侧的面)露出的开口部25。开口部25例如被上端部保持部21、下端部保持部22及I对侧端部保持部23包围而形成。传送托盘20上形成有开口部25，因此能够使基板101的加热效率及冷却效率提高。
[0062](真空腔室)
[0063]接着，参考图2及图3，对真空腔室121~125进行说明。真空腔室121~125呈箱型，且具备顶板51、底板52、正面壁53(参考图1)、背面壁54、入侧壁55及出侧壁56。顶板51及底板52是在上下方向Z上对置配置的壁体。入侧壁55及出侧壁56是在传送方向Y上对置配置的壁体。入侧壁55是基板101及传送托盘20被搬入真空腔室121~125内的一侧即入口侧壁体。出侧壁56是基板101及传送托盘20向真空腔室121~125外搬出的一侧即出口侧壁体。正面壁53及背面壁54是在基板101的板厚方向X上对置配置的壁体。另外，图3中，省略正面壁53的图示。
[0064]入侧壁55上形成有用于将传送托盘20及基板101搬入真空腔室121~125内的入口(开口部)55a。出侧壁56上形成有用于将传送托盘20及基板101向真空腔室121~125外搬出的出口 (开口部)56a。
[0065]图3中示出成膜腔室123的截面。成膜腔室123以背面壁54向外方(向与基板101的相反侧)突出的方式配置来形成有凹部54a。该凹部54a内配置有上述蒸镀装置140。成膜腔室123中，通过等离子枪生成等离子体，对保持于主炉缸的成膜材料进行加热而使其蒸发。成膜材料蒸发而被离子化，成膜材料的粒子向凹部54a内扩散。向凹部54a内扩散的成膜材料的粒子朝向基板101飞行，并附着于基板101的表面(成膜面101e)。
[0066]顶板51及底板52在传送方向Y的一侧的端部，与入侧壁55接合，在传送方向Y的另一侧的端部，与出侧壁56接合。正面壁53及背面壁54在传送方向Y的一侧的端部，与入侧壁55接合，在传送方向Y的另一侧的端部，与出侧壁56接合。顶板51及底板52在正面侧与正面壁53接合，在背面侧与背面壁54接合。这些壁体51~56例如通过焊接结合成一体。另外，为了进行成膜腔室123内的维修，可将局部壁体(例如，正面壁53)进行铰链结合而设为开闭自如的结构。
[0067](传送装置)
[0068]接着，对传送基板101的传送装置10进行说明。如图2及图3所示，传送装置10具备:多个传送辊11，配置于基板101的下端侧；及多个从动辊12、13，配置于基板101的上端侧。
[0069]如图2、图3及图5所示，多个传送辊11在传送方向Y上以预定的间隔配置。如图5所示，传送辊11固定于向X方向延伸的旋转轴14。旋转轴14通过I对轴承62被支承为能够旋转。底板52上固定有用于支承I对轴承62的支承部61。
[0070]如图3所示，真空腔室121~125的背面壁54上形成有用于插通旋转轴14的开口部54b。开口部54b上设置有轴封装置15，所述轴封装置将旋转轴14支承为能够旋转，并密封真空腔室内与外部环境之间。作为轴封装置15，能够使用例如磁性流体轴承。旋转轴14贯穿背面壁54并从真空腔室121~125的内部向外部延伸。另外，旋转轴14可为作为一体物而构成的轴，也`可为通过在轴线方向上连结多个部件而构成的轴。
[0071]真空腔室121~125的外部设置有用于旋转驱动旋转轴14的驱动源(例如电动马达)16。从驱动源16输出的驱动力通过具有传送带轮17及环状传送带18的动力传递机构向多个旋转轴14传递。旋转轴14的配置于真空腔室121~125外部的端部上安装有多个传送带轮17。在传送方向Y上邻接的旋转轴14上设置的传送带轮17上架设有环状传送带18。与此相同，驱动源16的输出轴上安装有传送带轮17，输出轴的传送带轮17及安装于邻接的旋转轴14的传送带轮17上架设有环状传送带18。由此，能够分配由驱动源16输出的驱动力并使多个旋转轴14旋转驱动。另外，动力传递机构不限定于具备环状传送带18及传送带轮17的机构，也可为其他动力传递机构。可为例如具备链条及链轮的机构，也可为具备其他动力传递轴等的机构。
[0072]而且，如图5所示，传送辊11具有I对凸缘部11a，所述I对凸缘部配置成向该传送辊11的径向外侧突出，并且在旋转轴14的轴线方向(X方向)上对置且夹持传送托盘20的下端部保持部22 (轨道部26)的两侧。凸缘部Ila与传送托盘20的轨道部26的侧面(在X方向上对置的面)抵接而限制传送托盘20的位置。
[0073]接着，对从动辊12、13进行说明。从动辊12、13在传送方向Y上以预定的间隔配置。如图4所示，从动辊12 (13)能够旋转地支承于向Z方向延伸的固定轴71上。另外，图4中，仅示出第I从动辊12，但第2从动辊13也为相同结构。作为从动辊12、13，能够使用滚动轴承。如图2及图3所示，固定轴71被支承于固定在顶板51上的支承部件72。支承部件72向传送方向Y延伸，并支承多个固定轴71。从动辊12、13不限定于滚动轴承，可为其他旋转体。为了在与传送托盘20的接触时的旋转无冲击地顺畅进行，优选从动辊12、13的旋转惯性较小。
[0074]如图6所示，从动辊12、13具有配置于在X方向上不同的位置的第I从动辊12及第2从动辊13。若从Z方向观察，从动辊12、13交错配置。第I从动辊12配置在能够与配置于X方向的一侧的导向板32的壁面32a抵接的位置。第2从动辊13配置在能够与配置于X方向的另一侧的导向板33的壁面33a抵接的位置。从动辊12、13未与驱动装置连结。当与传送托盘20的壁面32a、33a接触时，从动辊12、13随着与其周面抵接的传送托盘20的壁面32a、33a的移动而旋转。
[0075]第I从动辊12的旋转中心O12配置于轴线L12上，第2从动辊13的旋转中心O13配置于轴线L13上。轴线L12、L13配置于在X方向上不同的位置。
[0076]第I从动辊12与导向板32的壁面32a抵接，并伴随传送托盘20的移动而旋转。第2从动辊13与导向板33的壁面33a抵接，并伴随传送托盘20的移动而旋转。第I从动辊12及第2从动辊13在传送方向Y上交替配置。第I从动辊12及第2从动辊13可为并非在传送方向Y上交替配置的辊。例如可在传送方向Y上，配置2个第I从动辊12之后，再配置2个第2从动辊13。
[0077]第I从动辊12及第2从动辊13的外径比导向槽30的宽度W3tl小。第I从动辊12与导向板33之间形成有预定间隙屯。第2从动辊13与导向板32之间形成有预定间隙d2。
[0078]而且，在X方向 上，第I从动辊12的周面最靠壁面32a侧(槽部的I对壁面的一侧)的位置与第2从动辊13的周面最靠壁面33a侧(槽部的I对壁面的另一侧)的位置的距离W1比导向槽30的I对导向板32、33间(槽部的I对壁面间)的距离W3tl小。
[0079]接着，对本实施方式的成膜装置100的作用进行说明。首先，基板101导入到过渡腔室121内。过渡腔室121内通过关闭开闭闸131、132而被设为密封状态，并被减压至预定压力。基板101在过渡腔室121内传送，并导入到邻接的缓冲腔室122内。
[0080]成膜装置100在导入有基板101的缓冲腔室122内对基板101进行加热。例如在导入基板101之前，缓冲腔室122内被加热至预定的温度。
[0081]基板101导入到缓冲腔室122内。缓冲腔室122内通过关闭开闭闸132、133而被设为密封状态，并被减压至预定压力(与成膜腔室123相同的压力)。在基板101被加热至适于成膜的温度之后，基板101在缓冲腔室122内传送，并导入到邻接的成膜腔室123内。
[0082]在导入基板101之前，成膜腔室123内设为适合于成膜的减压状态。若基板101导入到成膜腔室123内，则开闭闸133、134被关闭而设为密封状态。而且，成膜腔室123内通过加热器加热，成为维持基板温度的状态。另外，基板101上进行成膜处理，基板101上成膜金属膜(薄膜层)。
[0083]成膜装置100在导入有基板101的缓冲腔室124内对基板101进行冷却。例如在导入基板101之前，缓冲腔室124内被冷却至预定的温度。另外，可不在缓冲腔室124内执行冷却。
[0084]基板101导入到缓冲腔室124内。缓冲腔室124内通过关闭开闭闸134、135而被设为密封状态，并被减压至预定压力。基板101被冷却之后，基板101在缓冲腔室124内被传送,并导入到邻接的过渡腔室125内。[0085]打开开闭闸136，过渡腔室125内向大气开放，由此冷却基板101。基板101被冷却之后，基板101在过渡腔室125内传送，并向过渡腔室125外导出。
[0086]成膜装置100中，由驱动源16输出的驱动力利用传送带轮17及环状传送带18而传递，由此传送辊11旋转。通过旋转驱动传送辊11，对保持基板101的传送托盘20进行传送。传送托盘20通过在传送方向Y上配置的多个传送辊11驱动，在各真空腔室121~125内移动。
[0087]成膜装置100中，在与导向板32、33接触时，配置于真空腔室121~125的上部侧的从动棍12、13伴随传送托盘20的传送而旋转。此时,第I从动棍12仅与一侧的导向板32抵接而旋转。即，第I从动辊12向相同方向旋转。第2从动辊13仅与另一侧的导向板33抵接而旋转。即，第2从动辊13向相同方向旋转。相同的从动辊12、13仅向相同方向旋转，由此不阻碍基板传送而稳定地引导传送托盘20。
[0088]第I从动辊12与导向槽30的壁面32a抵接，第2从动辊13与导向槽30的壁面33a抵接，由此 能够使直立状态的传送托盘20及基板101的姿势稳定。
[0089]这种成膜装置100中，具备对基板101及传送托盘20进行传送的多个传送辊11，因此能够设为简单结构的装置。与以往的齿条小齿轮方式的驱动机构比较，能够设为简单的结构。而且，成膜装置100中，传送辊11配置于真空腔室121~125的底板52侧(比基板101的下端更靠下方)，因此即使伴随传送辊11的旋转而产生粒子，也降低粒子附着于比传送辊11更靠上方而配置的基板101的可能性。由此，能够降低粒子附着于基板101的风险，抑制成膜基板的品质下降。
[0090]传送辊11上形成有凸缘部11a，因此能够使传送托盘20相对于传送辊11的位置稳定。由此，能够使传送托盘20及基板101的姿势稳定，并顺畅地传送。传送辊11上设置有凸缘部11a，因此无需在基板101的下部侧设置用于规定X方向上的位置的侧辊或其他导向辊。因此，能够设为简单的结构。
[0091]成膜装置100为从动辊12、13与形成于传送托盘20的上端部的I对导向板32、33抵接而旋转的结构，因此能够从上方限制传送托盘20的位置，防止传送托盘20的倾倒。由此，能够稳定且顺畅地传送传送托盘20及基板101。
[0092]而且，构成为从动辊12、13配置于导向槽30内，从动辊12、13与未成膜的部分抵接。通过成膜腔室123之后的传送托盘20的外面侧附着有成膜材料，因此若辊与传送托盘20的外面接触，则成膜材料剥离，而产生粒子。本实施方式中，从动辊12、13与导向槽30内的壁面32a、33a接触，因此能够抑制粒子的产生。
[0093]多个从动辊12、13具备--第I从动辊12，其与一侧的导向板32抵接；及第2从动辊13，其与另一侧的导向板33抵接，第I从动辊12及第2从动辊13在传送方向Y上交替配置，因此传送中的传送托盘20与第I从动辊12及第2从动辊13交替抵接。由此，能够进一步使传送托盘20及基板101的姿势稳定而顺畅地传送。由此，能够实现传送速度的提高。从动辊12、13在旋转时，始终分别向不同方向旋转，因此从动辊12、13的旋转方向不会向逆旋转转换，能够减小传送托盘20被传送时的摩擦阻力。因此，能够实现传送托盘20的顺畅的传送。
[0094]成膜装置100中，在X方向上，第I从动辊12的周面最靠壁面32a侧的位置与第2从动辊13的周面最靠壁面33a侧的位置的距离W1比导向槽30的I对壁面32a、33a间的距离W3tl小。由此，容许传送托盘20相对于从动辊12、13的位置偏离，能够稳定且顺畅地传送传送托盘20及基板101。进而，能够减轻从动辊12、13与导向槽30的壁面32a、33a之间的摩擦阻力，提高传送速度。
[0095]本实施方式的传送托盘20在上端面21c形成有在传送方向Y上连续的导向槽，因此能够将成膜装置100的从动辊12、13配置于导向槽30内。伴随基板传送，导向槽30的壁面32a、33a与从动辊12、13抵接，从动辊12、13旋转，因此能够适宜地引导传送托盘20的传送。
[0096]而且，传送托盘20的导向槽30上形成有倾斜部32b、33b，因此能够使从动辊12、13进入导向槽30时的入口侧端部的宽度较宽，越进入传送方向的内侧越变窄。由此，即使产生传送托盘20相对于从动辊12、13的位置偏离，也能够防止从动辊12、13的碰撞并进行传送。
[0097]以上，根据其实施方式对本发明进行了具体说明，但本发明不限定于上述实施方式。本发明的成膜装置不限定于离子镀法，可适用其他成膜法(例如溅射法等)。
[0098]本发明的成膜装置及成膜装置用传送托盘不限定于使基板直立而传送，也可使基板倾斜而传送。例如可为通过使上述成膜装置及传送托盘倾斜来传送倾斜的基板的结构。也可为例如传送辊的周面以与旋转轴线交叉的方式形成的成膜装置及成膜装置用传送托盘。也可为使用使基板倾斜而支承的传送托盘来传送基板的成膜装置。使基板倾斜时的倾斜角度能够相对于铅垂方向设为0°~15°左右。
[0099]而且，成膜装置可为具有在其框体内具备密封真空容器的开口部的阀体的闸阀部，该闸阀部的框体内具备从动辊的结构。以往，在真空容器间配置的闸阀部的框体内的空间较小，因此无法设置传送机构。本发明的成膜装置中，在闸阀部的框体内设置从动辊并能够适宜地引导传送托盘及基板的传送方向。
[0100]而且，能够通过将从动辊的外径小径化来使传送托盘20的厚度变薄。由此，能够抑制传送托盘20所通过的开口部的大小。
【权利要求】
1.一种成膜装置，其对基板进行成膜处理，其中，所述成膜装置具备: 真空容器，其能够容纳所述基板；及 传送机构，其在所述真空容器内将保持所述基板的传送托盘在与所述基板的板厚方向交叉的传送方向上进行传送，且所述传送托盘以使所述基板的板厚方向成为水平方向或成为从水平方向倾斜的方向的方式，以使所述基板直立的状态、或以使所述基板从直立的状态倾斜的状态来保持所述基板， 所述传送机构具有: 多个传送辊，其配置于所述基板的下端侧，绕沿着所述板厚方向延伸的第I轴线旋转，并对所述传送托盘进行传送；及 多个从动辊，其配置于所述基板的上端侧，绕沿着与所述板厚方向及所述传送方向交叉的方向延伸的第2轴线旋转， 所述传送托盘的上端面形成有沿着所述传送方向连续的槽部， 所述从动辊与所述槽部内的壁面抵接且伴随所述传送托盘的移动而旋转。
2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中， 所述传送托盘的下端面设置有向所述传送方向延伸且能够与所述传送辊的周面抵接的轨道部。
3.根据权利要求2所述的 成膜装置，其中， 所述多个从动辊具备:第I从动辊，其与所述槽部内的I对壁面中的一个壁面抵接；及 第2从动辊，其与所述槽部内的I对壁面中的另一个壁面抵接； 所述第I从动辊及所述第2从动辊在所述传送方向上交替配置。
4.根据权利要求3所述的成膜装置，其中， 在所述板厚方向上，所述第I从动辊的周面中最靠所述I对壁面中的一个壁面侧的位置与所述第2从动辊的周面中最靠所述I对壁面中的另一个壁面侧的位置的距离比所述槽部的I对壁面间的距离小。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的成膜装置，其中， 所述传送辊具有I对凸缘部，所述I对凸缘部配置成向该传送辊的径向外侧突出，并且在所述第I轴线方向上对置且夹持所述传送托盘的两侧。
6.根据权利要求1~4中任一项所述的成膜装置，其中， 所述成膜装置具备闸阀部，所述闸阀部具备能够密封所述真空容器的所述传送托盘所通过的开口部的阀体， 所述闸阀部上设置有所述从动辊。
7.一种成膜装置用传送托盘，其以按基板的板厚方向成为水平方向或成为从水平方向倾斜的方向的方式将所述基板以直立的状态、或以从直立的状态倾斜的状态在与所述板厚方向交叉的传送方向上传送时，能够保持所述基板，其中，所述成膜装置用传送托盘具备: 上端部保持部，其保持所述基板的上端部； 下端部保持部，其保持所述基板的下端部 '及 连结部，其连结所述上端部保持部及下端部保持部， 所述上端部保持部的上端面形成有在传送方向上连续的槽部。
8.根据权利要求7所述的成膜装置用传送托盘，其中，所述槽部在所述传送方向上的端部形成有倾斜部，所述倾斜部以该槽部的宽度朝向所述端部扩展的方式形成。
9.根据权利要求7或8所述的成膜装置用传送托盘，其中， 所述下端部保持部的下端`面设置有向所述传送方向延伸的轨道部。
【文档编号】C23C14/00GK103526156SQ201310263451
【公开日】2014年1月22日 申请日期:2013年6月27日 优先权日:2012年7月5日
【发明者】饭尾逸史 申请人:住友重机械工业株式会社