专利名称：连续沉积系统的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种连续沉积系统，特别涉及一种可用于处理大面积基板的的连续沉积系统。
背景技术：
薄膜太阳能电池在弱光条件下仍可发电，其生产过程能耗低，具备大幅度降低原料和制造成本的潜力，因此，市场对薄膜太阳能电池的需求正逐渐增长，而制造薄膜太阳能电池的技术和设备更成为近年来的研究热点。低压化学气相连续沉积系统是常用的薄膜太阳能电池制造设备，通常低压化学气相沉积系统包括依次线性设置的装载台、加载腔、多个低压化学气相沉积腔、卸载腔和卸载台。待处理基板从所述装载台加载到所述低压化学气相连续沉积系统，如通过人工搬运方式或通过机械手将基板放置在装载台上。放置在装载台上的基板被传输到所述加载腔中。 基板进入到加载腔后，加载腔中的气压降低，同时，加载腔对所述基板进行预热。当加载腔完成降压，和对基板的预热后，基板被传送到所述多个沉积腔中进行低压化学气相沉积处理。完成低压化学气相沉积处理的基板被传输到所述卸载腔。所述卸载腔对所述基板进行冷却，并同时升高卸载腔中的气压。冷却后的基板从卸载腔输出到卸载台，基板在卸载台卸载。用于制作薄膜太阳能电池的基板通常都是面积大于0. 5平方米的大面积基板。在基板传输的过程中，由于基板的面积较大，基板被放置在装载台上时，只要基板的摆放位置稍有偏差；或由于传输过程中的传输部件存在偏差，而导致基板在传输过程中稍为偏离其预定位置；就会导致基板与低压化学气相沉积腔或加载/卸载腔之间的碰撞，进而损坏所述基板。因此，在现有技术的连续沉积系统中，因各种原因而产生的基板位置偏差，都极容易引起基板与处理系统中各腔室的碰撞损伤，从而降低了生产效率和产品的优良率。
实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种连续沉积系统，以防止现有技术中大面积基板因在传输中发生位置偏移而碰撞损伤的问题。为达上述目的，本实用新型提供一种用于处理大面积基板的连续沉积系统，其包括依次设置的装载台、两个以上沉积腔以及卸载台；其中，所述装载台和所述卸载台分别用于装载和卸载大面积基板，所述装载台和所述卸载台中至少一个具有基板检测调节机构； 所述基板检测调节机构包括检测机构和位置调节机构；所述检测机构检测所述基板位置； 所述位置调节机构根据所述检测机构的检测结果调节所述基板相对所述装载台或卸载台的位置。优选的，所述装载台和所述卸载台包括用于传输基板(11)的传输导轨、传输带、传输辊或传输滚子。[0009]优选的，所述检测机构包括至少两个位置检测器，所述位置检测器设置在所述装载台或卸载台的同一侧；所述位置检测器通过检测所述基板的边缘到所述位置检测器的距离或通过检测所述基板上固定点的位置来确定所述基板的位置。优选的，所述检测机构包括设置在所述装载台或卸载台两侧的位置检测器，其中至少一侧设置有至少两个位置检测器；所述位置检测器通过检测所述基板的边缘到所述位置检测器的距离或通过检测所述基板上固定点的位置来确定所述基板的位置。优选的，所述位置检测器为红外测距装置或图像检测装置。优选的，所述位置调节机构包括多个位置调节器；在所述装载台或卸载台的两侧分别设置有至少两个位置调节器，所述位置调节器用于驱动所述基板调整位置。优选的，所述位置调节器包括推杆和驱动该推杆的汽缸或电机。优选的，所述基板检测调节机构还包括一控制机构，所述控制机构包括一处理器， 以及与所述处理器连接的一驱动控制器；其中，所述处理器与所述检测机构连接并对所述检测机构检测到的基板位置信息进行处理；所述驱动控制器与所述位置调节机构连接，并根据所述处理器的处理结果驱动所述位置调节机构。优选的，所述沉积腔为低压化学气相沉积腔；所述连续沉积系统还包括二乙基锌源装置和水蒸气源装置，所述二乙基锌源装置和所述水蒸气源装置连接所述低压化学气相沉积腔，用于向所述低压化学气相沉积腔分别提供二乙基锌气体和水蒸气。使用本实用新型所提供的连续沉积系统，当基板在被送入各腔室之前的装载台处或当基板在各腔室内被处理完毕送出至卸载台处时，能及时检测并调整基板的位置，消除基板相对装载台或卸载台的位置偏差，保证基板处于预设的理想位置，因此可有效避免大面积基板因位置偏移而与腔室发生碰撞，导致损伤甚至损坏，大大提高了生产效率和产品的优良率。
图1是本实用新型中连续沉积系统的结构示意图。图2是本实用新型中装载台的俯视图。图3是图2所示装载台沿II-II线的剖面示意图。图4是本实用新型中控制机构的结构示意图。
具体实施方式
以下结合图1 图4，详细说明本实用新型的具体实施方式
。请参阅图1，本实用新型所述的连续沉积系统是用于处理大面积基板，本实用新型中所指的大面积基板特指面积在0. 5平方米以上的基板，所述连续沉积系统包括依次设置的装载台1、加载腔3、两个以上的沉积腔5、卸载腔4以及卸载台2。其中，所述装载台1和所述卸载台2分别用于装载和卸载大面积玻璃基板。请同时参阅图2和图3，所述装载台1 上包括基板检测调节机构和传输机构12。基板被放置在装载台1处后，所述基板检测调节机构和控制机构对其进行位置检测和位置调节，随后，传输机构12将基板11传输至连续沉积系统的各个腔室内进行处理，最后基板11被送至卸载台2。其中，沉积腔5优选为低压化学气相沉积腔；所述连续沉积系统还包括二乙基锌源装置和水蒸气源装置，所述二乙基锌源装置和所述水蒸气源装置连接所述低压化学气相沉积腔5，用于向所述低压化学气相沉积腔5分别提供二乙基锌气体和水蒸气。请再次参阅图2和图3，并同时参阅图4，所述传输机构12可以是两排平行设置的传输导轨、传输带、传输辊或传输滚子。所述传输机构12的所述两排平行设置的传输导轨、 传输带、传输辊或传输滚子之间的间距小于所述基板11的宽度。所述传输机构12用于将基板11由装载台1传输至加载腔3内。所述基板检测调节机构包括检测机构13和位置调节机构14。其中，所述检测机构13包括至少两个位置检测器131，所述位置检测器131通过检测所述基板11的边缘到所述位置检测器131的距离或通过检测所述基板11上固定点的位置来确定所述基板11的位置，并形成相应的检测信号。所述位置检测器131可以是红外测距装置，或是图像检测装置。在本实用新型的一个优选实施例中，所述位置检测器131可以设置在所述装载台 1的同一侧。在本实用新型的另一个优选实施例中，所述位置检测器131可以设置在所述装载台1的两侧，且所述装载台1的至少一侧设置有至少两个位置检测器131。所述位置调节机构14根据所述检测机构13的检测结果调节所述基板11相对所述装载台1的位置。所述位置调节机构14包括多个位置调节器141 ；在所述装载台1的两侧分别设置有至少两个位置调节器141，所述位置调节器141用于推动所述基板11从而调整基板11的位置，消除基板11相对装载台1的位置偏差。所述位置调节器141包括推杆和驱动该推杆的汽缸、电机或其他候服机构，所述推杆在所述汽缸、电机或其他候服机构的驱动下推动所述基板11。在本实施例中，如图2所示，在连续沉积系统的装载台1处，需要对基板11进行位置检测和调整定位。基板被放置在装载台1上的传输机构12上。在装载台1的两侧共设置4个位置检测器131和4个位置调节器141，每侧设置两个位置检测器131和两个位置调节器141，分别靠近基板11的四个角点位置。在本实用新型的其他优选实施例中，也可以在装载台1的每侧各设置更多的位置检测器131和更多的位置调节器141。请再次参阅图4，所述基板检测调节机构还包含控制机构15。所述控制机构15分别连接所述检测机构13和所述位置调节机构14。所述控制机构15包括一处理器151，以及与所述处理器151连接的一驱动控制器152。其中，所述处理器151与所述检测机构13 连接，所述处理器151接收由所述检测机构13输出的基板11在当前位置的检测信号，并对所接受的检测信号进行处理，生成对应的驱动信号。所述驱动控制器152与所述位置调节机构14连接，其接收由所述处理器151输出的驱动信号，并根据所接受的驱动信号控制所述位置调节机构14调节基板11的位置。以下详细说明本实施例所述的连续沉积系统检测并调节基板位置的工作原理。在连续沉积系统中，基板11被放置在装载台1上，如图1所示，依次被传输至加载腔3、多个沉积腔5和卸载腔4进行相应处理，最终被传输至卸载台2。当基板11被放置在装载台1上时，所述检测机构13分别检测基板11的当前位置并形成相应的检测信号。所述检测机构13将所述检测信号传输至所述控制机构15中的处理器151，在所述处理器151内预先存储有一基板11相对于装载台1的理想位置预设值，所述处理器151将接收到的检测信号与所述基板11的理想位置预设值进行对比，生成所述基板11相对于所述装载台1或卸载台2的位置偏差信号，进一步，所述处理器151根据所述位置偏差信号生成对应的驱动信号，并输出至所述驱动控制器152。所述驱动控制器152根据接收到的驱动信号，分别驱动并控制所述位置调节机构 14调节基板11的位置，从而使所述基板11恢复到预设的理想位置，消除基板11相对装载台1的位置偏差。使用本实用新型所提供的连续沉积系统，当基板在被送入各腔室之前的装载台处时，能及时检测并调整基板的位置，消除基板相对装载台的位置偏差，保证基板处于预设的理想位置，因此可有效避免大面积基板因位置偏移而与腔室发生碰撞，导致损伤甚至损坏， 大大提高了生产效率和产品的优良率。本实用新型并不限于上述实施方式所述，如所述卸载台2中也可以具有与上述实施方式中装载台相同的结构，当基板11在各腔室内被处理完毕送出至卸载台2处时，能及时检测并调整基板11的位置，消除基板11相对卸载台2的位置偏差，保证基板11处于预设的理想位置，因此可有效避免基板因位置偏移，导致损伤甚至损坏。或所述卸载台2中具有与上述实施方式中装载台相同的结构，而在所述装载台1中没有所述基板检测调节机构。如此，当基板11在各腔室内被处理完毕送出至卸载台2处时，可以及时检测并调整基板11的位置，防止卸载基板11用的机械手因基板11相对卸载台2的位置偏差而与卸载基板11用的机械手发生碰撞。尽管本实用新型的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本实用新型的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本实用新型的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本实用新型的保护范围应由所附的权利要求来限定。
权利要求1.一种用于处理大面积基板的连续沉积系统，其包括依次设置的装载台(1)、两个以上沉积腔(5)以及卸载台(2)，所述装载台(1)和所述卸载台(2)分别用于装载和卸载基板 (11)，其特征在于所述装载台(1)和所述卸载台(2)中至少一个具有基板检测调节机构；所述基板检测调节机构包括检测机构(13)和位置调节机构(14)；所述检测机构(13)检测所述基板(11)的位置；所述位置调节机构(14)根据所述检测机构(13)的检测结果调节所述基板(11)相对所述装载台(1)或卸载台(2)的位置。
2.如权利要求1所述连续沉积系统，其特征在于，所述装载台(1)和所述卸载台(2)包括用于传输基板(11)的传输导轨、传输带、传输辊或传输滚子。
3.如权利要求1所述连续沉积系统，其特征在于，所述检测机构(13)包括至少两个位置检测器(131)，所述位置检测器(131)设置在所述装载台(1)或卸载台(2)的同一侧，所述位置检测器(131)通过检测所述基板(11)的边缘到所述位置检测器(131)的距离或通过检测所述基板(11)上固定点的位置来确定所述基板(11)的位置。
4.如权利要求1所述连续沉积系统，其特征在于，所述检测机构(13)包括设置在所述装载台(1)或卸载台(2)两侧的位置检测器(131)，其中至少一侧设置有至少两个位置检测器(131)，所述位置检测器(131)通过检测所述基板(11)的边缘到所述位置检测器(131)的距离或通过检测所述基板(11)上固定点的位置来确定所述基板(11)的位置。
5.如权利要求3或4所述连续沉积系统，其特征在于，所述位置检测器(131)为红外测距装置或图像检测装置。
6.如权利要求3或4所述连续沉积系统，其特征在于，所述位置调节机构(14)包括多个位置调节器(141);在所述装载台(1)或卸载台(2)的两侧分别设置有至少两个位置调节器(141 )，所述位置调节器(141)用于驱动所述基板(11)调整位置。
7.如权利要求6所述连续沉积系统，其特征在于，所述位置调节器(141)包括推杆和驱动该推杆的汽缸或电机。
8.如权利要求1所述连续沉积系统，其特征在于，所述基板检测调节机构还包括一控制机构(15)，所述控制机构(15)包括一处理器(151)，以及与所述处理器(151)连接的一驱动控制器(152);其中，所述处理器(151)与所述检测机构(13)连接并对所述检测机构(13)检测到的基板位置信息进行处理；所述驱动控制器(152)与所述位置调节机构(14)连接，并根据所述处理器(151)的处理结果驱动所述位置调节机构(14)。
9.如权利要求1所述连续沉积系统，其特征在于，所述沉积腔(5)为低压化学气相沉积腔，所述连续沉积系统还包括二乙基锌源装置和水蒸气源装置，所述二乙基锌源装置和所述水蒸气源装置连接所述低压化学气相沉积腔，用于向所述低压化学气相沉积腔分别提供二乙基锌气体和水蒸气。
专利摘要本实用新型公开了一种连续沉积系统，其包括依次设置的装载台、两个以上沉积腔以及卸载台；其中，所述装载台和所述卸载台分别用于装载和卸载大面积基板，所述装载台和所述卸载台中至少一个具有基板检测调节机构；所述基板检测调节机构包括检测机构和位置调节机构；所述检测机构检测所述基板位置；所述位置调节机构根据所述检测机构的检测结果调节所述基板相对所述装载台或卸载台的位置。本实用新型在当基板在被送入各腔室之前的装载台处以及当基板在各腔室内被处理完毕送出至卸载台处时，能及时检测并调整基板的位置，保证基板处于预设的理想位置，因此可有效避免基板因位置偏移而与腔室发生碰撞，导致损伤甚至损坏，提高生产效率和产品的优良率。
文档编号C23C16/52GK202181352SQ20112020715
公开日2012年4月4日 申请日期2011年6月20日 优先权日2011年6月20日
发明者户高良二, 李一成, 赵函一 申请人:理想能源设备(上海)有限公司