专利名称：靶材装置的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种靶材装置，特别指一种能相对一基板的一待镀表面转动的靶 材装置。
背景技术：
如图1与图2所示，现有一真空溅镀设备的靶材装置1，包括三直立地间隔装设在 一腔体3中的长型遮蔽盒11以及三分别设置在该三遮蔽盒11中的靶材12。每一遮蔽盒 11具有一遮蔽板111，该遮蔽板111具有一直向延伸且对应该靶材12的长槽孔112，该长槽 孔112的一左、右侧边(以图2的方向说明，以下同)呈向内凹弧状，使得该长槽孔112整 体为上下较宽而中央相对窄缩的形状。于进行溅镀作业时，将一基板5直立式输入该腔体3中，使该基板5的一待镀表面 51平行间隔面对该三靶材12，接着施加高电压以驱动该基板5与该三靶材12间的辉光放 电效应，将放电气体高温离子化成等离子，等离子中的离子便会轰击靶材12，使得靶材12 材料的原子或分子溅飞出，并沉积、附着于该基板5的待镀表面51上以形成预定厚度的薄膜。虽然，有鉴于一般因靶材中央处的等离子浓度较高，溅射集中在靶材的中央区域， 使得靶材的中央区域过度侵蚀，并溅飞出较多量的分子/原子，而造成靶材的利用率差、使 用寿命短，与所形成薄膜品质不佳等现存问题，故而利用该遮蔽板111的遮挡，与该长槽孔 112的上下较宽而中间较窄的形状限制，使该基板5的待镀表面51各处所附着的原子/分 子数量趋于平均，以沉积形成出均勻厚度的薄膜。然而，自所述三靶材12溅飞出，却受到遮 蔽板111阻挡而无法到达该基板5的待镀表面51的分子/原子，便平白损耗无用，所以整 体来说，该靶材装置1不但于利用率上不够理想，且遮蔽板111的设计还会衍生设备成本的 提尚。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种利用率高、使用寿命长、设置成本较低廉，且镀膜品 质佳的靶材装置。本实用新型的靶材装置，设置在一座真空腔体中，并能面对输入该真空腔体内的 一块基板的一待镀表面，该靶材装置包括多支能相对该基板的待镀表面转动的旋转靶，所 述旋转靶与该基板的待镀表面等距地间隔平行排列，且每一旋转靶的一中心轴线与该基板 的行进方向相平行。本实用新型所述的靶材装置，每一旋转靶包括一个靶管座、一个容置在该靶管座 中且可绕该靶管座的一中心轴线转动的磁铁座以及一个能转动地设置在该靶管座的一端 面处且连结该磁铁座以带动其转动的分度盘座。本实用新型所述的靶材装置，该靶管座具有一根背管以及一块覆设在该背管的一 外管面上的靶材。[0009]本实用新型所述的靶材装置，该磁铁座具有一根环绕该靶管座的中心轴线且一端 连结该分度盘座的轴管、一个设置在该轴管的另一端处且围绕该轴管的弧形载块以及多个 间隔排列在该弧形载块的远离该轴管的一表面上的磁条。本实用新型所述的靶材装置，该分度盘座具有一个间隔设置在该靶管座的该端面 处且具有一个内环齿面的固定环板、一个能相对转动地叠设在该固定环板面对该靶管座的 一板面上且局部延伸入该靶管座中而连接该磁铁座的轴管的分度头、一个凸设在该分度头 的一端面上且卡掣在该固定环板的内环齿面上的定位销。本实用新型的有益效果在于利用所述旋转靶与该基板的待镀表面等距地间隔平 行排列、其中心轴线与该基板的行进方向相平行，且能相对该基板的待镀表面转动的设计， 整体能产生利用率高、使用寿命长、成本低廉且镀膜品质佳等功效。
图1是一俯视示意图，说明现有一靶材装置，其三直立式间隔排列的三靶材，平行 间隔面对一直立式基板的一待镀表面；图2是现有该靶材装置的一正视图；图3是一立体示意图，说明本实用新型的靶材装置的一第一较佳实施例的三横向 式上下相间排列的旋转靶面对一直立式基板的一待镀表面；图4是一端视图，说明该第一较佳实施例的其中一旋转靶，其一分度盘座与一磁 铁座的三磁条的位置关系；图5是图4的剖面线V-V的一局部剖视图；图6是一侧视示意图，说明该第一较佳实施例的三旋转靶相对该基板所分别呈现 的转动角度变化；图7是一立体示意图，说明本实用新型的靶材装置的一第二较佳实施例。
具体实施方式
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。如图3至图5所示，本实用新型的靶材装置的一第一较佳实施例，设置在一真空溅 镀设备的一真空腔体4中，并能平行间隔面对一块直立式输入该真空腔体4内的基板6的 一待镀表面61，以于该基板6的待镀表面61形成预定厚度的薄膜。有关真空溅镀设备的其 他相配合机件与溅镀作业过程原理，为该实用新型技术领域的普通技术人员所熟知，且非 属本实用新型的技术特征，于此不再详述。该靶材装置包括三支横置式地上下间隔排列在该真空腔体4中的圆柱形的旋转 靶2，所述三支旋转靶2与该基板6的待镀表面61等距离，且能相对该基板6的待镀表面 61转动，而且，所述三支旋转靶2的中心轴线与该基板6的行进方向平行。每一旋转靶2包括一能相对该基板6转动的圆管柱状的靶管座21、一设置在该靶 管座21中且能绕该靶管座21的一中心轴线摆转的磁铁座22以及一设置在该靶管座21的 一端部处且能控制该磁铁座22的摆动角度的分度盘座23。其中，该靶管座21具有一圆管 柱状的背管211以及一覆设在该背管211的一外管面上的靶材212 ；该分度盘座23具有一 设置在该靶管座21的该端部处且具有一内环齿面232的固定环板231、一能相对转动地叠设在该固定环板231的一板面上且与磁铁座22锁接在一起的分度头233以及一凸设在该 分度头233的一表面且可移动地卡掣在该内环齿面232上的定位销234，该定位销234与该 内环齿面232相配合以使该分度头233在转动某预定角度后定位。另外，该磁铁座22具有一同心容置在该靶管座21的背管211中且一端锁接该分 度头233的轴管221、一固设在该轴管221的另一端处且围绕该轴管221的弧形载块222以 及三间隔排列在该弧形载块222的远离该轴管221的一表面上的磁条223。因此，随着该分 度头233的转动，该轴管221会被带动而旋转，同时该弧形载块222与该三磁条223会被带 动而绕该背管211的中心轴线进行圆周运动。因此，于进行溅镀作业时，将该基板6直立地移送入该真空腔体4中后，启动高压 以在该基板6与该三旋转靶2间形成等离子，通过等离子中的离子轰击该三旋转靶2的靶 材212，溅射出的原子/分子会沉积在该基板6的待镀表面61上以形成薄膜；过程中，能控 制旋转靶2的分度头233转动一预定角度，以同步带动磁铁座22的磁条223偏摆该预定角 度，配合定位销234能卡掣在固定环板231的内环齿面232上，使得分度头233与磁条223 于转动该预定角度后稳固定位，用以能自由地改变、调整每一旋转靶2的磁条223相对于该 基板6的待镀表面61的角度位置，使等离子中的离子受制于电磁场而集中轰击靶材212的 表面特定区域，同时，再配合能控制旋转靶2的靶管座21相对该基板6转动的设计，如此一 来，不但能使旋转靶2的整个表面侵蚀很均勻，有效提高旋转靶2的利用率与使用寿命，更 重要的是，还能在该基板6的待镀表面61溅镀成形出高度均勻化的薄膜。如图7所示，为本实用新型的靶材装置的一第二较佳实施例，与上述该第一较佳 实施例不同处在于，该基板6平放式地移送入该真空腔体4中，而所述三支横置式的旋转靶 2则呈横向间隔平行排列，其中心轴线同样与该基板6的行进方向平行。所以，本实施例整 体当然也能产生利用率高、使用寿命长与镀膜品质佳等功效。归纳上述，本实用新型的靶材装置，利用所述三支横置式圆柱形的旋转靶2，与该 基板6的待镀表面61等距地间隔平行排列、其中心轴线与该基板6的行进方向相平行，且 能相对该基板6的待镀表面61转动的结构设计，整体能产生利用率高、使用寿命长与镀膜 品质佳等功效，尤其不需如现有靶材装置1(见图2)的遮蔽板111设计，整体于设备成本上 还能更加低廉，所以确实能够达到本实用新型的目的。
权利要求一种靶材装置，设置在一座真空腔体中，并能面对输入该真空腔体内的一块基板的一待镀表面，该靶材装置包括多支能相对该基板的待镀表面转动的旋转靶；其特征在于，所述旋转靶与该基板的待镀表面等距地间隔平行排列，且每一旋转靶的一中心轴线与该基板的行进方向平行。
2.根据权利要求1所述的靶材装置，其特征在于，每一旋转靶包括一个靶管座、一个容 置在该靶管座中且能绕该靶管座的一中心轴线转动的磁铁座以及一个能转动地设置在该 靶管座的一端面处且连结该磁铁座以带动其转动的分度盘座。
3.根据权利要求2所述的靶材装置，其特征在于，该靶管座具有一根背管以及一块覆 设在该背管的一外管面上的靶材。
4.根据权利要求3所述的靶材装置，其特征在于，该磁铁座具有一根环绕该靶管座的 中心轴线且一端连结该分度盘座的轴管、一个设置在该轴管的另一端处且围绕该轴管的弧 形载块以及多个间隔排列在该弧形载块的远离该轴管的一表面上的磁条。
5.根据权利要求4所述的靶材装置，其特征在于，该分度盘座具有一个间隔设置在该 靶管座的该端面处且具有一个内环齿面的固定环板、一个能相对转动地叠设在该固定环板 面对该靶管座的一板面上且局部延伸入该靶管座中而连接该磁铁座的轴管的分度头、一个 凸设在该分度头的一端面上且卡掣在该固定环板的内环齿面上的定位销。
专利摘要一种靶材装置，设置在一座真空腔体中，并能面对输入该真空腔体内的一块基板的一待镀表面，该靶材装置包括多支能相对该基板的待镀表面转动的旋转靶，所述旋转靶与该基板的待镀表面等距地间隔平行排列，且每一旋转靶的一中心轴线与该基板的行进方向平行。本实用新型整体能产生利用率高、使用寿命长、成本低廉且镀膜品质佳等功效。
文档编号C23C14/34GK201620188SQ201020120389
公开日2010年11月3日 申请日期2010年2月8日 优先权日2010年2月8日
发明者郑博仁, 黄泳钊 申请人:北儒精密股份有限公司