专利名称：触控元件表面加工方法
技术领域：
本发明涉及一种触控元件表面加工方法，以使涂布后的触控工件表面具有防污、
不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用后光泽差异性等功效的增进。
背景技术：
目前，现有技术中电脑键盘的按键、笔记型电脑的滑鼠板(TOUCH PAD)等触控元件的表面加工方法，主要是于触控元件基材表面印刷油墨或涂布一层油漆或色漆(泛指有颜色的颜料、涂料、油漆等)以形成一保护层，或再于印刷油墨或色漆表面上一层金油。由于电脑键盘的按键、笔记型电脑的滑鼠板(TOUCH PAD)等触控元件，其使用频率极高，而仅于触控元件表面印刷油墨或涂布一层油漆或色漆等作业，其粘着性不良且硬度不足，使用后易造成脱漆、表面光泽度降低、磨耗性差或易刮伤等等缺失。 由此可见，上述现有物品仍有诸多缺陷，并不是优良完善的设计，而亟待加以改良。
发明内容
本发明人鉴于上述现有触控元件表面加工方法所衍生的各项缺点，经过思考加以改良创新，并经多年苦心孤诣潜心研究后，终于成功研发完成本发明触控元件表面加工方法。 为了克服现有技术的缺陷，本发明的目的主要是提供一种触控元件表面加工方
法，其是在触控工件上先涂布硬度1H以上的含有UV树脂的薄膜，再于所述涂布含UV树脂
的薄膜表面溅镀无机金属形成一纳米氧化物保护膜，或再利用真空溅镀或湿式法于所述纳
米氧化物保护膜表面植入氟化物以形成纳米氟化物防污膜。借由UV树脂的薄膜表面溅镀
无机纳米氧化物形成一保护膜，或再于无机纳米氧化物的保护膜再植入氟化物处理以形成
一含有氟化物防污膜，而得以使涂布后的触控工件基材表面具有防污、不沾、抗静电、耐磨
损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效的增进。 本发明提供一种触控元件表面加工方法，其加工步骤包括 A.将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜，该UV树脂选自聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂或环氧(EP0XY)系列UV树脂中的至少一种； B.再溅镀硅(Si)、钛(Ti)或铝(Al)的无机纳米金属靶材于前述薄膜表面，经等
离子体氧化形成含二氧化硅(S叫)、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1203)的保护层。 其中，优选的所述UV树脂为聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV
树脂和环氧(EP0XY)系列UV树脂的混合物；更优选聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类
(AC)系列UV树脂和环氧(EP0XY)系列UV树脂的重量比例为2 :1:1。所述二氧化硅、氧化钛或氧化铝是以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面。
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本发明还提供另一种触控元件表面加工方法，其加工步骤包括
A.将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜；
B.再溅镀一无机纳米金属靶材于所述薄膜表面形成一保护层；
C.于所述保护层表面植入氟化物以形成一防污层。 其中，优选的所述UV树脂选自聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV
树脂或环氧(EPOXY)系列UV树脂中的至少一种。 所述无机纳米金属靶材为硅(Si)、钛(Ti)或铝(Al)。 所述硅(Si)、钛(Ti)或铝(Al)靶材经等离子体氧化反应成二氧化硅(S叫)、氧化钛(Ti02)或氧化铝"1203)，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面进而形成保护层。 所述氟碳化物是溶于溶剂中以喷涂、浸涂、滚涂等方式涂布于工件，再于50-95t:烘烤40-80min ;或者所述氟碳化物是以0. 2_2c. c/min滴入真空腔中气化扩散，经15-60sec沉积于工件表面。 本发明还提供又一种触控元件表面加工方法，其加工步骤包括 A.将触控工件表面先涂布至少一层色料层； B.再涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜； C.再溅镀一无机纳米金属靶材于前述薄膜表面形成一保护层； D.于所述保护层表面植入氟化物以形成一防污层。 其中，优选的所述色料层为印刷油墨或油漆或含色料PU薄膜。 所述无机纳米金属靶材为硅(Si)、钛(Ti)或铝(Al)。 所述硅(Si)、钛(Ti)或铝(Al)靶材经等离子体氧化反应成二氧化硅(SiO》、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1203)，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面进而形成保护层。 所述UV树脂选自聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂、环氧(EPOXY)系列UV树脂中的至少一种。 所述氟碳化物是以0. 2-2c. c/min滴入真空腔中气化扩散，经15-60sec沉积于工件表面；或者所述氟碳化物溶于溶剂中以喷涂、浸涂、滚涂等方式涂布于工件，再于50-95 。C烘烤40-80min。
图1为本发明的触控元件表面加工方法； 图2为本发明的触控元件表面加工方法的真空氟化物植入实施例； 图3为本发明的触控元件表面加工方法的湿式氟化物植入实施例； 图4为本发明的触控元件表面加工方法的另一实施例的真空氟化物植入实施例； 图5为本发明的触控元件表面加工方法的另一实施例的湿式氟化物植入实施例。
具体实施例方式
以下结合附图，对本发明上述的和另外的技术特征和优点作更详细的说明。
首先，图1所示为本发明的触控元件表面加工方法的较佳实施例，其加工步骤包括 前处理触控工件其成型后通常表面粗糙或含有油污等杂质，因此可依其表面粗糙程度或含有油污等杂质的情况，先用化学剂(如去渍油、醇类等)清除其工件表面的杂质，并/或用表面研磨或电晕(电弧)等物理方式，将工件表面清洁、磨平以提高工件的表面张力； 涂布UV树脂将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上并含UV树脂的薄膜，该UV树脂为聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂、环氧(EP0XY)系列UV树脂或前三项系列UV树脂的混合搭配等；所述混合搭配优选聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂和环氧(EP0XY)系列UV树脂的重量比例为2 :1:1。
等离子体氧化处理将涂布含UV树脂的薄膜的触控工件等被镀物及硅、钛或铝等靶材置于真空腔中，并于真空腔中通入氩气(Ar)、氧气及变频交流电以产生氩气等离子体，以等离子体撞击硅、钛或铝等靶材，使其产生硅、钛或铝原子，而硅、钛或铝原子于等离子体中和氧气反应成二氧化硅(S叫)、氧化钛(Ti02)或氧化铝"1203)，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面，于触控工件的表面活化形成保护层。 借由上述加工步骤制成的一种触控元件，得以使涂布后的触控工件表面具有防污、不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效。 其次，图2所示为本发明的一种触控元件表面加工方法的真空氟化物植入实施例，其加工步骤包括 前处理触控工件其成型后通常表面粗糙或含有油污等杂质，因此可依其表面粗糙程度或含有油污等杂质的情况，先用化学剂(如去渍油、醇类等)清除其工件表面的杂质，并/或用表面研磨或电晕(电弧)等物理方式，将工件表面清洁、磨平以提高工件的表面张力； 涂布UV树脂将触控工件表面涂布至少一层硬度1H以上并含UV树脂的薄膜，该UV树脂为聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂、环氧(EPOXY)系列UV树脂或前三项系列UV树脂的混合搭配等；所述混合搭配优选聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂和环氧(EPOXY)系列UV树脂的重量比例为2 :1:1。
等离子体氧化处理将涂布含UV树脂的薄膜的触控工件等被镀物及硅、钛或铝等靶材置于真空腔中，并于真空腔中通入氩气(Ar)、氧气及变频交流电以产生氩气等离子体，以等离子体撞击硅、钛或铝等靶材，使其产生硅、钛或铝原子，而硅、钛或铝原子于等离子体中与氧气反应成二氧化硅(SiO》、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1A)，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面，于触控工件的表面活化形成保护层； 植入氟碳化物再将前述形成保护层的触控工件置于真空腔中，并使氟碳化物(包括氯氟烃(CFCs)、氢氯氟烃(HCFCs)或氢氟烃(HFCs)等)以0. 2_2c. c/min滴入真空腔中气化扩散，经15-60sec沉积于工件的改质层表面，经沉积氟碳化物的工件自真空腔取出于50-95t:烘烤40-80min，使氟碳化物和二氧化硅(Si02)、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1203)产生附着力而结合成防污层。 借由上述加工步骤制成的一种触控元件，得以使涂布后的触控工件表面具有防
污、不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效。 再者，图3所示为本发明的一种触控元件表面加工方法的湿式氟碳化物植入实施例，其加工步骤包括 前处理触控工件其成型后通常表面粗糙或含有油污等杂质，因此可依其表面粗糙程度或含有油污等杂质的情况，先用化学剂(如去渍油、醇类等)清除其工件表面的杂质，并/或用表面研磨或电晕(电弧)等物理方式，将工件表面清洁、磨平以提高工件的表面张力； 涂布UV树脂将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上并含UV树脂的薄膜，该UV树脂为聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂、环氧(EP0XY)系列UV树脂或前三项系列UV树脂的混合搭配等；所述混合搭配优选聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂和环氧(EP0XY)系列UV树脂的重量比例为2 :1:1。
等离子体氧化处理将涂布含UV树脂的薄膜的触控工件等被镀物及硅、钛或铝等靶材置于真空腔中，并于真空腔中通入氩气(Ar)、氧气及变频交流电以产生氩气等离子体，以等离子体撞击硅、钛或铝等靶材，使其产生硅、钛或铝原子，而硅、钛或铝原子于等离子体中与氧气反应成二氧化硅(S叫)、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1A)，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面，于触控工件的表面活化形成保护层； 植入氟碳化物将氟碳化物(包括氯氟烃(CFCs)、氢氯氟烃(HCFCs)或氢氟烃(HFCs)等)溶于溶剂(任何常用有机溶剂，例如苯)中以喷涂、浸涂、滚涂等方式涂布于工件，于50-95t:烘烤40-80min，使氟碳化物和二氧化硅(SiO》、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1203)产生附着力而结合成防污层。 借由上述加工步骤制成的一种触控元件，得以使涂布后的触控工件表面具有防
污、不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效。 另，图4所示为本发明的一种触控元件表面加工方法的另一实施例，其加工步骤
包括 前处理触控工件其成型后通常表面粗糙或含有油污等杂质，因此可依其表面粗糙程度或含有油污等杂质的情况，先用化学剂(如去渍油、醇类等)清除其工件表面的杂质，并/或用表面研磨或电晕(电弧)等物理方式，将工件表面清洁、磨平以提高工件的表面张力； 涂布色料层将前处理后的触控工件先印刷油墨或涂布一层油漆或含色料PU薄膜； 涂布UV树脂将触控工件表面再涂布至少一层硬度1H以上并含UV树脂的薄膜，该UV树脂为聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂、环氧(EPOXY)系列UV树脂或前三项系列UV树脂的混合搭配等；所述混合搭配优选聚氨酯(PU)系列UV树脂、聚丙烯酸类(AC)系列UV树脂和环氧(EPOXY)系列UV树脂的重量比例为2 :1:1。
等离子体氧化处理将涂布含UV树脂的薄膜的触控工件等被镀物及硅、钛或铝等靶材置于真空腔中，并于真空腔中通入氩气(Ar)、氧气及变频交流电以产生氩气等离子体，以等离子体撞击硅、钛或铝等靶材，使其产生硅、钛或铝原子，而硅、钛或铝原子于等离子体中与氧气反应成二氧化硅(SiO》、氧化钛(Ti02)或氧化铝"1203)，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面，于触控工件的表面活化形成保护层； 植入氟碳化物再将前述形成保护层的触控工件置于真空腔中，并使氟碳化物(包括氯氟烃(CFCs)、氢氯氟烃(HCFCs)或氢氟烃(HFCs)等)以0. 2_2c. c/min滴入真空腔中气化扩散，经15-60sec沉积于工件的改质层表面，经沉积氟碳化物的工件自真空腔取出于50-95t:烘烤40-80min，使氟碳化物和二氧化硅(Si02)、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1203)产生附着力而结合成防污层。或如图5所示将氟碳化物溶于溶剂(任何常用有机溶剂，例如苯)中以喷涂、浸涂、滚涂等方式涂布于工件，于50-95t:烘烤40-80min，使氟碳化物和二氧化硅(SiO》、氧化钛(Ti02)或氧化铝(A1203)产生附着力而结合成防污层。
借由上述加工步骤制成的一种触控元件，除了使涂布后的触控工件表面具有防污、不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效外，更可使涂布后的一种触控元件表面具有各式各样的颜色变化。 以上说明对本发明而言只是说明性的，而非限制性的，本领域普通技术人员理解，在不脱离以下所附权利要求所限定的精神和范围的情况下，可做出许多修改，变化，或等效，但都将落入本发明的保护范围内。
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权利要求
一种触控元件表面加工方法，其特征在于其加工步骤包括将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜，所述UV树脂选自聚氨酯系列UV树脂、聚丙烯酸类系列UV树脂或环氧系列UV树脂中的至少一种；再溅镀硅、钛或铝的无机纳米金属靶材于所述薄膜表面，经等离子体氧化形成含二氧化硅、氧化钛或氧化铝的保护层。
2. 如权利要求1所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述UV树脂为聚氨酯系列UV树脂、聚丙烯酸类系列UV树脂和环氧系列UV树脂的混合物。
3. 如权利要求1或2所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述二氧化硅、氧化钛或氧化铝是以100 - 500A/min的沉积速率沉积于工件表面。
4. 一种触控元件表面加工方法，其特征在于其加工步骤包括将触控工件表面先涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜；再溅镀一无机纳米金属靶材于所述薄膜表面形成一保护层；于所述保护层表面再植入氟碳化物处理以形成一防污层。
5. 如权利要求4所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述UV树脂选自聚氨酯系列UV树脂、聚丙烯酸类系列UV树脂或环氧系列UV树脂中的至少一种。
6. 如权利要求4所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述无机纳米金属靶材为硅、钛或铝。
7. 如权利要求6所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述硅、钛或铝靶材经等离子体氧化反应成二氧化硅、氧化钛或氧化铝，并以100 - 500A/min的沉积速率沉积于工件表面进而形成保护层。
8. 如权利要求4所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述氟碳化物溶于溶剂中以喷涂、浸涂、滚涂的方式涂布于工件，再于50-95t:烘烤40-80min。
9. 如权利要求4所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述氟碳化物以0. 2-2c.c/min滴入真空腔中气化扩散，经15-60sec沉积于工件表面。
10. —种触控元件表面加工方法，其特征在于其加工步骤包括将触控工件表面先涂布至少一层色料层；再涂布至少一层硬度1H以上的含UV树脂的薄膜；再溅镀一无机纳米金属靶材于所述薄膜表面形成一保护层；于所述保护层表面再植入氟碳化物处理以形成一防污层。
11. 如权利要求io所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述色料层为印刷油墨或油漆或含色料PU薄膜。
12. 如权利要求IO所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述无机纳米金属靶材为硅、钛或铝。
13. 如权利要求12所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述硅、钛或铝靶材经等离子体氧化反应成二氧化硅、氧化钛或氧化铝，并以100-500A/min的沉积速率沉积于工件表面进而形成保护层。
14. 如权利要求10所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述UV树脂选自聚氨酯系列UV树脂、聚丙烯酸类系列UV树脂、环氧系列UV树脂中的至少一种。
15. 如权利要求IO所述的触控元件表面加工方法，其特征在于所述氟碳化物以`0. 2-2c. c/min滴入真空腔中气化扩散，经15-60sec沉积于工件表面。
16.如权利要求IO所述的一种触控元件表面加工方法，其特征在于所述氟碳化物溶于溶剂中以喷涂、浸涂、滚涂等方式涂布于工件，再于50-95t:烘烤40-80min。
全文摘要
一种触控元件表面加工方法，其是在触控工件上涂布硬度1H以上的含有UV树脂的薄膜，再于所述涂布含UV树脂的薄膜表面溅镀纳米无机金属形成一纳米氧化物保护膜，再利用真空溅镀或湿式法于所述纳米氧化物保护膜表面植入氟碳化物以形成纳米氟碳化物防污膜。借由UV树脂的薄膜表面溅镀无机纳米氧化物形成一保护膜，或再于无机纳米氧化物的保护膜再植入氟碳化物处理以形成一含有氟碳化物防污膜，而得以使涂布后的触控工件表面具有防污、不沾、抗静电、耐磨损、粘着性佳、无使用前后的光泽差异性等功效的增进。
文档编号C23C28/00GK101768740SQ20081019293
公开日2010年7月7日 申请日期2008年12月31日 优先权日2008年12月31日
发明者张正杰, 许棋凯, 邱登甲 申请人:兆震实业股份有限公司