专利名称：蚀刻液的利记博彩app
技术领域：
本发明公开了一种蚀刻液，属于蚀刻工艺技术领域。
背景技术：
金属蚀刻机必须结合蚀刻液才能实现其蚀刻功能，蚀刻液包括蚀 刻母液和蚀刻子液。蚀刻时，蚀刻母液先被喷洒到金属板上进行蚀刻， 当蚀刻母液中的氧化剂含量低至一定值时，蚀刻子液将通过自动添加 系统被加入到蚀刻母液中，以提高蚀刻母液的氧化剂含量，使蚀刻母 液继续有效的工作，而不需要经常更换溶液。而现有的蚀刻液，由于 蚀刻速度慢，存在蚀刻精度不高，蚀刻效率低，且侧蚀严重的问题。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种蚀刻速度快的蚀刻液。 为了实现上述目的，本发明所采用的技术方案为 一种蚀刻液， 包括蚀刻母液、蚀刻子液，所述蚀刻母液由以下重量百分比的组分配
制而成，三氯化铁40-60%，氯化铜2-4%，盐酸2-8%,余量为水；蚀 刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠20 30%，氯化铵 10 15%，氯化铜2 4%，余量为水。
所述每100kg的蚀刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg的蚀刻子液。
3明在蚀刻母液的原酸蚀刻和F^+氧化蚀刻 的基础上，加入了 Cu2+，其中Cu—Fe形成原电池反应，从而增加了 蚀刻的速度，提高了蚀刻效率及精度，并降低了侧蚀影响；本发明蚀 刻子液可保证蚀刻母液中三价铁离子浓度的稳定，使蚀刻母液保持活 性，保证持续生产，在生产过程中不用经常更换溶液，既保证生产效
率，又降低生产成本和材料消耗，在这其中cr的氧化起到了重要的作用。
具体实施例方式
下面通过具体实施例对本发明作进一歩说明，但本发明并不受以 下实施例所限定。
实施例l
一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液。其中，蚀刻母液由以下 重量百分比的组分配制而成，三氯化铁40%，氯化铜4%，盐酸8%， 余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠30%， 氯化铵10%，氯化铜2%，余量为水。
蚀刻母液配制时，先将盐酸和水进行调和，然后将三氯化铁固体
放入混合均匀，之后将氯化铜放入，调匀即可。
蚀刻子液配制时，将氯酸钠、氯化铵、氯化铜和水一起调匀即可。 在生产过程中，每100kg的蚀刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg
的蚀刻子液，当需要蚀刻的面积很小且时间很短的情况下，蚀刻子液
可视情况而选择不添加。
4实施例2
一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液。其中，蚀刻母液由以下 重量百分比的组分配制而成，三氯化铁45%，氯化铜3.5%，盐酸7%， 余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠28%， 氯化铵11%,氯化铜2.5%，余量为水。
蚀刻母液配制时，先将盐酸和水进行调和，然后将三氯化铁固体
放入混合均匀，之后将氯化铜放入，调匀即可。
蚀刻子液配制时，将氯酸钠、氯化铵、氯化铜和水一起调匀即可。 在生产过程中，每100kg的蚀刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg
的蚀刻子液，当需要蚀刻的面积很小且时间很短的情况下，蚀刻子液
可视情况而选择不添加。
实施例3
一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液。其中，蚀刻母液由以下 重量百分比的组分配制而成，三氯化铁50%，氯化铜3%，盐酸5%， 余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠25%, 氯化铵12. 5%，氯化铜3%，余量为水。
蚀刻母液配制时，先将盐酸和水进行调和，然后将三氯化铁固体
放入混合均匀，之后将氯化铜放入，调匀即可。
蚀刻子液配制时，将氯酸钠、氯化铵、氯化铜和水一起调匀即可。 在生产过程中，每100kg的蚀刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg
的蚀刻子液，当需要蚀刻的面积很小且时间很短的情况下，蚀刻子液
可视情况而选择不添加。
实施例4一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液。其中，蚀刻母液由以下
重量百分比的组分配制而成，三氯化铁55%，氯化铜2.5%，盐酸3%, 余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠22%， 氯化铵14%,氯化铜3. 5%，余量为水。
蚀刻母液配制时，先将盐酸和水进行调和，然后将三氯化铁固体
放入混合均匀，之后将氯化铜放入，调匀即可。
蚀刻子液配制时，将氯酸钠、氯化铵、氯化铜和水一起调匀即可。 在生产过程中，每100kg的蚀刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg
的蚀刻子液，当需要蚀刻的面积很小且时间很短的情况下，蚀刻子液
可视情况而选择不添加。
实施例5
一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液。其中，蚀刻母液由以下 重量百分比的组分配制而成，三氯化铁60%，氯化铜2%，盐酸2%， 余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠20%， 氯化铵15%，氯化铜4%，余量为水。
蚀刻母液配制时，先将盐酸和水进行调和，然后将三氯化铁固体
放入混合均匀，之后将氯化铜放入，调匀即可。
蚀刻子液配制时，将氯酸钠、氯化铵、氯化铜和水一起调匀即可。 在生产过程中，每100kg的蚀刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg
的蚀刻子液，当需要蚀刻的面积很小且时间很短的情况下，蚀刻子液
可视情况而选择不添加。
上述实施例仅用于解释说明本发明的发明构思，而非对本发明权
利保护的限定，凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均应落
入本发明的保护范围。
权利要求
1、一种蚀刻液，包括蚀刻母液、蚀刻子液，其特征在于所述蚀刻母液由以下重量百分比的组分配制而成，三氯化铁40-60％，氯化铜2-4％，盐酸2-8％，余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠20～30％，氯化铵10～15％，氯化铜2～4％，余量为水。
2、 如权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于所述每100kg的蚀 刻母液内，每小时最多可添加0. 34kg的蚀刻子液。
全文摘要
本发明公开了一种蚀刻液，属于蚀刻工艺技术领域，包括蚀刻母液、蚀刻子液，所述蚀刻母液由以下重量百分比的组分配制而成，三氯化铁40-60％，氯化铜2-4％，盐酸2-8％，余量为水；蚀刻子液由以下重量百分比的组分配制而成，氯酸钠20～30％，氯化铵10～15％，氯化铜2～4％，余量为水。本发明蚀刻液，蚀刻速度快，蚀刻效率及精度高，并降低了侧蚀影响。
文档编号C23F1/10GK101445932SQ20081016383
公开日2009年6月3日 申请日期2008年12月25日 优先权日2008年12月25日
发明者沈慕禹 申请人:绍兴华立电子有限公司