专利名称：高反射层系统，用于制造该层系统的方法和用于实施该方法的设备的利记博彩app
高反射层系统，用于制造 该层系统的方法和用于实施该方法的设备
本发明涉及一种高反射的层系统，用于以提高反射的层涂覆基底， 一种用于制造该层系统的方法以及一种用于实施该方法的设备。
为了改善产品表面的反射特性，公知的是，以高反射材料的薄的 层涂覆该表面。对于此，常见的有各种方法，例如具有或者不具有等
离子体支持的化学气相沉积(CVD)，其中在基底的热的表面上固体 成分由于化学反应从气相中被沉积，或者物理气相沉积(PVD)，其 中应被沉积的材料以固态形式存在。例如热气相喷镀、溅射和离子镀 称得上是PVD-方法。凭借各种PVD-变体，几乎所有的金属还有碳可以 以非常纯净的形式被沉积。如氧气、氮气或碳水化合物的反应气体被 输送给所述工艺，氧化物、氮化物或碳化物同样被沉积。
为了实现特别高反射的表面，根据本发明被设计为，在基底(S0) 上制造多层的层构造，该层构造至少包含下列层
在基底(SO)的表面上涂敷第一功能反射层(S3)。该第一功能 反射层(S3)可以为反射的或者部分反射的和由金属或者金属合金组 成，该金属或者金属合金含有来自铜、镍、铝、钛、钼、锡的组中的 一种或多种成分。在该第一功能反射层(S3)上设置有第二功能反射 层(S5)。该第二功能反射层(S5)可以由金属或者金属合金组成， 例如银或者银合金。在该第二功能反射层(S5)上跟着的是第一透明 介电层(S7)。该第一透明介电层(S7)例如可以由氧化硅组成。在 该第一透明介电层(S7)上设置有第二透明介电层(S8)。该第二透 明介电层(S8)例如可以由氧化钛组成。
根据本发明的一个设计方案，硬质材料层和/或光滑层(Sl)被设 置在基底(SO)与第一功能反射层(S3)之间。该硬质材料层和/或光 滑层(Sl)可以有利地为氧化物层，该氧化物层例如通过阳极氧化被 构成。另外，该硬质材料层和/或光滑层(Sl)可以有利地为漆层。
根据本发明的另一个设计方案，增附剂层(S2)被设置在基底(S0) 与第一功能反射层(S3)之间。该增附剂层(S2)有利地由金属、金 属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。该增附剂层(S2) 有利地含有来自铬、钼、锌、钛、锡、铝、硅的组中的一种或多种成 分。当既设置有硬质材料层和/或光滑层(Sl)又设置有增附剂层(S2) 时，那么该增附剂层(S2)被设置在硬质材料层和/或光滑层(Sl)上 是有利的，该硬质材料层和/或光滑层(Sl)在其侧被直接设置在基底 (S0)上。
根据本发明的另一个设计方案，增附剂层(S4)被设置在第一功 能反射层(S3)与第二功能反射层(S5)之间。该增附剂层(S4)可 以由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。该增 附剂层(S4)有利地含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝或氧 化硅的组中的一种或多种成分。
根据本发明的另一个设计方案，增附剂层(S6)被设置在第二功 能反射层(S5)与第一透明介电层(S7)之间。该增附剂层(S6)可 以由金属、金属氧化物、金属氮化物或这些物质的混合物组成。该增 附剂层(S4)有利地含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝或氧 化硅的组中的一种或多种成分。
根据本发明的另一个设计方案，在第二透明介电层(S8)上设置 至少一层另外的透明介电层(S9) 、 (S10)等。
根据本发明的另一个设计方案，第一功能反射层(S3)被构成为 非光密性的。此外，该第一功能反射层(S3)的厚度优选最高为90nm。
根据本发明的另一个设计方案，第一功能反射层(S3)和第二功
能反射层(S5) —同被构成为光密性的。此外，第一功能反射层(S3) 和第二功能反射层(S5)的厚度的总和优选高于90nm。
第一功能反射层(S3)允许降低第二功能反射层(S5)的厚度， 而不产生该层系统的反射率的显著丧失。作为副效应，该层结构在适 当地选择层材料用于第一功能反射层(S3)时，同样允许通过电子束 蒸发镀覆相对厚的第二功能反射层(S5)。所以，如截至目前通常通 过磁控溅射镀覆第二功能反射层(S5)不再必要。
根据本发明的层系统使得在大量产品上制造高反射的表面成为可 能，对于该产品要求这样的表面。本发明的应用领域涉及所有此类产 品，所有此类产品被本发明明确地一起包含。关于待涂覆的基底(SO) 的材料，没有给出限制。而根据本发明的层系统特别有利地被应用到 金属基底(SO)上，该金属基底(SO)应获得高反射表面。
根据本发明的方法使得在基底(SO)上制造根据本发明的层系统 成为可能。
在用于制造如上所述类型的层系统的根据本发明的方法中，设计 为，第二功能反射层(S5)通过电子束蒸发被镀覆。
根据本发明的一个设计方案，设计为，第一透明介电层(S7)通 过电子束蒸发被镀覆。
根据本发明的另一个设计方案，设计为，第二透明介电层(S8) 通过电子束蒸发被镀覆。
根据本发明的设备使得实施根据本发明的方法和制造根据本发明
的层系统成为可能。
用于在基底上制造层系统的根据本发明的设备，其中待涂覆的基 底被移动经过大量涂覆源，该设备包含在基底的传送方向上经过该设 备分布的、至少一个第一溅射源、至少一个第一电子束-气相喷镀源、 至少一个第二溅射源和至少一个第二电子束-气相喷镀源的、顺序的布 置。
根据本发明的一个设计方案，设计为，在第二电子束-气相喷镀源 或多个电子束-气相喷镀源之后设置至少一个第三溅射源。
例如可以被设计为，在基底的传送方向上依次设置有一组溅射源
SP1—1至U SP1—xl、 一组电子束-气相喷镀源EB1_1到EB1—x2、 一组溅 射源SP2_1到SP2_x3、 一组电子束-气相喷镀源EB2—1到EB2_x4和最 后是一组溅射源SP3_1到SP3—x5，其中xl、 x2、 x3、 x4和x5为大于
或等于1的整数。
相关标志.一览表
so基底
Sl硬质材料层和/或光滑层
S2增附剂层
S3第一功能反射层
S4增附剂层
S5第二功能反射层
S6增附剂层
S7第一透明介电层
S8第二透明介电层
S9其它透明介电层
S10其它透明介电层
权利要求
1. 用于涂覆基底(S0)的高反射层系统，其特征在于，所述层系统至少含有下列层第一功能反射层(S3)第二功能反射层(S5)透明介电层(S7)透明介电层(S8)。
2. 根据权利要求l所述的层系统，其特征在于，所述第一功能反 射层(S3)由金属或者金属合金组成。
3. 根据权利要求1或2所述的层系统，其特征在于，所述第一功能 反射层(S3)含有来自铜、镍、铝、钛、钼、锡的组中的一种或多种 成分。
4. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，所述第二 功能反射层(S5)由金属或者金属合金组成。
5. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，所述第二 功能反射层(S5)由银或者银合金组成。
6. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，所述第一 透明介电层(S7)由氧化硅组成。
7. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，所述第二 透明介电层(S8)由氧化钛组成。
8. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，硬质材料 层和/或光滑层(Sl)设置在所述基底(S0)与所述第一功能反射层(S3) 之间。
9. 根据权利要求8所述的层系统，其特征在于，所述硬质材料层 和/或光滑层(Sl)为氧化物层。
10. 根据权利要求8或9所述的层系统，其特征在于，所述硬质材 料层和/或光滑层(Sl)通过阳极氧化被构成。
11. 根据权利要求8或9所述的层系统，其特征在于，所述硬质材 料层和/或光滑层(Sl)为漆层。
12. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，第一增 附剂层(S2)设置在所述基底(S0)与所述第一功能反射层(S3)之 间。
13. 根据权利要求12所述的层系统，其特征在于，所述第一增附 剂层(S2)由金属、金属氧化物、金属氮化物、或这些物质的混合物 组成。
14. 根据权利要求12或13所述的层系统，其特征在于，所述第一 增附剂层(S2)含有来自铬、钼、锌、钛、锡、铝、硅的组中的一种 或多种成分。
15. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，在所述 基底(S0)与所述第一功能反射层(S3)之间设有硬质材料层和/或光 滑层(Sl)和第一增附剂层(S2)，其中，所述第一增附剂层(S2) 设置在所述硬质材料层和/或光滑层(Sl)上，所述硬质材料层和/或光 滑层(Sl)在其侧被直接设置在所述基底(S0)上。
16. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，第二增 附剂层(S4)设置在所述第一功能反射层(S3)与所述第二功能反射 层(S5)之间。
17. 根据权利要求16所述的层系统，其特征在于，所述第二增附 剂层(S4)由金属、金属氧化物、金属氮化物、或这些物质的混合物 组成。
18. 根据权利要求16或17所述的层系统，其特征在于，所述第二 增附剂层(S4)含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝、氧化硅 的组中的一种或多种成分。
19. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，第三增 附剂层(S6)设置在所述第二功能反射层(S5)与所述第一透明介电 层(S7)之间。
20. 根据权利要求19所述的层系统，其特征在于，所述第三增附 剂层(S6)由金属、金属氧化物、金属氮化物、或这些物质的混合物 组成。
21. 根据权利要求19或20所述的层系统，其特征在于，所述第三 增附剂层(S6)含有来自氧化锌、氧化钛、氧化锡、氧化铝、氧化硅 的组中的一种或多种成分。
22. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，在所述 第二透明介电层(S8)上设置至少一层另外的透明介电层(S9)、 (S10)等。
23. 根据前述权利要求之一所述的层系统，其特征在于，所述层 系统设置在由金属或金属合金制成的基底(SO)上。
24. 用于制造根据权利要求1到23之一所述的层系统的方法，其特 征在于，所述第二功能反射层(S5)通过电子束蒸发被镀覆。
25. 根据权利要求24所述的方法，其特征在于，所述第一透明介 电层(S7)通过电子束蒸发被镀覆。
26. 根据权利要求24或25所述的方法，其特征在于，所述第二透 明介电层(S8)通过电子束蒸发被镀覆。
27. 根据权利要求24到26之一所述的方法，其特征在于，所述硬 质材料层和/或光滑层(Sl)通过阳极氧化被构成。
28. 根据权利要求24到27之一所述的方法，其特征在于，所述硬 质材料层和/或光滑层(Sl)通过涂敷漆层被构成。
29. 用于在基底上制造层系统的设备，在所述设备中，待涂覆的 基底被移动经过大量涂覆源，所述设备包含在所述基底的传送方向上 经过所述设备分布的、至少一个第一溅射源、至少一个第一电子束-气 相喷镀源、至少一个第二溅射源和至少一个第二电子束-气相喷镀源的、 顺序的布置。
30. 根据权利要求29所述的设备，其特征在于，在所述第二电子 束-气相喷镀源或多个所述电子束-气相喷镀源之后设置至少一个第三 溅射源。
全文摘要
本发明涉及一种高反射层系统，用于以提高反射的层涂覆基底，一种用于制造该层系统的方法以及一种用于实施该方法的设备。在基底(S0)的表面上涂敷第一功能反射层(S3)。该第一功能反射层(S3)可以为反射的或者部分反射的且由金属或者金属合金组成，该金属或者金属合金含有来自铜、镍、铝、钛、钼、锡的组中的一种或多种成分。在该第一功能反射层(S3)上设有第二功能反射层(S5)。该第二功能反射层(S5)可以由金属或者金属合金组成，例如银或者银合金。在该第二功能反射层(S5)上跟着的是第一透明介电层(S7)。该第一透明介电层(S7)例如可以由氧化硅组成。在该第一透明介电层(S7)上设置有第二透明介电层(S8)。该第二透明介电层(S8)例如可以由氧化钛组成。
文档编号C23C14/14GK101379218SQ200680053109
公开日2009年3月4日 申请日期2006年9月6日 优先权日2006年2月21日
发明者乌韦·克拉拉普, 亨德里克·胡梅尔, 卡斯滕·多伊斯, 埃克哈特·赖因霍尔德, 大卫·舒伯特, 汉斯-克里斯蒂安·黑希特, 约尔格·法贝尔 申请人:冯·阿德纳设备有限公司