专利名称：一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置的利记博彩app
技术领域：
本发明涉及一种薄膜制备装置，特别是用真空沉积技术在带状工料上制备薄膜的装置。
背景技术：
对带状工料进行真空沉积制备薄膜时，一般都将带状原料和制备完的产品整卷在大气环境完全装入一个或数个同压强的体积较大的真空室内，然后抽真空、沉积薄膜，最后破坏真空回到大气环境中换料；或先将带状工料先分成段料(薄板材)，然后在大气环境放入一个或数个同压强体积较小的真空室内，然后抽真空、沉积薄膜，最后破坏真空回到大气环境中换料。对段料也可采取使用真空阀实现段料从大气环境中上行经过多段压强不同体积较小的真空室内来制备涂层，再下行经过多段压强不同体积较小的真空室回到大气环境。以上所述带状基料真空沉积制备薄膜的方法，都无法真正实现不破坏设备真空状态下在大气环境中连续换料，生产效率低、涂层质量不稳定。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能够在大气环境中连续换料、设备始终维持在真空状态、生产效率高、涂层质量稳定的带状基料镀膜装置。
本发明可实现卷带状工料在大气环境中连续放料，通过数级上行的具有两个辊轴对滚夹紧带状基料的真空密封装置进入一段或分段的高真空环境中进行沉积制备薄膜，然后再经过与前述上行真空密封装置相同的下行真空密封装置返回到大气环境中进行收料。所述装置包括有收放料子系统，提供原材料的放料装置和存放产品的收料装置；纠偏子系统，用来纠正带状基料进出真空密封装置时产生偏差的纠偏装置；真空密封子系统，用以实现带状基料由大气进/出真空环境的动态密封动装置；真空室，用于提供真空沉积薄膜的气氛的一段或分段的腔体；真空获得子系统，即各种真空泵组以及真空薄膜沉积子装置。本发明提供的装置只需要在更换靶材或清理真空室时才需要破坏真空环境停机，其余一直处于连续工作状态。
图1为本发明用于带状基料沉积薄膜的真空装置示意图；图2为真空密封单元的剖视图。
具体实施例方式
本发明的实施例将参照附图1进行描述。
在图1中，本发明用于带状基料沉积薄膜的真空装置包括放料装置1、上行纠偏装置2、上行真空密封装置3、真空室4、真空室真空获得设备6、下行真空密封装置8、真空密封装置真空获得设备10、下行纠偏装置9、收料装置11。其中真空密封装置是由一个或者一个以上的真空密封单元首尾连接组成。在图2中每个真空密封单元是由两个对滚的上辊轴22和下辊轴25组成。当带状基料24通过真空密封装置3进入真空室4时，由两个真空密封单元的辊轴对滚将带状基料挤进真空室，同时两个真空密封单元之间和靠近真空室的密封单元与真空室之间设有真空获得装置10，达到动态密封的目的。进入真空室后进行沉积薄膜，然后进入下行真空密封装置8，由下行真空密封装置采用同上行真空密封装置相同的方法将带状基料挤出真空室。在放料装置1与上行真空密封装置3之间和下行真空密封装置8与收料装置11之间，分别设有上行纠偏装置2和下行纠偏装置9，以调节带状工料在运动过程中可能出现的走偏。
权利要求
1.一种用于连续带状基料真空沉积薄膜的装置，主要包含有一段或分段的真空室、一组与真空室配合的真空获得系统，其特征在于还包含一组用以动态密封带状基料从大气进/出真空室的真空密封子系统，提供原材料和存放产品的收放料子系统，用来纠正带状基料进出真空密封装置时产生偏差的纠偏子系统。
2.根据权利要求1所述用于连续带状基料真空沉积薄膜的装置，其特征在于带状基料的收卷和放卷系统不限于在真空室同侧。
3.根据权利要求1所述用于连续带状基料真空沉积薄膜的装置，其特征在于真空密封子系统包含一个或者一个以上的真空密封单元。
4.根据权利要求1所述用于连续带状基料真空沉积薄膜的装置，其特征在于真空密封子系统的真空密封单元设有真空获得装置。
5.根据权利要求3所述真空密封子系统，其特征在于真空密封单元包含一对对滚的辊轴。
全文摘要
一种用于连续带状基料的真空沉积薄膜装置，可实现卷带状工料在大气中连续放料，通过数级上行的具有两个辊轴对滚夹紧带状基料的动态真空密封装置进入一段或分段的高真空环境中进行沉积薄膜，然后再经过下行的动态真空密封装置返回到大气中进行收料。所述装置包括有收放料子系统、纠偏子系统、真空密封子系统、一段或分段的真空室、真空获得子系统以及真空薄膜沉积子装置，所述真空密封装置实现带状基料由大气进/出真空环境的动态密封。本发明能够实现在带状基料上连续进行真空沉积薄膜涂层，具有高生产效率和薄膜涂层质量稳定的特点。
文档编号C23C14/24GK101086058SQ20061020051
公开日2007年12月12日 申请日期2006年6月5日 优先权日2006年6月5日
发明者李博峰 申请人:李博峰