离子切割枪头的利记博彩app

文档序号:9959066阅读:364来源:国知局
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【技术领域】
[0001]本实用新型涉及焊接技术领域,特别是一种MIG水冷枪焊接枪头。
【背景技术】
[0002]等离子切割分为高频和非高频等离子切割,高频等离子切割电极和电极喷嘴等配件的安装位置固定,在引弧和切割过程中不需要位置移动。而非高频的等离子电极的位置在引弧后有一个位置移动的动作。因此高频和非高频枪同规格的枪需要做两种不同的枪头,导致开发和生产成本加大。也限制了等离子枪的使用推广。
【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种解决上述技术问题的离子切割枪头。
[0004]为解决上述技术问题,本实用新型离子切割枪头,包括:气室;活塞,所述活塞设置在所述气室中,在所述活塞的末端套设有螺母;电极,所述电极通过螺纹与所述活塞的前端连接;绝缘件及外铜件,所述绝缘件及所述外铜件依次设置在所述气室的外侧;外喷嘴,所述外喷嘴通过螺纹与所述外铜件连接。
[0005]在所述活塞的末端与所述螺母之间设有弹簧。在所述活塞与所述气室之间设有密封圈。
[0006]本实用新型离子切割枪头的电极有长短两种,分别在高频和非高频的时候使用,通过电极的长短不同实现高频与非高频的非接触和接触引弧,即高频的时候通过电极和活塞的配合使电极的位置固定,保持电极和电极喷嘴之间一定间距实现非接触引弧。非高频的时候通过电极的尺寸变化实现电极和电极喷嘴接触且可通过气体和弹簧的推动上下快速移动,从而实现非高频的接触引弧。
【附图说明】
[0007]图1为本实用新型呙子切割枪头剖视图;
[0008]图2为本实用新型离子切割枪头高频状态图;
[0009]图3为本实用新型离子切割枪头非高频状态图。
[0010]本实用新型离子切割枪头附图中附图标记说明:
[0011]1-螺母 2-弹簧 3-密封圈
[0012]4-活塞 5-气室 6-绝缘件
[0013]7-外铜件 8-外喷嘴 9-电极
[0014]10-分流器11-电极喷嘴
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图对本实用新型离子切割枪头作进一步详细说明。
[0016]如图1所示,本实用新型等离子切割枪头,包括:螺母1、弹簧2和密封圈3装在活塞4上,活塞4插到气室5中。气室5、绝缘件6和外铜件7紧密压接到一起。外喷嘴8通过螺纹连接到外铜件7上,电极9通过螺纹连接到活塞4上,分流器10和电极喷嘴11通过外喷嘴8安装到气室5上。
[0017]如图2所示,高频时通过电极9顶住气室5限制活塞4上下运动,电极9本身长度变短和电极喷嘴11之间有一定距离,成为非接触引弧。
[0018]如图3所示,非高频时电极9顶不到气室5可以上下运动,且电极9长度较高频时的电极9长,能够在弹簧2弹力的作用力下和电极喷嘴11良好接触,成为接触引弧。
[0019]本实用新型离子切割枪头的电极有长短两种,分别在高频和非高频的时候使用,通过电极的长短不同实现高频与非高频的非接触和接触引弧,即高频的时候通过电极和活塞的配合使电极的位置固定,保持电极和电极喷嘴之间一定间距实现非接触引弧。非高频的时候通过电极的尺寸变化实现电极和电极喷嘴接触且可通过气体和弹簧的推动上下快速移动,从而实现非高频的接触引弧。
[0020]本实用新型虽然已以较佳实施例公开如上,但其并不是用来限定本实用新型,任何本领域技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内,都可以利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出可能的变动和修改,因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化及修饰,均属于本实用新型技术方案的保护范围。
【主权项】
1.离子切割枪头,其特征在于,包括: 气室; 活塞,所述活塞设置在所述气室中,在所述活塞的末端套设有螺母; 电极,所述电极通过螺纹与所述活塞的前端连接; 绝缘件及外铜件,所述绝缘件及所述外铜件依次设置在所述气室的外侧; 外喷嘴,所述外喷嘴通过螺纹与所述外铜件连接。2.根据权利要求1所述的离子切割枪头,其特征在于,在所述活塞的末端与所述螺母之间设有弹簧。3.根据权利要求1所述的离子切割枪头,其特征在于,在所述活塞与所述气室之间设有密封圈。
【专利摘要】本实用新型离子切割枪头,包括:气室;活塞,所述活塞设置在所述气室中,在所述活塞的末端套设有螺母;电极,所述电极通过螺纹与所述活塞的前端连接;绝缘件及外铜件,所述绝缘件及所述外铜件依次设置在所述气室的外侧;外喷嘴,所述外喷嘴通过螺纹与所述外铜件连接。本实用新型离子切割枪头的电极有长短两种,分别在高频和非高频的时候使用,通过电极的长短不同实现高频与非高频的非接触和接触引弧,即高频的时候通过电极和活塞的配合使电极的位置固定,保持电极和电极喷嘴之间一定间距实现非接触引弧。非高频的时候通过电极的尺寸变化实现电极和电极喷嘴接触且可通过气体和弹簧的推动上下快速移动,从而实现非高频的接触引弧。
【IPC分类】B23K10/00
【公开号】CN204867761
【申请号】CN201520485239
【发明人】贾红涛
【申请人】上海亿诺科技有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年7月7日
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