专利名称：触摸屏ito薄膜激光刻蚀设备的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及激光加工领域，特别是涉及一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备。
背景技术：
ITO薄膜即氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃，广泛用于液晶触摸 屏、显示器(IXD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。触摸屏在各行各业的应用越来越广泛，传统的触摸屏ITO薄膜主要采用化学蚀刻 的方法生产。但随着苹果iphone中电容式多点触控技术的出现和WindoW7等操作系统对 多点触控的支持，已经引发触摸屏的革命性变革，传统的化学蚀刻方法在加工精度(包括 线性精度和线宽精度)和加工的效率以及良品率都无法满足要求。激光具有高相干性、高方向性和高强度的特点，容易获得很高的光通量密度，将强 的激光束聚焦到介质上，利用激光束与物质相互作用的过程来改变物质的性质，这就是激 光加工。激光加工技术随着光学、机电、材料、计算机和控制技术的发展已经逐步发展成为 一项新的加工技术。激光加工具有加工对象广、变形小、精度高、节省能源、公害小、远距离 加工和自动化加工等显著优点，对提高产品质量和劳动生产率、实现加工过程自动化、减少 或消除污染、减少材料消耗等的作用愈来愈重要。专利号为CN200720171149. 1的一种ITO薄膜激光蚀刻机，包括机架、工控机、显示 系统、激光发生器、切割头、吸附盘、X轴运动系统、Y轴运动系统和Z轴运动系统，所述工控 机、激光发生器、显示系统和Z轴运动系统都安装在机架上，所述切割头安装在Z轴运动系 统上，所述吸附盘固定在X轴运动系统上，位于Y轴运动系统的上方，所述X轴运动系统安 装在Y轴运动系统上，并交叉呈十字状，Y轴运动系统固定安装在机架上，本实用新型对ITO 薄膜的刻线效率高、线性好，能够对大尺寸的ITO薄膜进行激光蚀刻。但由于专利号为CN200720171149. 1的ITO薄膜激光蚀刻机，其吸附盘固定在X轴 运动系统上，X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，而X轴运动系统和Y轴运动系统由直线 电机驱动，吸附盘、X轴运动系统和Y轴运动系统的质量较大，惯性也大，直线电机带动吸附 盘上的ITO薄膜运动刻线，其刻线速度因为吸附盘、X轴运动系统和Y轴运动系统的质量较 大、惯性大而受影响，所以刻线速度慢，效率低；另外，因为吸附盘、X轴运动系统和Y轴运动 系统的质量较大、惯性大，在刻线过程中振动也大，刻线的稳定线也受到影响，所刻的线宽 不均勻。
发明内容本实用新型的目的是提供一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，此触摸屏ITO薄膜 激光刻蚀设备，刻蚀速度快，效率高，所刻线宽均勻。为了达到上述目的，本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，包括机架、控制 系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台，控制系统、显示系统、升降机构和吸附 平台都安装在机架上，激光发生器安装在升降机构上，其特征在于还包括二维振镜头和F-θ透镜组，二维振镜头安装在升降机构的升降架上，F-θ透镜组安装在二维振镜头下 部。如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于升降机构包括电动机、蜗 轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架，电动机的输出轴与蜗轮蜗杆减速机 的输入轴联接，蜗轮蜗杆减速机的输出轴与丝杆运动副的丝杆联接，丝杆运动副的螺帽与 升降架联接，直线导轨运动副的导轨安装在与机架相联的联接板上，直线导轨运动副的滑 块与升降架相联接。升降机构的作用是用来调节F-θ透镜组与吸附平台上ITO薄膜的距 离，使经过F- θ透镜组的激光光束聚焦后其焦点落在ITO薄膜上。如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于升降机构包括手轮、蜗 轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架，手轮与蜗轮蜗杆减速机的输入轴联 接，蜗轮蜗杆减速机的输出轴与丝杆运动副的丝杆联接，丝杆运动副的螺帽与升降架联接， 直线导轨运动副的导轨安装在与机架相联的联接板上，直线导轨运动副的滑块与升降架相 联接。升降机构的作用是用来调节F-θ透镜组与吸附平台上ITO薄膜的距离，使经过F-θ 透镜组的激光光束聚焦后其焦点落在ITO薄膜上。如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于还包括二维运动系统，二 维运动系统由X轴运动系统和Y轴运动系统组成，X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，X 轴运动系统和Y轴运动系统呈交叉十字状，二维运动系统安装在机架上，吸附平台安装在 二维运动系统上。如上所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于激光发生器发出的激光 波长为266匪；激光发生器发出的激光波长也可以是1064nm、532nm或355nm。所述的二维振镜头内有两个高速伺服振动电机，每个高速伺服振动电机的轴上安 装有激光反射镜片，两个高速伺服振动电机交叉安装。本触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备采 用二维振镜头来控制激光的偏转，通过两个高速伺服振动电机的振动，使安装在其轴上的 激光反射镜片发生偏转。通过控制高速伺服振动电机轴偏转角的大小来控制激光光束的偏 转角度，也就决定了激光光束的偏转距离。由于二维振镜头的高速伺服振动电机的偏转速 度很快，使激光光束运动速度高，也就是对ITO薄膜进行刻蚀速度快，效率高。所述的F- θ透镜组为一组镜片组，其作用是将经过二维振镜头的不同角度激光 光束聚焦到一个平面上，所以能对置于吸附平台上的ITO薄膜进行刻蚀加工。所述的吸附平台的内部为空腔，上面表设置多个与空腔连通的小孔，吸附平台的 侧面或下部开有与空腔相连通的多个通孔；其中，至少有一个通孔与真空装置或抽风装置 连接；至少有一个通孔与吹气装置连接。刻蚀ITO薄膜要使ITO薄膜吸附于吸附平台，刻蚀 完成后，要使ITO薄膜吹高吸附平台，以便方便地从吸附平台上取下。所述的机架为金属结构件，是整个触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备的支撑与连接部 件，控制系统、显示系统、升降机构、吸附平台、二维运动系统都安装在机架上。所述的控制系统包括工控机及其操作控制软件，其作用是控制触摸屏ITO薄膜激 光刻蚀设备的运行。所述的显示系统为一显示屏，其作用是用于显示操作控制软件的界面。工作时，ITO薄膜平放于吸附平台上，在真空装置或抽风装置的作用下，ITO薄膜 被平坦的吸附于吸附平台的上表面，激光发生器发出的激光在控制系统的控制下，通过二维振镜头和F- θ透镜组作用于ITO薄膜上，对ITO薄膜进行刻蚀加工。由于本触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备采用二维振镜头来控制激光的偏转，而二维 振镜头的高速伺服振动电机的偏转速度很快，使激光光束运动速度高，也就是对ITO薄膜 进行刻蚀速度快，效率高；同时，二维振镜头的高速伺服振动电机的振动虽然很快，但其质 量很小，所以二维振镜头的高速伺服振动电机偏转时振动小，对整个设备的影响小，ITO薄 膜刻蚀线宽均勻。采用二维振镜头来控制激光的偏转，刻蚀速度快，但二维振镜头的刻蚀幅面受到 限制，如果要加大幅面，就必须加大F-θ透镜组的焦距，但是，加大了 F-θ透镜组的焦距会 使激光聚焦点变大，刻蚀的线宽宽，难以满足要求。为了加大刻蚀范围，本触摸屏ITO薄膜 激光刻蚀设备设有二维运动系统，二维运动系统由X轴运动系统和Y轴运动系统组成，X轴 运动系统安装在Y轴运动系统上，X轴运动系统和Y轴运动系统呈交叉十字状，二维运动系 统安装在机架上，吸附平台安装在二维运动系统上。通过软件控制，使X轴运动系统和Y轴 运动系统运动，使放置在吸附平台上摸屏ITO薄膜分区域刻蚀，刻蚀完一个区域后再刻蚀 另一个区域，这样就可以刻蚀大幅面的摸屏ITO薄膜。本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，对触摸屏ITO薄膜刻蚀速度快，效率 高，所刻线宽均勻。
图1是本实用新型实施例的正面示意图。图2是侧面示意图。图3是升降机构结构图。
具体实施方式
图1标记的说明机架1，控制系统2，显示系统3，升降机构4，二维振镜头5，F_ θ 透镜组6，吸附平台7，防护门8，透视窗9，健盘抽屉10，支撑脚11。图2标记的说明激光发生器12。图3标记的说明蜗轮蜗杆减速机13，电动机14，联接板15，滑块16，导轨17，升 降架18，丝杆19，螺帽20。参见图1，本实用新型触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备的实施例包括机架1、控制系 统2、显示系统3、激光发生器12 (参见图2)、升降机构4、二维振镜头5、F- θ透镜组6和吸 附平台7。控制系统2、显示系统3、升降机构4和吸附平台7都安装在机架1上，激光发生 器12安装在升降机构4上，二维振镜头5安装在升降机构4的升降架18上，F- θ透镜组6 安装在二维振镜头5下部。参见图3，本实用新型触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备实施例的升降机构4包括电动 机14、蜗轮蜗杆减速机13、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架18，电动机14的输出轴与 蜗轮蜗杆减速机13的输入轴联接，蜗轮蜗杆减速机13的输出轴与丝杆运动副的丝杆19联 接，丝杆运动副的螺帽20与升降架18联接，直线导轨运动副的导轨17安装在与机架1相 联的联接板15上，直线导轨运动副的滑块16与升降架18相联接。升降机构4的作用是用 来调节F- θ透镜组6与吸附平台7上ITO薄膜的距离，使经过F- θ透镜组6的激光光束聚焦后其焦点落在ITO薄膜上。参见图1，本实用新型触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备实施例的机架1的前部开有 防护门8，以方便工作时放置或取出ITO薄膜；防护门8上开有透视窗9，透视窗9为工作时 观察窗口。机架1上安装有健盘抽屉10，输入健盘放置在其中。机架1下部设置有支撑脚 11。本实用新型触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备还包括二维运动系统，二维运动系统由 X轴运动系统和Y轴运动系统组成，X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，X轴运动系统和 Y轴运动系统呈交叉十字状，二维运动系统安装在机架1上，吸附平台7安装在二维运动系 统上。二维振镜头5内有两个高速伺服振动电机，每个高速伺服振动电机的轴上安装有 激光反射镜片，两个高速伺服振动电机交叉安装。本触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备采用二 维振镜头5来控制激光的偏转，通过两个高速伺服振动电机的振动，使安装在其轴上的激 光反射镜片发生偏转。通过控制高速伺服振动电机轴偏转角的大小来控制激光光束的偏转 角度，也就决定了激光光束的偏转距离。由于二维振镜头5的高速伺服振动电机的偏转速 度很快，使激光光束运动速度高，也就是对ITO薄膜进行刻蚀速度快，效率高。F- θ透镜组6为一组镜片组，其作用是将经过二维振镜头5的不同角度激光光束 聚焦到一个平面上，所以能对置于吸附平台7上的ITO薄膜进行刻蚀加工。激光发生器12 为波长是266nm的固体激光发生器。吸附平台7的内部为空腔，上面表设置多个与空腔连 通的小孔，吸附平台7的侧面或下部开有与空腔相连通的多个阵列的通孔；其中，有一个通 孔与真空装置或抽风装置连接，有一个通孔与吹气装置连接。通过控制气阀的开闭，就能使 ITO薄膜吸附于吸附平台7或吹离吸附平台7。刻蚀ITO薄膜要使ITO薄膜吸附于吸附平 台7，刻蚀完成后，要使ITO薄膜吹高吸附平台7，以便方便地从吸附平台7上取下。机架1为金属结构件，是整个触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备的支撑与连接部件，控 制系统2、显示系统3、升降机构4、吸附平台7、二维运动系统都安装在机架1上。控制系统2包括工控机及其操作控制软件，其作用是控制触摸屏ITO薄膜激光刻 蚀设备的运行；显示系统3为一显示屏，其作用是用于显示操作控制软件的界面。工作时，ITO薄膜平放于吸附平台7上，在真空装置或抽风装置的作用下，ITO薄膜 被平坦的吸附于吸附平台7的上表面，激光发生器12发出的激光在控制系统2的控制下， 通过二维振镜头5和F- θ透镜组6作用于ITO薄膜上，对ITO薄膜进行刻蚀加工。由于本触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备采用二维振镜头5来控制激光的偏转，而二 维振镜头5的高速伺服振动电机的偏转速度很快，使激光光束运动速度高，也就是对ITO薄 膜进行刻蚀速度快，效率高；同时，二维振镜头5的高速伺服振动电机的振动虽然很快，但 其质量很小，所以二维振镜头5的高速伺服振动电机偏转时振动小，对整个设备的影响小， ITO薄膜刻蚀线宽均勻。采用二维振镜头5来控制激光的偏转，刻蚀速度快，但二维振镜头5的刻蚀幅面受 到限制，如果要加大幅面，就必须加大F-θ透镜组6的焦距，但是，加大了 F-θ透镜组6的 焦距会使激光聚焦点变大，刻蚀的线宽宽，难以满足要求。为了加大刻蚀范围，本触摸屏ITO 薄膜激光刻蚀设备可设置二维运动系统，二维运动系统由X轴运动系统和Y轴运动系统组 成，X轴运动系统安装在Y轴运动系统上，X轴运动系统和Y轴运动系统呈交叉十字状，二维运动系统安装在机架1上，吸附平台7安装在二维运动系统上。通过软件控制，使X轴运动 系统和Y轴运动系统运动，使放置在吸附平台7上摸屏ITO薄膜分区域刻蚀，刻蚀完一个区 域后再刻蚀另一个区域，这样就可以刻蚀大幅面的摸屏ITO薄膜。 本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，对触摸屏ITO薄膜刻蚀速度快，效率 高，所刻线宽均勻，它的推广运用，对提高触摸屏ITO薄膜的加工生产率、保证其加工质量 有着重要的意义。
权利要求触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台，控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上，激光发生器安装在升降机构上，其特征在于还包括二维振镜头和F θ透镜组，二维振镜头安装在升降机构的升降架上，F θ透镜组安装在二维振镜头下部。
2.根据权利要求1所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于升降机构包括 电动机、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架，电动机的输出轴与蜗轮 蜗杆减速机的输入轴联接，蜗轮蜗杆减速机的输出轴与丝杆运动副的丝杆联接，丝杆运动 副的螺帽与升降架联接，直线导轨运动副的导轨安装在与机架相联的联接板上，直线导轨 运动副的滑块与升降架相联接。
3.根据权利要求1所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于升降机构包括 手轮、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架，手轮与蜗轮蜗杆减速机的 输入轴联接，蜗轮蜗杆减速机的输出轴与丝杆运动副的丝杆联接，丝杆运动副的螺帽与升 降架联接，直线导轨运动副的导轨安装在与机架相联的联接板上，直线导轨运动副的滑块 与升降架相联接。
4.根据权利要求1、权利要求2或权利要求3所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其 特征在于还包括二维运动系统，二维运动系统由X轴运动系统和Y轴运动系统组成，X轴 运动系统安装在Y轴运动系统上，X轴运动系统和Y轴运动系统呈交叉十字状，二维运动系 统安装在机架上，吸附平台安装在二维运动系统上。
5.根据权利要求1所述的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，其特征在于激光发生器发 出的激光波长为266nm。
专利摘要本实用新型提供一种触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，包括机架、控制系统、显示系统、激光发生器、升降机构和吸附平台，控制系统、显示系统、升降机构和吸附平台都安装在机架上，激光发生器安装在升降机构上，其特征在于还包括二维振镜头和F-θ透镜组，二维振镜头安装在升降机构的升降架上，F-θ透镜组安装在二维振镜头下部。升降机构包括电动机、蜗轮蜗杆减速机、丝杆运动副、直线导轨运动副和升降架。本实用新型的触摸屏ITO薄膜激光刻蚀设备，对触摸屏ITO薄膜刻蚀速度快，效率高，所刻线宽均匀。
文档编号B23K26/36GK201760706SQ20102030249
公开日2011年3月16日 申请日期2010年10月15日 优先权日2010年10月15日
发明者任清荣, 陈刚 申请人:武汉吉事达激光技术有限公司