显示装置的制造方法

显示装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了显示装置，显示装置的图像品质得以提高。显示装置(DIS1)包括：包括显示功能层的显示部(PN1)；包括前面(CVf)以及位于前面(CVf)的相反侧的背面(CVb)，覆盖显示部(PN1)的盖部件(CV1)；以及包括经由沿盖部件(CV1的背面(CVb)延伸的空间(LA1)与盖部件(CV1)的背面(CVb)相对的前面(PL1f)的偏振板(PL1)。另外，在盖部件(CV1)的背面(CVb)以及偏振板(PL1)的前面(PL1f)中的任一面形成有使在显示面侧被目视确认的反射光减少的反射抑制层(RC1)。
【专利说明】
显7J^装置
技术领域
[0001] 本实用新型设及显示装置，例如设及适用于显示部的显示面侧被盖部件覆盖且在 盖部件和显示部之间形成有空间的显示装置的有效的技术。
【背景技术】
[0002] 例如，在日本特开2014-29614号公报（专利文献1)、日本特开2012-22844号公报 (专利文献2)中记载有在静电电容方式的触摸面板上层叠硬涂层W及反射防止层的技术。
[0003] 另外，在日本特开2013-246610号公报(专利文献3)中记载有在盖玻璃的显示面侧 形成反射防止膜、在显示面的相反侧的面上形成触摸面板用的电极的触摸面板。
[0004] 【先行技术文献】
[0005] 【专利文献】
[0006] 专利文献1:日本特开2014-29614号公报
[0007] 专利文献2:日本特开2012-22844好公报 [000引专利文献3:日本特开2013-246610号公报
[0009] 显示装置的显示部具有例如液晶层或者利用电致发光的发光层等显示功能层、例 如晶体管等多个显示元件，通过将信号传送到多个显示元件、驱动显示元件，从而显示图 像。另外，显示部的显示面侧被盖部件覆盖，存在在盖部件和显示部之间设置有空间的情 况。本申请研究人员根据W上所述对在盖部件和显示部之间设置有空间的显示装置进行探 讨，发现W下课题。
[0010] 目P，可知在上述显示装置的情况下，如盖部件局部弹性变形，则存在弹性变形的部 分的周围不能正确显示的情况。例如，在具有所谓触摸面板的输入装置的显示装置的情况 下存在用手指等进行输入操作时盖部件局部地弹性变形的情况。此时，所谓牛顿环的环状 干设条纹在已弹性变形的部分的周围被目视确认。
[0011] 虽然盖部件的弹性变形地方复原则该牛顿环消失，然而从使显示装置的图像品质 提高的观点出发，即使是盖部件已弹性变形的状态下，也优选牛顿环不被目视确认。 【实用新型内容】
[0012] 本实用新型的目的在于提供使显示装置的图像品质得W提高的技术。
[0013] 本实用新型一个方面的显示装置包括：显示部，包括显示功能层;盖部件，包括第 一面W及位于所述第一面的相反侧的第二面，所述盖部件覆盖所述显示部;第一部件，包括 经由第一空间与所述盖部件的所述第二面相对的第Ξ面；W及输入部，包括多个检测电极， 所述输入部经由多个所述检测电极检测电容量的变化，在所述盖部件的所述第二面及所述 第一部件的所述第Ξ面中的任一面，形成有使反射光减少的反射抑制层。
[0014] 并且，在所述第一部件的所述第Ξ面形成有作为所述反射抑制层的第一反射抑制 层。
[0015] 并且，在所述盖部件的所述第二面形成有作为所述反射抑制层的第二反射抑制 层。
[0016] 此外，所述第一反射抑制层具有使从所述显示面侧照射的入射光在多个方向扩散 的光扩散部。
[0017] 进一步地，所述第一反射抑制层的与所述盖部件相对的面的表面粗糖度比所述第 一反射抑制层的与所述第一部件相对的面的表面粗糖度更粗糖。
[0018] 此外，所述第一反射抑制层的露出面比和位于所述露出面的相反侧的所述第一部 件之间的粘结界面，表面粗糖度更粗糖。
[0019] 并且，所述第一反射抑制层具有使从所述显示面侧照射的入射光扩散的第一光扩 散部，所述第二反射抑制层具有使从所述显示面侧照射的入射光扩散的第二光扩散部。
[0020] 此外，所述第一反射抑制层的与所述盖部件相对的面的表面粗糖度比所述第一反 射抑制层的与所述第一部件相对的面的表面粗糖度更粗糖，所述第二反射抑制层的与所述 第一部件相对的面的表面粗糖度比所述第二反射抑制层的与所述盖部件相对的面的表面 粗糖度更粗糖。
[0021] 并且，所述第一反射抑制层的第一露出面比和位于所述第一露出面的相反侧的所 述第一部件之间的粘结界面，表面粗糖度更粗糖，所述第二反射抑制层的第二露出面比和 位于所述第二露出面的相反侧的所述盖部件之间的粘结界面，表面粗糖度更粗糖。
[0022] 进一步地，所述第一反射抑制层的雾度的值为26% W上。
[0023] 此外，在所述盖部件的所述第二面未形成有所述反射抑制层，所述第一反射抑制 层的雾度的值为28% W上。
[0024] 并且，所述第一反射抑制层具有包含折射率互不相同的多个部分的第一反射方向 调整部，所述第一反射抑制层的反射率为0.14% W下。
[0025] 此外，所述第一反射抑制层具有包含折射率互不相同的多个部分的第一反射方向 调整部，所述第二反射抑制层具有包含折射率互不相同的多个部分的第二反射方向调整 部，所述第一反射抑制层W及所述第二反射抑制层的反射率分别为1.6% W下。
[0026] 并且，所述第一反射抑制层W及所述第二反射抑制层的反射率分别为0.3% W下。
[0027] 此外，所述第一反射抑制层W及所述的第二反射抑制层的反射率分别为0.14% W 下。
[0028] 此外，所述盖部件的所述第二面和所述第一部件的所述第Ξ面之间的离开距离比 所述盖部件的厚度薄。
[0029] 进一步地，所述第一空间设置在多个所述检测电极和所述盖部件之间。
[0030] 此外，多个所述检测电极设置在所述盖部件的所述第一面和所述第二面之间，所 述第一空间设置在多个所述检测电极和所述盖部件之间。
[0031] 并且，所述第一部件是使从所述显示面侧供给的透过光偏振的偏振板。
【附图说明】
[0032] 图1是示出实施方式的显示装置的一个例子的俯视图。
[0033] 图2是沿着图1的A-A线的截面图。
[0034] 图3是图2的B部的放大截面图。
[0035] 图4是示出静电电容型的输入部即触摸面板的概要构成的说明图。
[0036] 图5是示出施加于图4所示的触摸面板的驱动波形、从触摸面板输出的信号波形的 关系的例子的说明图。
[0037] 图6是模式地示出图1所示的显示装置中设置图4所示的输入部用的电极的位置的 说明图。
[0038] 图7是示出相对于图6的变形例的说明图
[0039] 图8是示出相对于图6的其他变形例的说明图。
[0040] 图9是示出相对于图4W及图5所示的互检方式的变形例即自检方式的检测原理的 说明图。
[0041] 图10是在图9之后示出自检方式的检测原理的说明图。
[0042] 图11是在图10之后示出自检方式的检测原理的说明图。
[0043] 图12是在图11之后示出自检方式的检测原理的说明图。
[0044] 图13是示出图2所示的盖部件周边的构成部分的放大截面图。
[0045] 图14是示出触摸面板的检测精度和图13所示的空间的厚度的关系的说明图。
[0046] 图15是模式地示出反射抑制层的一个构造例的说明图。
[0047] 图16是模式地示出W与图15不同的方式抑制反射的构造例的说明图。
[0048] 图17是示出相对于图13的变形例的显示装置的放大截面图。
[0049] 图18是示出相对于图13的其他变形例的显示装置的放大截面图。
[0050] 图19是示出相对于图13的其他变形例的显示装置的放大截面图。
[0051] 图20是示出相对于图13的其他变形例的显示装置的放大截面图。
[0052] 图21是示出相对于图13的其他变形例的显示装置的放大截面图。
[0053] 图22是示出相对于图13所述的显示装置的比较例的放大截面图。
【具体实施方式】
[0054] 下面，参照附图，对本实用新型的各实施方式进行说明。此外，公开只不过一个例 子，对本领域技术人员来说，对保持实用新型的主旨的适当变更是很容易能够想到的，当然 是包含于本实用新型的范围的内容。另外，为了使说明更加明确，附图与实际方式相比较， 存在对各部分的宽、厚度、形状等模式地进行表示的情况，然而仅为一个例子，并非限定本 实用新型的解释。另外，在本说明书和各图中与先前参考在先附图所述的同样的要素附上 同一或者关联的符号，适当省略详细说明。
[0055] 另外，在W下实施方式中说明的技术能够适用于不具备所谓触摸面板的输入部的 显示装置。但是，在W下的实施方式中，本申请研究人员进行探讨，发现通过使盖部件局部 变形而牛顿环被目视确认的课题，举出带有输入部的显示装置的构成而进行说明。
[0056] 另外，在W下实施方式中说明的技术可W广泛适用于在设置有显示功能层的显示 区域的多个元件具备从显示区域的周围供给信号的机构的显示装置。对上述的显示装置可 W例示例如液晶显示装置、有机化化lectro-Luminescence，电致发光）显示装置或者等离 子体显示装置等各种显示装置。在W下实施方式中作为显示装置的代表例列举出液晶显示 装置进行说明。
[0057] 另外，根据用于使显示功能层即液晶层的液晶分子的取向变化的电场的施加方 向，液晶显示装置被大幅分为W下两类。即，作为第一分类是对显示装置的厚度方向（或者 面外方向）施加电场的所谓纵向电场模式。纵向电场模式中例如有TN(Twisted化matic，扭 曲向列)模式、VA(Vertical Alig皿ent，垂直对齐)模式等。另外，作为第二分类是对显示装 置的平面方向（或者面内方向）施加电场的所谓横向电场模式。横向电场模式中例如有IPS (In-Plane Switching,平板开关）模式、IPS模式的一种即FFS(F;ringe Field Switching, 边缘切换)模式等。在下面说明的技术能够适用于纵向电场模式W及横向电场模式的任意 一个，然而在下面说明的实施方式中作为一个例子举出横向电场模式的显示装置进行说 明。
[0化引 <显示装置的基本构成〉
[0059] 首先，对显示装置的基本构成进行说明。图1是示出本实施方式的显示装置的一个 例子的俯视图，图2是沿图1的A-A线的截面图。另外，图3是图2的B部分的放大截面图。
[0060] 如图2所示，本实施方式的显示装置DIS1具有具备显示功能层即液晶层LCL(参照 图3)的显示部PN1、覆盖显示部PN1的显示面侧的盖部件CV1。
[0061] 在本实施方式中作为一个例子进行说明的显示装置DIS1如上所述是液晶显示装 置。在液晶显示装置的情况下，因为并非自发光型的显示装置，所W显示装置DIS1具有光源 LS。在如图2所示的例子中，光源LS设置在位于显示面的相反侧的背面侧。
[0062] 另外，显示装置DIS1具有使从光源LS向显示面侧行进的光偏振的偏振板化及 偏振板化2。显示部PN1设置于配置为相互相对的偏振板化及偏振板化2之间。在图2所示 的例子中，在显示部PN1的显示面侧粘合有偏振板化1，在位于偏振板化1的显示面的相反的 背面侧粘合有偏振板化2。另外，在图2所示的例子中，覆盖显示部PN1的显示面侧的盖部件 CV1经由沿配置于显示部PN1的上层的第一部件的周边部而设置的粘合材料BND被粘合在偏 振板化1。此外，在本实施方式中，第一部件表示偏振板化1。此外，作为粘合材料BND使用糊 状的粘合材料的时候，经由沿偏振板化1的周边部涂布的粘合材料BND使偏振板化1和盖部 件CV1贴合。另外，作为粘合材料BND而使用所谓双面胶等胶带状的粘合部件的情况下，在盖 部件CV1W及偏振板化1中的至少一个预先粘贴胶带状的粘合材料BND，经由粘合材料BND使 偏振板化1和盖部件CV1贴合。
[0063] 此外，作为相对于本实施方式的变形例，在具有例如有机化显示面板或者等离子 体显示面板等自发光型的显示部的情况下，也可W没有光源LS。另外，在具有自发光型的显 示部的情况下，偏振板化及偏振板化2可W没有。此时，盖部件CV1被粘合固定于偏振板 PL1之外的别的部件(省略图示）。
[0064] 另外，如图1所示，显示部PN1具有形成根据输入信号从外部可W目视确认的图像 的显示区域DP。另外，显示部PN1在俯视时具有在显示区域DP的周围设置为框状的非显示区 域即边缘部化。另外，显示部PN1在俯视时具有形成于边缘部化的密封部。密封部形成为连 续地围在显示区域DP的周围，图2所示的基板FS和基板BS被设置于密封部的密封材料粘合 固定。
[0065] 另外，在本实施方式的例子中，显示部PN1具备在相对配置的一对基板之间形成显 示功能层即液晶层的构造。即，如图3所示，显示部PN1具有显示面侧的基板FS、位于基板FS 的相反侧的基板BSW及配置于基板FS和基板BS之间的液晶层LCL。液晶层LCL被设置为围在 如图1所示的显示区域DP的周围的密封部密封。
[0066] 图3所示的液晶层LCL的厚度与图2所示的基板FS、基板BS的厚度相比较极端薄。例 如，液晶层LCL的厚度相对于基板FS或者基板BSD的厚度为0.4%~5%左右的厚度。在图3 W 及图4所示的例子中，液晶层LCL的厚度例如为3μηι~4μηι左右。
[0067] 另外，图1所示的设置于显示区域DP的液晶层LCL根据经由设置于边缘部化的电路 部CC而被传送的信号，对每个像素(详细而言为子像素)进行动作。另外，在驱动显示功能层 的电路部CC，多个显示元件被排列在与显示区域DP重合的位置。多个显示元件对每个像素 (详细而言为子像素)设置为矩阵状，进行切换动作。在本实施方式中，多个显示元件是形成 于基板BS的所谓TFT(Thin-Fi Im Trans iStor，薄膜晶体管）的晶体管。
[0068] 另外，在驱动显示功能层的电路部CC包括对多个显示元件输入驱动信号、影像(映 像)信号的信号输入部IPC。在图1所示的例子中，在信号输入部IPC搭载有形成图像显示用 的驱动电路DR1、控制电路CNT1的半导体忍片CHP。
[0069] 另外，如上所述，分别在显示部PN1的显示面侧粘合固定有偏振板化1(参照图2)， 在显示面的相反侧的背面侧粘合固定有偏振板PL2(参照图2)。详细而言，在显示部PN1的基 板BS的背面B訊侧设置有偏振板化2。偏振板化2经由粘合层被粘合固定在基板BS的背面 BSb。另一方面，在基板FS的前面FSf侧设置有偏振板化1。偏振板化1经由粘合层被粘合固定 在基板FS的前面FSf。
[0070] 此外，在图2中，例示出用于形成显示图像的基本构成部件，然而作为变形例除图2 所示的构成部件W外能够添加其他部件。例如，详细情况在后叙述，然而显示装置DIS1具有 检测显示画面中的手指等的位置并对应于检测位置输入指令等控制信号的输入部。在图2 中，省略图示，在基板FS和偏振板PL1之间能够形成用于检测手指等位置的检测电极。
[0071] 另外，如图3所示，显示部PN1具有配置于基板FS和基板BS之间的多个像素电极PE、 W及配置于基板FS和基板BS之间的共用电极CE。本实施方式的显示部PN1如上所述是横向 电场模式的显示装置，多个像素电极PEW及共用电极CE分别形成于基板BS。
[0072] 如图3所示的基板BS具有由玻璃基板等构成的基材BSg，主要在基材8地形成有图 像显示用的电路。基板BS具有位于基板FS侧的前面BSfW及位于其相反侧的背面BSb(参照 图2)。另外，在基板BS的前面BSf侧，TFT等显示元件和多个像素电极PE形成为矩阵状。
[0073] 图3所示的例子示出横向电场模式(详细而言为Fi^模式）的显示部PN1，所W共用 电极CEW及像素电极PE分别形成于基板BS的前面BSf侧。共用电极CE形成于基板BS具备的 基材BSg的前面侧，且被绝缘层0C2覆盖。另外，多个像素电极PE经由绝缘层0C2与共用电极 CE相对地形成于绝缘层0C2的基板FS侧。此外，在图3所示的例子中例示有从基板BS侧依次 层叠共用电极CE、绝缘层0C2W及像素电极PE的实施方式。可是，共用电极CE、绝缘层0C2W 及像素电极PE是一个例子，有各种变形例。例如，可W是从基板BS侧依次层叠像素电极PE、 绝缘层0C2W及共用电极CE的构造。
[0074] 另外，图3所示的基板FS是在由玻璃基板等构成的基材。地上形成图像的滤色片CF 的基板，该滤色片CF形成彩色显示的滤色片，基板FS具有显示面侧即前面FSf(参照图2) W 及位于前面FSf的相反侧的背面FSb。如基板FS运样形成滤色片CF的基板在与上述TFT基板 进行区别时由于与滤色片基板或者经由液晶层与TFT基板相对，因此称为对置基板。此外， 作为相对于图3的变形例可W采用在TFT基板设置滤色片CF的构成。
[0075] 基板FS在例如玻璃基板等基材!^地的一面形成有周期地排列红(R)、绿(G)、蓝(B) Ξ色滤色片像素 CFr、CFg、CFb的滤色片CF。在彩色显示装置中，例如W该红(R)、绿(G)、蓝 (Β)Ξ色子像素为一组，构成一个像素（也称为一个像素）。基板FS的多个滤色片像素 CFr、 CFg、C讯配置为与具有形成于基板BS的像素电极PE的各个子像素相互相对的位置。
[0076] 另外，在各色的滤色片像素 CFr、CFg、C即各个边界形成有遮光膜BM。遮光膜BM被称 为黑色矩阵，例如由黑色的树脂构成。另外，遮光膜BM例如有时是多种滤色片重叠而形成 的。遮光膜BM在俯视时形成为格子状。换而言之，基板FS具有形成于形成为格子状的遮光膜 BM之间的各色滤色片像素 CFr、CFg、C讯。
[0077] 另外，基板FS具有覆盖滤色片CF的树脂层0C1。因为在各色滤色片像素 CFr、CFg、 CFb的边界形成有遮光膜BM，所W滤色片CF的内面为凹凸面。树脂层0C1作为使滤色片CF的 内面的凹凸平坦化的平坦化膜而发挥作用。或者，树脂层0C1作为防止杂质从滤色片CF对液 晶层扩散的保护膜而发挥作用。树脂层0C1通过使材料中含有热固化性树脂成分或者光固 化性树脂成分等通过给予能量而固化的成分，能够使树脂材料固化。
[0078] 另外，在基板FS和基板BS之间设置有通过对像素电极PE和共用电极CE之间施加显 示用电压而形成显示图像的液晶层LCL。液晶层LCL根据被施加的电场的状态调制通过其的 光。
[0079] 另外，基板FS在与液晶层LCL相接的界面即背面FSb具有覆盖树脂层0C1的取向膜 AF1。另外，基板BS在与液晶层LCL相接的界面即前面BSf具有绝缘层0C2W及覆盖多个像素 电极PE的取向膜AF2。该取向膜AF1、AF2是为了使液晶层LCL所含的液晶的初始取向一致而 形成的膜。
[0080] 图3所示的显示部PN1的彩色图像的显示方法如W下所述。即，从光源LS(参照图2) 射出的光被偏振板化2(参照图2)滤光，通过偏振板化2的光射入液晶层1XL。射入液晶层1XL 的光根据液晶的折射率各向异性(换而言之为双折射)而使偏振状态变化在液晶层LCL的厚 度方向（换而言之从基板BS向基板FS的方向）传播，从基板FS射出。此时，利用对像素电极PE 和共用电极CE施加电压形成的电场控制液晶取向，液晶层LCL作为光学性的快口而发挥作 用。即，在液晶层LCL能够对每个子像素控制光的透过率。到达基板FS的光在形成于基板FS 的滤色片被实施颜色滤光处理（即吸收指定波长之外的光的处理），从前面FSf射出。另外， 从前面FSf射出的光经由偏振板化1到达观众VW。
[0081] <输入部的构成〉
[0082] 接着，对本实施方式的显示装置DIS1具备的输入部的构成进行说明。图4是示出静 电电容型的输入部即触摸面板的概要构成的说明图。另外，图5是示出对图4所示的触摸面 板被施加的驱动波形和从触摸面板输出的信号波性的关系的例子的说明图。另外，图6是模 式地示出在图1所示的显示装置中设置图4所示的输入部用的电极的位置的说明图。另外， 图7W及图8分别是示出相对于图6的变形例的说明图。
[0083] 图及图2所示的本实施方式的显示装置DIS1具有检测显示画面中的手指等的 位置且对应于检测位置而输入指令等控制信号的输入部即触摸面板ΤΡ(参照图4)。在图4所 示的例子中，触摸面板ΤΡ是利用接近输入工具CMD时的检测电极Rx周边的电容的变化检测 输入工具CMD的位置的电容型的输入部。
[0084] 如图4所示，静电电容型的触摸面板TP具备电介质层化、由经由电介质层化相对配 置的电极对构成的多个电容元件C1。对构成该电极对的一个的驱动电极Τχ从输入装置用的 驱动电路DR2施加例如图5所示的矩形波即驱动波形DW。另一方面，从构成电极对的另一个 的检测电极(输入位置检测电极)Rx例如如图5所示流动对应于驱动波形DWW及图4所示的 电容元件C1的静电电容的电流，输出信号波形SW。从检测电极Rx输出的信号波形SW被输出 至检测输入位置的检测电路DT1 (参照图4)。
[0085] 图5所例示的信号波形的大小根据对驱动电极Τχ施加驱动波形时发生的由连接驱 动电极Τχ和检测电极Rx的多个电力线表示的电场(electric field)的大小而变化。
[0086] 在此，如图4所示使手指、触摸笔等一端连接接地电位的电容元件（电介质体)即输 入工具CMD接近或者接触触摸面板TP的多个检测电极Rx中的一个。此时，用存在于接近输入 工具CMD的位置的检测电极Rx对电容元件C1添加输入工具的CMD的电容。此时，在输入工具 CMD的周边，电力线的数量与其他区域相比较相对减少。因此，在配置于接近输入工具CMD的 检测电极Rx，输出比用配置于其他位置的检测电极Rx输出的信号波形SW小的信号波形SW。
[0087] 目P，在图4所示的检测电路DT1中，监视从多个检测电极Rx的每一个传送的信号波 形SW，根据信号波形SW的值或者信号波形SW的变化量，能够指定输入工具CMD的位置。换而 言之，在触摸面板TP具有的检测电路DT1中，经由多个检测电极Rx，通过检测起因于输入工 具CMD的有无的电容量的变化，检测输入工具CMD的位置。例如，对信号波形SW的变化量预先 设定阔值，参照超越阔值的检测电极Rx的位置数据，能够输出输入工具CMD的位置。同时例 如能够直接将信号波形SW的值与阔值进行比较。另外，在监视信号波形SW的变化量的方法 中有各种方法，例如，能够使用测量在检测电极Rx发生的电压值的方法、或者测量流过检测 电路DT1的每单位时间的电流值的累计量的方法。
[0088] 如图5所示，在静电电容型的触摸面板TP的情况下，需要沿显示画面设置驱动电机 TxW及检测电极Rx。在具备触摸面板TP的显示装置的情况下，设置触摸面板TP用的电极的 位置能够大致分为图6所示的显示装置DISK图7所示的显示装置DIS2W及图8所示的显示 装置DIS3。
[0089] 在图6所示的显示装置DIS1中，在显示部PN1和偏振板化1之间设置有检测电极Rx W及驱动电极Τχ。即，显示装置DIS1是在显示部PN1的显示面侧分别设置有检测电极RxW及 驱动电极Τχ的所谓化-Cell型带有输入部的显示装置。On-Cell型带有输入部显示装置能 够减少显示部PN1的构造给触摸面板TP的检测精度带来的影响。
[0090] 另外，在图7所示的显示装置DIS2中，检测电极RxW及驱动电极Τχ设置于显示部 ΡΝ1内，详细而言在基板FS和基板BS之间。即，显示装置DIS2是在显示部ΡΝ1的内部分别设置 有检测电极RxW及驱动电极Τχ的所谓In-Cell型带有输入部显示装置。In-Cell型带有输入 部显示装置因为在显示部PN1内形成电极，所W能够兼用作例如触摸面板TP用的驱动电极 Τχ和显不部PN1用的共用电极CE。如兼用作触挺面板TP用驱动电极Τχ、显不部PN1用的共用 电极CE，则能够使制造工序简化。
[0091] 此外，在图6W及图7中，模式地示出了形成有检测电极RxW及驱动电极Τχ的位置。 图6W及图7所示的触摸面板ΤΡ的详细的构造如图4所示，驱动电极TxW及多个检测电极Rx 经由电介质层化在厚度方向层叠。
[0092] 或者，作为相对于图4的变形例，驱动电极Τχ和检测电极Rx可W在同层相互离开而 形成。此时，在驱动电极Τχ和检测电极Rx之间例如设置有覆盖驱动电极TxW及检测电极Rx 的电介质层化。
[0093] 另外，在图8所示的显示装置DIS3中，在显示部PN1和偏振板化1之间设置有检测电 极Rx。另一方面，驱动电极Τχ被设置在显示部PNl内，详细而言为基板FS和基板BS之间。即， 显示装置DIS3是分别在显示部PN1的内部设置驱动电极Τχ、在显示部PN1的显示面侧设置检 测电极Rx的In-Cell型和On-Cell型混合的带有输入部显示装置。在显示装置DIS3的情况 下，因为在显示部PN1内形成驱动电极Τχ，所W能够兼用作触摸面板TP用的驱动电极Τχ和显 示部ΡΝ1用的共用电极CE。另外，因为检测电极Rx设置为比显示部ΡΝ1靠近显示面侧，所W能 够使检测电极Rx比图7所示的In-Cell型的情况更接近手指等输入工具CMD(参照图4)。因 此，能够使检测精度提高。
[0094] 此外，图8所示的显示装置DIS3作为In-Cell型和化-Cell型混合的类型的带有输 入部显示装置进行了说明，然而在驱动电极Τχ设置于显示部PN1内的方面上，能够认为是 In-Cell型的一个方式。另外，说明了在包含显示装置DIS3的In-Cell型的带有输入部显示 装置中，能够兼用作触摸面板TP用的驱动电极Τχ和显示部PN1用的共用电极CE。可是，作为 变形例，即使是In-Cell型，不兼用作触摸面板ΤΡ用的驱动电极Τχ和显示部ΡΝ1用的共用电 极CE，能够分别独立设置。
[00Μ]另外，在上述图4W及图5中，作为静电电容型的输入部即触摸面板ΤΡ的例子说明 了驱动电极Τχ和检测电极Rx形成为各不相同的电极、在驱动信号输入至驱动电极Τχ时处理 从检测电极Rx输出的检测信号、检测输入工具CMD的位置的方式。该方式称为互(Mu化al)检 方式。在图4中，作为触摸面板TPm示出互检方式的触摸面板TP。可是，作为输入部的检测方 式，除互检方式之外还可W适用作为同一电极(后述的图9~图11所示的检测电极化)形成 驱动电极Τχ和检测电极Rx、对多个检测电极化的每一个输入驱动信号、通过对多个检测电 极化自身发生的信号进行处理而检测输入工具CMD的位置的自（Self)检方式。
[0096] 下面，使用附图，对自检方式的检测原理简单地进行说明。图9~图12是示出对图4 W及图5所示的互检方式的变形例即自检方式的检测原理的说明图。详细而言，图9W及图 10示出在检测电极化的附近不存在输入工具CMD(参照图11)的状态下的动作，图11W及图 12示出输入工具CMD接近检测电极化的附近的时候的动作。
[0097] 如图9~图12所示，在W自检方式进行动作的触摸面板TPs的情况下多个检测电极 化的每一个被连接在控制开关SWc。控制开关SWc具备切换连接状态的功能，W使电源VddW 及电容器Ccr中的任意一个和检测电极化电连接。
[0098] 在图9所示的状态下，检测电极化经由控制开关SWc与电源Vdd连接，与电容器不电 连接。在该状态下，检测电极化具有的电容Cx 1被充电。
[0099] 另外，如将控制开关SWc从图9所示的状态切换至图10所示的状态，则检测电极化 经由控制开关SWc与电容器Ccr连接，与电源Vdd不电连接。在该状态下，电容Cxi的电荷经由 电容器Ccr被放电。
[0100] 接着，如图11W及图12所示，在将输入工具CMD接近检测电极的情况下，如W下所 示进行动作。即，在图11所示的状态下，检测电极化经由控制开关SWc与电源Vdd连接，与电 容器Ccr不电连接。此时，在检测电极化的附近因为存在具有电容Cx2的输入工具CMD，所W 检测电极化具有的电容Cxi W及具有输入工具CMD的电容Cx2被充电。
[0101] 另外，如将控制开关SWc从图11所示的状态切换为图12所示的状态，则检测电极化 经由控制开关SWc与电容器Ccr连接，与电源Vdd不电连接。在该状态下，电容Cxi W及电容 Cx2的电荷经由电容器Ccr被放电。
[0102] 目P，根据在检测电极化的附近是否存在输入工具CMD，电容器Ccr的电压变化特性 变化。在自检方式中，通过设置连接于电容器Ccr的多个检测电极化、经由多个检测电极化 检测起因于输入工具CMD的有无的电容量的变化，检测输入工具CMD的位置。
[0103] 在图9~图12所示的自检方式的触摸面板TPs的情况下，多个检测电极化的每一个 兼具图4所示的多个检测电极Rx的功能和驱动电极Τχ的功能。因而，在图6~图8所示的触摸 面板ΤΡ是自检方式的触摸面板ΤΡ2的情况下，多个检测电极化形成于图6~图8所示的检测 电极RxW及驱动电极Τχ中的任意一个位置即可。
[0104] <盖部件的详细〉
[0105] 接着，对图2所示的盖部件CV1的详细情况进行说明。图13是示出图2所示的盖部件 CV1的周边的构成部分的放大截面图。另外，图22是示出相对于图13所示的显示装置的比较 例的放大截面图。此外，在图13中，因为盖部件CV1的厚度比空间LA1、偏振板化1的厚度极端 厚，所W为了在一个附图中示出各个部件，因此将盖部件CV1的厚度较薄地示出。
[0106] 如图2所示，显示装置DIS1的显示面侧被盖部件CV1覆盖。该盖部件CV1具备作为保 护偏振板化1、显示部PN1W及偏振板化2等的保护部件的功能。另外，存在通过在显示面侧 设置盖部件CV1而能够抑制在被显示的图像形成局部的不均匀的情况。
[0107] 在盖部件CV1除玻璃板外有时可使用由例如丙締树脂等树脂材料构成的树脂板。 在本实施方式中，盖部件CV1是由树脂材料构成的树脂板。盖部件CV1是树脂板的情况下，与 是玻璃板的情况相比较，能够使盖部件CV1轻量化。
[010引另外，盖部件CV1和偏振板PL1接触，从抑制在偏振板PL1发生损伤的观点出发，盖 部件CV1优选固定于偏振板化1。在本实施方式中，盖部件CV1经由沿偏振板化1的周边部涂 布的粘合材料BND被粘合在偏振板化1。还有在盖部件CV1和偏振板化1相对的整个面涂布粘 合材料BND的方法。可是，从减少粘合材料BND的涂布量的观点出发，优选如本实施方式运样 沿偏振板化1的周边部涂布粘合材料BND的方法。
[0109] 此时，在涂布粘合材料BND的粘合区域的内侧，如图13所示，空间LA1介于盖部件 CV1的背面CVb和偏振板化1的前面化If之间。空间LA1沿盖部件CV1的背面CVbW及偏振板 PL1的前面化If延伸，在空间LA1内存在例如空气。换而言之，盖部件CV1的背面CVb和偏振板 PL1的前面化If经由沿盖部件CV1的背面CVb延伸的空间而相互相对。此外，如构成为盖部件 CV1因来自外部的压力而变形，则在空间LA1可W包含空气层之外的变形层。
[0110] 运样，在经由空间LA1而使盖部件CV1和偏振板化1相对配置的方式的情况下，能够 减少粘合材料BND的涂布量。只要能够减少粘合材料BND的涂布量，则在组装显示装置DIS1 时，能够减少粘合材料BND的涂布量的误差。因此，能够减少起因于粘合材料BND的涂布量的 偏差的粘合材料BND的遗漏。或者，通过减少粘合材料BND的涂布量的误差，能够使盖部件 CV1的背面CVb和偏振板化1的前面化1 f的离开距离即图13所示的空间LA1的厚度TH1稳定。
[0111] 但是，优选空间LA1的厚度变薄。即，从实现显示装置DIS1的薄型化的观点出发，优 选使显示装置DIS1的各构成部件的厚度变薄，优选使空间LA1的厚度TH1也变薄。图14是示 出触摸面板的检测精度和图13所示的空间的厚度的关系的说明图。图14的纵轴表示触摸面 板的检测精度，W空间LA的厚度TH1为lOOwn时的检测精度为100%时的比例进行示出。另 夕h图14的横轴表示触摸面板的例如图13所示的空间LA1的厚度TH1的数值。
[0112] 另外，如图13所示的本实施方式的显示装置DIS1那样，在带有输入部显示装置且 空间LAI介于检测电极Τχ和盖部件CVl之间的情况下，空间LAI介于检测电极Rx和手指等输 入工具CMD(参照图4)之间。因此，通过使空间LA1的厚度TH1缩小，可W使检测电极Rx的位置 检测精度提局。
[0113] 例如，在图13所示的例子中，盖部件CV1的厚度TH2为1mm~2mm左右，然而空间LA1 的厚度TH1优选比盖部件CV1的厚度T肥薄。另外，从使触摸面板TP的检测精度提高的观点出 发，空间LA1的厚度TH1优选为300ymW下。另外，本申请研究人员对触摸面板TP的检测精度 和空间LA1的厚度TH1的关系进行了探讨之后，如图14所示，触摸面板TP的检测精度和空间 LA1的厚度TH1为概略反比例的关系。即，空间LA1的厚度TH1越小，触摸面板TP的检测精度越 提高。尤其在空间LA1的厚度TH1为300ymW下的情况下，通过缩小空间LA1的厚度TH1，使触 摸面板TP的检测精度提高的效果很大。因而，空间LA1的厚度TH1优选为偏振板化1的厚度 TH3 W下。在图13所示的例子中，偏振板化1的厚度TH3的厚度为100皿左右。因而，空间LA1的 厚度TH1如为lOOymW下，则空间LA1的厚度TH1与偏振板化1的厚度TH3同程度或者为厚度 T册W下。
[0114] <关于牛顿环〉
[0115] 在此，本申请研究人员在进一步进行探讨之后可知，如上所述，在经由空间LA1相 对配置盖部件CV1和偏振板化1的显示装置的情况下，如盖部件CV1局部地弹性变形，则存在 弹性变形的部分的周围不能正确显示的情况。例如，如图13所示的本实施方式的显示装置 DISK图22所示的显示装置DI化1那样，在带有触摸面板TP的显示装置DI化1的情况下，存在 用手指等进行输入操作时盖部件CV1局部地弹性变形的情况。图22所示的显示装置DI化1在 盖部件CV1的前面CVf、背面CVbW及偏振板化1的前面化If的每一个不形成图13所示的反射 抑制层RC1(第一反射抑制层的一例）的方面，与图13所示的显示装置DIS1不同。其他方面 与图13所示的显示装置DIS1同样。
[0116] 由本申请研究人员对图22所示的显示装置DI化1进行探讨的结果可知，如显示装 置DI化1的盖部件CV1的一部分由于触摸操作而局部地变形，则在变形的部分的周围，所谓 牛顿环的环状干设条纹被目视确认。
[0117] 该牛顿环是在盖部件CV1的一部分已局部地变形时由于被盖部件CV1的背面CVbW 及偏振板化1的前面化If的两面反射的光波的干设而产生的同屯、圆状的多个干设条纹。因 而，牛顿环在盖部件CV1没有变形时不发生，如盖部件CV1的弹性变形部分复原，则消失。可 是，从使显示装置的图像品质提高的观点出发，即使在盖部件弹性变形的状态下，优选牛顿 环不被目视确认。
[0118] 另外，盖部件CV1弯曲的部分的曲率半径越大则环的直径越大，牛顿环被目视确认 变得容易。另外，盖部件CV1和偏振板化1接触的情况下，目视确认变得特别容易。
[0119] 即，如上所述，在盖部件CV1由例如丙締树脂等树脂材料构成的树脂板的情况下， 因为盖部件CV1容易变形，所W牛顿环容易被目视确认。另外，如本实施方式那样，在具备触 摸面板TP的显示装置DIS1的情况下，因为盖部件CV1被手指等局部地按压，所W盖部件CV1 容易局部地变形。
[0120] 另外，如上所述，在空间LA1的厚度TH1薄的情况下，因为盖部件CV1的弯曲部分的 曲率半径增大，所W牛顿环容易被目视确认。另外，由于空间LA1的厚度TH1薄，在盖部件CV1 的一部分和偏振板化1的一部分接触的情况下，牛顿环被目视确认变得特别容易。
[0121] 因此，本申请研究人员对抑制牛顿环的显现的技术进行了探讨。其结果可知，如在 下面详细所述，如在与空间LA1相对的两面中至少一面形成有反射抑制层RC1(参照图13)， 则能够抑制牛顿环的显现。下面本申请研究人员参照对各种构成进行试验的结果进行详细 地说明。
[0122] 下面的表（1)~（3)是示出对盖部件W及偏振板的各面的反射抑制处理的方法和 牛顿环的显现程度的关系的说明图。另外，图15是模式地示出反射抑制层的一个构造例的 说明图。另外，图16是模式地示出W与图15不同的方式抑制反射的构造例的说明图。另外， 图8~图20分别是示出相对于图13的变形例的显示装置的放大截面图。
[0123] 表(1)
[0129] 在表(1)~(3)中，在各表的最上部所示出的是划分号码(plot number)。在划分号 码的栏目记载有对应于图22所示的显示装置DI化1的对照区CP的条件。另外，划分号码的栏 目的ΕΡ1、ΕΡ2、ΕΡ3、···、ΕΡ16的各记号示出试验区的号码。
[0130] 图13、图17~图20W及图22所示的显示装置和上述表（1)~(3)所示的各试验区的 对应关系如下。即，图22所示的显示装置DI化1对应于上述表（1)~（3)所示的对照区CP。另 夕h图13所示的显示装置DIS1对应于上述表（1)~（3)所示的试验区ΕΡ2、试验区ΕΡ3 W及试 验区EP4。另外，图17所示的显示装置DIS4对应于上述表（1)~（3)所示的试验区EP1。另外， 图18所示的显示装DIS5对应于上述表（1)~（3)所示的试验区EP5、试验区EP12、试验区EP13 W及试验区EP14。另外，图19所示的显示装置DIS6对应于上述表（1)~（3)所示的试验区 EP7、试验区EP8、试验区EP9、试验区10、试验区15 W及试验区EP16。另夕h图20所示的显示装 置DIS7对应于上述表(1)~(3)所示的试验区EP6W及试验区EP11。
[0131] 另外，在划分号码的栏目的下部示出对盖部件CV1(参照图13)的前面CVf、背面CVb W及偏振板化1(参照图13)的前面化If的各面的表面处理(surface treatment)的种类。详 细而言，在表面处理的栏目示出图13所示的反射抑制层RC1等的具备抑制反射光的功能的 功能性膜的种类W及反射光抑制的程度的区别。
[0132] 图13所示的反射抑制层RC1是具备通过控制在显示面侧反射的反射光的反射方向 而使在显示面侧被目视确认的反射光减少的功能的光学功能性膜。使被目视确认的反射光 减少的方法大致分为在图15所示的光扩散方式和图16所示的光干设衰减方式。
[0133] 图15所示的光扩散方式的反射抑制层AG具有使入射光IL1在多个方向扩散的光扩 散部DIF。光扩散部DIF是具备使反射光化1在多个方向扩散的功能的部分。在图15所示的例 子中，例如，粒径为2WI1~化m左右的多个粒子FIL被分散配置于树脂中。被照射到反射抑制 层AG的入射光IL1因为被光扩散部DIF扩散，所W到达观察者的反射光化1的量衰减。其结 果，可W目视确认的反射光化1的亮度降低。此外，光扩散方式的反射抑制层AG的构成除图 15所示的例子之外有各种变形例。例如可列举利用喷砂法等对反射抑制层AG的露出面进行 粗面化处理的方法等。
[0134] 对反射抑制层AG的露出面进行粗面化处理的构造可W如下表现。即，反射抑制层 AG的露出面与和位于露出面的相反侧的母材(在图15所示的例子中为盖部件CV1或者偏振 板化1)的粘合界面相比较，表面粗糖度粗。并且，对在图13、后述的图17所记载的反射抑制 层RC1进行了粗糖化处理的构造可W如下所述地表现。也就是说，反射抑制层RC1的与盖部 件CV1相对的面与反射抑制层RC1的与偏振板化1相对的面相比，表面粗糖度更粗糖。并且， 在对图17记载的反射抑制层RC2进行了表面处理的构造可W如下所述地表现。也就是说，反 射抑制层RC2的与偏振板1相对的面与反射抑制层RC2的与盖部件CV1相对的面相比，表面粗 糖度更粗糖。
[0135] 另外，光扩散方式的反射抑制层AG的反射抑制层效果的程度可W使用雾度化aze) 的指标进行评价。雾度可作为相对于全部光线透过光的扩散透过光的比例而求出。意味着 雾度的数值越大，反射抑制效果越大。
[0136] 在上述表(1)~(3)的表面处理的栏中，在记载有"AG1"的试验区中，形成反射抑制 层AG使雾度为26%。另外，在上述表（1)~(3)的表面处理的栏中，在记载有"AG2"的试验区 中，形成反射抑制层AG使雾度为28%。
[0137] 此外，在上述表（1)~（3)所示的实验结果中，记载有雾度的值为26%的情况和为 28%的情况，然而如后所述，图15所示的反射抑制层AG的牛顿环的抑制效果比图16所示的 反射抑制层AR的牛顿环的抑制效果高。因此，认为即使是雾度的值小于26%的情况，与上述 表(1)~(3)所示的对照区CP相比较，可获得抑制牛顿环的效果。
[0138] 另一方面，图16所示的光干设衰减方式的反射抑制层AR具有使相对于入射光IL2 的反射光化2的反射角度一致的反射方向调整部RDC。反射方向调整部RDC是包含折射率互 不相同的多个部分，具备利用光的折射而使相对于入射光IL2的反射光化2的反射角度一致 的功能的部分。在图16所示的例子中，示出通过使折射率互不相同的反射膜RF1W及反射 膜RF2层叠而使反射光化2相对于入射光IL2的反射角度一致的例子。如图16所示，例如偏振 板化1的前面化1 f相对的入射光IL2的入射角度和反射光化2的反射角度如果一致，则利用 入射光IL2和反射光化2的干设，能够使到达观察者的反射光化2衰减。其结果是，可目视确 认的反射光化2的亮度降低。此外，光干设衰减方式的反射抑制层AR的构成除图16所示的例 子之外有各种的变形例。例如，可W使Ξ层W上的反射膜层叠。或者可W在反射抑制层AR分 散配置棱镜运样的多个构造物。
[0139] 另外，光干设衰减方式的反射抑制层AR的反射抑制效果的程度可W使用反射率的 指标进行评价。反射率作为相对于入射光的反射光的比例而求出。意味着反射率的值越小， 反射抑制效果越大。
[0140] 在上述表(1)~(3)的表面处理的栏中，在记载有"AR1"的试验区中，形成有反射抑 制层AR使反射率为1.6%。另外，在上述表(1)~(3)的表面处理的栏中，在记载有"AR2"的试 验区中，形成有反射抑制层AR使反射率为0.3%。另外，在上述表（1)~(3)的表面处理的栏 中，在记载有"AR3"的试验区中，形成有反射抑制层AR使反射率为0.14%。
[0141] 另外，在上述表（1)~(3)的表面处理的栏中示出在记载有HC的试验区中没有形成 图15所示的反射抑制层AGW及图16所示的反射抑制层AR的任意一个的状态。
[0142] 另外，在表面处理的栏的下部示出盖部件CV1(参照图13)的厚度TH2W及空间LA1 (参照图13)的厚度TH1。此外，对变更盖部件CV1的厚度TH2W及空间LA1的厚度TH1的实验对 多个试验区中的一部分试验区示出实验结果。
[0143] 另外，在厚度(thickness)的栏目的下部示出牛顿环(Newton's rings)的程度。牛 顿环(Newton's rings)的程度的评价结果示出通过目视确认牛顿环的有无的结果。记载有 记号"◎"的试验区与其他试验区相比较，牛顿环的抑制效果特别高。即使在有意地用例如 20N(牛顿)左右的强力按压盖部件CV1(参照图13)而使其局部变形的情况下，对牛顿环几乎 不被目视确认的试验区附上。
[0144] 记载有记号"〇(◎ r的试验区在记载有记号"◎"的试验区之后，牛顿环的抑制效 果高。在有意地用强力按压盖部件CV1(参照图13)的情况下存在发生牛顿环的情况，与后述 的记载有记号的试验区相比较，在牛顿环的发生频率特别低的试验区附上"〇(◎)"。
[0145] 另外，记载有?"的试验区在记载有记号"〇(◎)"的试验区之后，牛顿环的抑制 效果高。在有意地用强力按压盖部件CV1(参照图13)的时候存在发生牛顿环的情况，在通常 的触摸操作下用设想的例如3N(牛顿)左右的力不发生牛顿环的试验区附上"〇"。
[0146] 记载有记号"Δ(〇r的试验区在记载有记号的试验区之后，牛顿环的抑制效 果高。如与记载有记号的试验区相比较，则牛顿环被目视确认的频率高，然而如与后述 的记载有记号"Δ"的试验区相比较，则在牛顿环的发生频率低的试验区附上"Δ(ΟΓ。
[0147]另外，记载有记号"Δ"的试验区在记载有记号"Δ( 0 Γ的试验区之后，牛顿环的 抑制效果高。在通常设想的程度的触摸操作下，存在牛顿环被目视确认的情况，然而如与对 照区CP相比较，则在牛顿环的发生频率明显低的试验区附上"Δ"。
[014引另外，记号"X"在上述表（1)~（3)所示的表中仅记载于对照区CP。对照区CP的情 况下，牛顿环W高于记载有记号"Δ"的试验区的频率被目视确认。
[0149] 根据上述的评价基准，参照上述表（1)~（3)所示的评价结果，对抑制牛顿环显现 的技术进行说明。
[0150] 首先，对上述表（1)~（3)所示的对照区CP和试验区ΕΡ1~试验区ΕΡ4进行比较。可 知如图13所示的显示装置DIS1或者图17所示的显示装置DIS4那样，如在盖部件CV1的背面 CVbW及偏振板化1的前面化If中至少一面设置反射抑制层RC1或者反射抑制层RC2(第二反 射抑制层的一例），则与对照区CP进行比较，能够抑制牛顿环的发生。
[0151] 另外，可知因为对试验区EP1~试验区EP16全部给予记号上的评价，所W无 论对盖部件CV1的前面CVf的表面处理的有无，都能够抑制牛顿环的发生。
[0152] 另外，可知如对试验区EP1和试验区EP2进行比较，则如图13所示的显示装置DIS1 那样，在偏振板化1的前面化If设置有反射抑制层RC1，容易抑制牛顿环的发生。即，图13所 示的显示装置DIS1比图17所示的显示装置DIS4相对地难W发生牛顿环。
[0153] 接着，利用反射抑制层RC1(参照图13)或者反射抑制层RC2(参照图17)等的功能， 对使被目视确认的反射光减少的效果进行比较。如对试验区EP2和试验区EP3进行比较，可 知如在图15所示的反射抑制层AG那样，利用光扩散部DIF使入射光扩散的方式牛顿环的抑 制效果高于图16所示的反射抑制层AR。该倾向对于试验区EP5对试验区7、试验区8或者试验 区EP12进行比较的情况也同样。另外，如试验区EP15W及试验区EP16所示，即使图19所示的 盖部件CV1的厚度T肥变薄，反射抑制层AR的牛顿环的抑制效果也难W改善。
[0154] 因而，从抑制牛顿环发生的观点出发，图13、图18W及图19所示的反射抑制层RC1 优选为图15所示的反射抑制层AG。另外，图17、图18W及图19所示的反射抑制层RC2优选图 15所示的反射抑制层AG。尤其如图13所示的显示装置DISK图17所示的显示装置DIS4那样， 在盖部件CV1的背面CVbW及偏振板PL1的前面化If中任一面形成反射抑制层而在另一面不 形成反射抑制层的情况下，优选形成图15所示的反射抑制层AG。
[01巧]另外，如图19所示的显示装置DIS6、图20所示的显示装置DIS7那样，在盖部件CV1 的前面CVf形成反射抑制层RC3的情况下，反射抑制层RC3是图15所示的反射抑制层AG，抑制 牛顿环发生的效果高。但是，如对试验区EP2、试验区EP5、试验区EP6相互比较，则认为在盖 部件CV1的前面CVf，反射抑制层RC3与盖部件CV1的背面CVb的反射抑制层RC2(参照图18)相 比较，抑制牛顿环发生的效果相对较小。
[0156] 另外，如对试验区EP1、试验区EP2的每一个和试验区EP5进行比较，则在试验区EP5 中，在前面CVf没有形成反射抑制层，然而通过在背面CVb和前面PLlf形成反射抑制层AG(参 照图15)，牛顿环栏的评价为因而，如图18所示的显示装置DIS5那样，在偏振板化1的 前面化If设置有反射抑制层RC1且在盖部件CV1的背面CVb设置有反射抑制层RC2的情况 下，与图13所示的显示装置DIS1、图17所示的显示装置DIS4相比较，容易抑制牛顿环的发 生。另外，在反射抑制层RC1W及反射抑制层RC2为图15所示的反射抑制层AG的情况下，牛顿 环的抑制效果特别高。另外，在能够分别形成图18所示的反射抑制层Rcm及反射抑制层 RC2的情况下，优选在图19 W及图20所示的反射抑制层RC3优先设置反射抑制层RCW及反射 抑制层RC2。
[0157]但是，如对试验区EP2和试验区EP4进行比较可知，如反射抑制层AG(参照图15)的 雾度化aze)的值较大，则牛顿环难W被目视确认。根据对照区CP和试验区EP4结果的比较， 反射抑制层AG的雾度的值优选为26% W上。另外，根据试验区EP2和试验区EP4结果的比较， 如图13所示，在盖部件CV1的背面CVb不设置反射抑制层RC2(参照图18)的时候反射抑制层 AG的雾度的值特别优选为28% W上。
[015引另外，如对试验区EP7、试验区EP8 W及试验区EP9的每一个进行比较，可知图19所 示的反射抑制层RC1、反射抑制层RC2W及反射抑制层RC3的每一个即使是图16所示的反射 抑制层AR的情况，通过缩小反射抑制层AR的反射率的值，也能够抑制牛顿环的发生。即，图 16所示的反射抑制层AR的反射率的值如果在1.6% W下，则可得到能够抑制牛顿环的发生 的效果。另外，反射抑制层AR的反射率的值优选为0.3% W下，特别优选为0.14% W下。
[0159] 此外，没有使图18所示的反射抑制层RC1W及反射抑制层RC2为图16所示的反射抑 制层AR的试验区。可是，如上所述，在盖部件CV1的前面CVf设置反射抑制层RC3(参照图19) 的牛顿环的抑制效果比较小。因而，认为对图18所示的反射抑制层RC1W及反射抑制层RC2 与试验区EP7、试验区EP8W及试验区EP9的比较可得到同样的结果。
[0160] 另外，如试验区EP5所示，在图18所示的反射抑制层RC1W及反射抑制层RC2的每一 个是图15所示的反射抑制层AG的情况下，牛顿环几乎不被目视确认。另外，如试验区EP13W 及试验区EP14所示，空间LAU参照图18)的厚度TH1即使变化，该评价结果也同样。此时，如 图18所示，在盖部件CV1的前面CVf即使不设置反射抑制层RC3(参照图19)，牛顿环的抑制 效果不变化。另一方面，从使显示装置的制造工序效率化的观点出发，优选不形成反射抑制 层 RC3。
[0161] W上根据实施方式W及代表性的变形例对本申请研究人员完成的实用新型具体 进行了说明，除上述变形例之外还有各种变形例。例如，在上述实施方式中，公开了作为显 示功能层使用液晶层的显示装置，然而还可W是其他方式。例如，对作为显示功能层使用由 机化合物构成的发光元件的所谓有机化型显示装置能够适用上述技术。
[0162] 另外，例如在上述实施方式中，公开了牛顿环被目视确认的可能性高的带有输入 部的显示装置，然而还可W适用不具有输入部的显示装置。即使是不具有输入部的显示装 置，在存在经由空间覆盖显示部的显示面侧的盖部件的一部分局部变形的主要原因的情况 下，存在牛顿环被目视确认的情况。此时，通过适用上述技术，能够抑制牛顿环被目视确认。
[0163] 另外，例如在上述实施方式中，举出盖部件由树脂材料构成的树脂板的情况的实 施方式进行了说明。树脂制的盖部件与玻璃制的盖部件相比较，如局部被施加外力，则局部 容易变形，所W牛顿环被目视确认的条件容易成立。可是，即使盖部件是玻璃制的，也存在 由于空间的厚度、盖部件的厚度而牛顿环被目视确认的情况。此时，通过适用上述技术能够 抑制牛顿环被目视确认。
[0164] 另外，例如在上述实施方式中，公开了经由空间与盖部件相对配置的第一部件是 偏振板的实施方式。可是即使在经由空间与盖部件相对配置的部件不是偏振板的情况下， 也存在牛顿环被目视确认的情况。此时，通过适用上述技术，能够抑制牛顿环被目视确认。
[0165] 另外，例如在上述实施方式中，如图13、图17、图18、图19 W及图20所示，公开了在 检测电极Rx和盖部件CV1之间设置空间LA1的实施方式。可是，如图21所示的显示装置DIS8 那样，在盖部件CV1的前面CVf和背面CVb之间可W形成检测电极Rx。图21是示出相对于图13 的其他变形例即显示装置的放大截面图。
[0166] 图21所示的显示装置DIS8在检测电极Rx形成于盖部件CV1的背面CVb侧即为显示 面的前面CVf的相反侧的面的方面，与图13所示的显示装置DIS1不同。其他方面与显示装置 DIS1同样。
[0167] 在显示装置DIS8的情况下，检测电极Rx被树脂层0C3等覆盖膜覆盖，树脂层0C3的 一个面具有盖部件CV1的背面CVb。换而言之，显示装置DIS8具有的检测电极Rx形成于盖部 件CV1的前面CVf和背面CVb之间。
[0168] 在显示装置DIS8的情况下，因为在盖部件CV1形成检测电极Rx，决定图4W及图9~ 图11所示的输入工具CMD和检测电极Rx之间的距离与空间LA1的厚度TH1无关。但是，即使是 显示装置DIS8的情况下，例如从装置的薄型化等目的出发，存在使空间LA1的厚度TH1变薄 的情况。因而，由于使空间LA1的厚度TH1变薄，在牛顿环显现的情况下，通过适用上述技术， 能够抑制牛顿环被目视确认。
[0169] 此外，作为图21所示的显示装置DIS8的变形例，在盖部件CV1的背面CVb形成图18、 图19所示的反射抑制层RC2的时候，在树脂层0C3的露出面进一步层叠反射抑制层RC2。
[0170] 另外，省略图示，然而作为对图21所示的显示装置DIS8的其他变形例，存在在盖部 件CV1和空间LA1之间形成图4所示的检测电极RxW及驱动电极Τχ或者图9~图12所示的检 巧陆极EL的情况。另外，在形成检测电极RxW及驱动电极Τχ的情况下，例如如使用图4所说 明，驱动电极TxW及多个检测电极Rx经由电介质层DL在厚度方向层叠。或者形成检测电极 RxW及驱动电极Τχ的情况下，可W在同层形成驱动电极TxW及检测电极Rx。
[0171] 另外，例如，还能够使上述各种变形例之间组合而适用。
[0172] 在本实用新型精神范围内，本领域技术人员可构想各种变形例W及修改例，并且 应当理解为运些变形例和修改例也涵盖在本实用新型的范围内。只要具备本实用新型的要 点，皆包含在本实用新型的范围内，例如本领域技术人员对上述的各实施方式适当进行构 成要素的添加、删除或者设计变更、或者进行工序的添加、省略或者条件变更。
[0173] 【工业实用性】
[0174] 本实用新型可用于显示装置、装入显示装置的电子机器。
[0175] 符号说明
[0176] AFUAF2取向膜
[0177] AG、AR、RC1、RC2、RC3 反射抑制层
[0178] BM遮光膜 BND粘合材料
[0179] BS、FS基板 B訊、F訊背面
[0180] BSf、FSf 前面 BSg、FSg 基材
[0181] C1电容元件 Cxl、Cx2电容
[0182] CC电路部 Ccr电容器
[0183] CE共用电极 CF滤色片
[0184] CFr、CFg、C即滤色片像素 CHP半导体忍片
[0185] CMD输入工具 CNTl控制电路
[0186] CV1盖部件 CVb背面
[0187] CVf前面 DIF光扩散部
[018 引 DISl、DIS2、DIS3、DIS4、DIS5、DIS6、DIS7、DIS8、DIShl 显示装置
[0189] DL电介质层 DP显示区域
[0190] DRUDR2驱动电路 DT1检测电路
[0191] DW驱动波形 化检测电极
[0192] FIL粒子 化边缘部
[0193] ILUIL2入射光 IPC信号输入部
[0194] LA1空间 LCL液晶层
[0195] LS光源 0CU0C3树脂层
[0196] 0C2绝缘层 阳像素电极
[0197] PLUPL2偏振板 化If前面
[019引 PN1显示部 畑C反射方向调整部
[0199] RFURF2反射膜 RLURL2反射光
[0200] Rx检测电极(输入位置检测电极）
[0201] SW信号波形 SWc控制开关
[0202] TP触摸面板 Τχ驱动电极
[0203] Vdd电源 VW观众。
【主权项】
1. 一种显示装置，其特征在于，包括： 显示部，包括显示功能层； 盖部件，包括第一面以及位于所述第一面的相反侧的第二面，所述盖部件覆盖所述显 示部； 第一部件，包括经由第一空间与所述盖部件的所述第二面相对的第三面；以及 输入部，包括多个检测电极，所述输入部经由多个所述检测电极检测电容量的变化， 在所述盖部件的所述第二面及所述第一部件的所述第三面中的任一面，形成有使反射 光减少的反射抑制层。2. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于， 在所述第一部件的所述第三面形成有作为所述反射抑制层的第一反射抑制层。3. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于， 在所述盖部件的所述第二面形成有作为所述反射抑制层的第二反射抑制层。4. 根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于， 在所述盖部件的所述第二面形成有作为所述反射抑制层的第二反射抑制层。5. 根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层具有使从显示面侧照射的入射光在多个方向扩散的光扩散部。6. 根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层的与所述盖部件相对的面的表面粗糙度比所述第一反射抑制层 的与所述第一部件相对的面的表面粗糙度更粗糙。7. 根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层的露出面比和位于所述露出面的相反侧的所述第一部件之间的 粘结界面，表面粗糙度更粗糙。8. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层具有使从显示面侧照射的入射光扩散的第一光扩散部， 所述第二反射抑制层具有使从所述显示面侧照射的入射光扩散的第二光扩散部。9. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层的与所述盖部件相对的面的表面粗糙度比所述第一反射抑制层 的与所述第一部件相对的面的表面粗糙度更粗糙， 所述第二反射抑制层的与所述第一部件相对的面的表面粗糙度比所述第二反射抑制 层的与所述盖部件相对的面的表面粗糙度更粗糙。10. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层的第一露出面比和位于所述第一露出面的相反侧的所述第一部 件之间的粘结界面，表面粗糙度更粗糙， 所述第二反射抑制层的第二露出面比和位于所述第二露出面的相反侧的所述盖部件 之间的粘结界面，表面粗糙度更粗糙。11. 根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层的雾度的值为26 %以上。12. 根据权利要求5所述的显示装置，其特征在于， 在所述盖部件的所述第二面未形成有所述反射抑制层， 所述第一反射抑制层的雾度的值为28%以上。13. 根据权利要求2所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层具有包含折射率互不相同的多个部分的第一反射方向调整部， 所述第一反射抑制层的反射率为〇. 14%以下。14. 根据权利要求4所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层具有包含折射率互不相同的多个部分的第一反射方向调整部， 所述第二反射抑制层具有包含折射率互不相同的多个部分的第二反射方向调整部， 所述第一反射抑制层以及所述第二反射抑制层的反射率分别为1.6%以下。15. 根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层以及所述第二反射抑制层的反射率分别为〇. 3 %以下。16. 根据权利要求14所述的显示装置，其特征在于， 所述第一反射抑制层以及所述的第二反射抑制层的反射率分别为〇. 14%以下。17. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于， 所述盖部件的所述第二面和所述第一部件的所述第三面之间的离开距离比所述盖部 件的厚度薄。18. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于， 所述第一空间设置在多个所述检测电极和所述盖部件之间。19. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于， 多个所述检测电极设置在所述盖部件的所述第一面和所述第二面之间， 所述第一空间设置在多个所述检测电极和所述盖部件之间。20. 根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于， 所述第一部件是使从显示面侧供给的透过光偏振的偏振板。
【文档编号】G02F1/1335GK205450504SQ201520891090
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年11月10日
【发明人】古谷直祐, 中村厚志, 石毛理, 野口幸治, 田中千浩
【申请人】株式会社日本显示器