显示装置的制造方法
【专利摘要】本发明公开一种显示装置，包括一第一基板、一第二基板及多个间隔件。第一基板包括一第一基材、一元件结构、一绝缘层、一像素电极层及一填平层。元件结构形成于第一基材上。绝缘层形成于元件结构上。绝缘层具有至少一穿孔。像素电极层形成于绝缘层上，一部分的像素电极层延伸至穿孔中并与元件结构电连接。像素电极层对应穿孔位置形成一凹槽部。填平层形成于像素电极层上，并填满凹槽部。第二基板设置于第一基板的对侧。间隔件位于第一基板与第二基板间并对应设置于填平层上。
【专利说明】
曰f驻罢业不表直
技术领域
[0001]本发明涉及一种显示装置，特别是涉及一种具有间隔件设置于二相对基板之间的显示装置。
【背景技术】
[0002]显示装置在现代人的生活中扮演着重要角色。其应用领域扩及电视、桌上型电脑、笔记型电脑、平板、移动装置、生医领域、工业领域、交通领域等等。发展至今，显示装置包括CRT显示装置、液晶显示装置、OLED显示装置、等离子体显示装置等诸多类别。其中，目前最常见的当属液晶显示装置。相较于传统的CRT显示装置来说，液晶显示装置具有体积小、重量轻、辐射低、省电等优点。至今为止，对于各种显示装置的改良仍不断地进行。
【发明内容】
[0003]本发明是对于显示装置的改良。
[0004]根据一些实施例，一种显示装置包括一第一基板、一第二基板及多个间隔件。第一基板包括一第一基材、一元件结构、一绝缘层、一像素电极层及一填平层。元件结构形成于第一基材上。绝缘层形成于元件结构上。绝缘层具有至少一穿孔。像素电极层形成于绝缘层上，一部分的像素电极层延伸至穿孔中并与元件结构电连接。像素电极层对应穿孔位置形成一凹槽部。填平层形成于像素电极层上，并填满凹槽部。第二基板设置于第一基板的对侧。间隔件位于第一基板与第二基板间并对应设置于填平层上。
[0005]为了对本发明的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举优选实施例，并配合所附的附图，作详细说明如下:
【附图说明】
[0006]图1?图3为一实施例的显示装置的示意图；
[0007]图4为另一实施例的显示装置的示意图；
[0008]图5及图6为不同实施例的显示装置的示意图。
[0009]符号说明
[0010]100:第一基板
[0011]102:第一基材
[0012]104:元件结构
[0013]106:绝缘层
[0014]108:穿孔
[0015]110:像素电极层
[0016]112:填平层
[0017]114:配向层
[0018]116:扫描线
[0019]118:数据线
[0020]120:薄膜晶体管
[0021]122:第一层间绝缘层
[0022]124:第二层间绝缘层
[0023]126:导孔
[0024]128:缓冲层
[0025]130:底部电极
[0026]132:顶部电极
[0027]134:钝化层
[0028]200:第二基板
[0029]202:第二基材
[0030]204:彩色滤光层
[0031]204B:蓝色区域
[0032]204G:绿色区域
[0033]204R:红色区域
[0034]206:黑色矩阵层
[0035]208:上覆层
[0036]210:配向层
[0037]300:液晶层
[0038]302:间隔件
[0039]1100:凹槽部
[0040]N:非穿透区
[0041]T:穿透区
【具体实施方式】
[0042]请参照图1?图3，其绘示根据一实施例的显示装置。图3为沿着图1、图2中A_A’线的剖视图。显示装置包括一第一基板100、一第二基板200及多个间隔件302。第一基板100包括一第一基材102、一元件结构104、一绝缘层106、一像素电极层110及一填平层112。元件结构104形成于第一基材102上。绝缘层106形成于元件结构104上。绝缘层106具有至少一穿孔108。像素电极层110形成于绝缘层106上，一部分的像素电极层110延伸至穿孔108中并与元件结构104电连接。像素电极层110对应穿孔108位置形成一凹槽部1100。填平层112形成于像素电极层110上，并填满凹槽部1100。第二基板200设置于第一基板100的对侧。间隔件302位于第一基板100与第二基板200间并对应设置于填平层112上。
[0043]具体来说，第一基板100的元件结构104可包括多条扫描线116、多条数据线118及多个薄膜晶体管120。间隔件302沿扫描线116排列。第一基板100的元件结构104还可包括第一层间绝缘层122、第二层间绝缘层124、导孔126及缓冲层128等等。第一层间绝缘层122及第二层间绝缘层124可分别由硅氮化物(SiNx)及硅氧化物(S1x)形成。像素电极层110可在穿孔108底部耦接至穿过第一层间绝缘层122及第二层间绝缘层124的导孔126，并可通过导孔126进一步地耦接扫描线116、数据线118及薄膜晶体管120。薄膜晶体管120在本实施例是以低温多晶硅(LTPS)为例，实际应用上也可应用于氧化物半导体层等其他有源层材料。像素电极层110可包括底部电极130、顶部电极132及隔绝二者的钝化层134。底部电极130及顶部电极132可由铟锡氧化物(ITO)形成，钝化层134可由硅氮化物(SiNx)形成。绝缘层106及填平层112可由光敏感材料形成，例如压克力或硅基材料等等。通过使用光敏感材料，可先在结构整体上形成填平层112，再移除不需要的部分。在一实施例中，绝缘层106及填平层112由相同材料所形成。填平层112的上表面的位置高于像素电极层110的上表面。在一实施例中，填平层112覆盖于像素电极层110上的厚度为0.5um?2um。第一基板100还可包括一配向层114，形成于像素电极层110及填平层112上，其中间隔件302设置于配向层114上。配向层114可由聚酰亚胺(PI)形成。
[0044]第二基板200可包括一第二基材202、一彩色滤光层204及一黑色矩阵层206。黑色矩阵层形成于第二基材202上，接着形成彩色滤光层204。彩色滤光层204例如包括蓝色区域204B、红色区域204R及绿色区域204G。黑色矩阵层206定义出显示装置的穿透区T及非穿透区N，其中未被黑色矩阵层206遮蔽的范围即穿透区T，被黑色矩阵层206遮蔽的范围则是非穿透区N。穿孔108及间隔件302设置于黑色矩阵层206遮蔽的范围内。第二基板200还可包括上覆层208，覆盖于彩色滤光层204及黑色矩阵层206上。第二基板200还可包括配向层210，形成于上覆层208上。
[0045]显示装置还可包括一液晶层300，设置于第一基板100与第二基板200之间。间隔件302位于液晶层300中。间隔件可为光致抗蚀剂式间隔件。
[0046]在根据本发明的显示装置中，通过加入填平层，可增加表面平坦的区域。如此一来，如图4所示，即使间隔件的位置稍微偏离至穿孔的上方，也不会受到因穿孔的影响而有高度上的变化，可避免由间隔件所分离的二基板之间的距离有变动的情况，从而提高基板间距的一致性。随着显示装置的分辨率提高，像素面积及间距都逐渐变小，若是没有填平层的设置，则极有可能发生间隔件因对位误差而掉入穿孔的情况，进而造成二基板之间的距离有局部的改变。二基板之间的距离对于光的穿透度及色度有着很大的影响，若是发生间隔件掉入穿孔的情况，便会造成显示装置的光学特性不佳。因此，加入填平层的设计可改善显示装置的光学特性，如对比度(contrast rat1)等等。
[0047]再者，由于填平层高于像素电极层一定的高度，在维持相同的基板间隔的情况下，可整体性地缩小间隔件的尺寸。如此一来，需要被黑色矩阵层遮蔽的范围可减小，进而提高显示装置的开口率(aperture rat1) ο
[0048]在此，为了方便起见，以液晶显示装置为例进行说明。然而，本发明并不受限于此，任何具有间隔件设置于二相对基板之间的显示装置都可适用。
[0049]现在请参照图5及图6，其绘示根据不同实施例的显示装置。如此二图所示，间隔件302可位于二个穿孔108之间。在一实施例中，如图5所示，填平层112可为带状图案。在另一实施例中，如图6所示，填平层112可为岛状图案。
[0050]综上所述，虽然结合以上优选实施例公开了本发明，然而其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作各种的更动与润饰。因此，本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。
【主权项】
1.一种显示装置，包括: 第一基板，包括: 第一基材； 元件结构，形成于该第一基材上； 绝缘层，形成于该元件结构上，该绝缘层具有至少一穿孔； 像素电极层，形成于该绝缘层上，一部分的该像素电极层延伸至该至少一穿孔中并与该元件结构电连接，且该像素电极层对应该至少一穿孔位置形成一凹槽部；及填平层，形成于该像素电极层上，并填满该凹槽部； 第二基板，设置于该第一基板的对侧；以及 多个间隔件，位于该第一基板与该第二基板间并对应设置于该填平层上。2.如权利要求1所述的显示装置，其中该填平层为带状或岛状图案。3.如权利要求1所述的显示装置，其中该填平层覆盖于该像素电极层上的厚度为0.5um ?2um04.如权利要求1所述的显示装置，其中该填平层由光敏感材料形成。5.如权利要求4所述的显示装置，其中该填平层由压克力或硅基材料形成。6.如权利要求1所述的显示装置，其中该第一基板的该元件结构包括多条扫描线、多条数据线及多个薄膜晶体管，该些间隔件沿该些扫描线排列。7.如权利要求1所述的显示装置，还包括: 液晶层，设置于该第一基板与该第二基板之间，其中该些间隔件位于该液晶层中。8.如权利要求1所述的显示装置，其中该第一基板还包括: 配向层，形成于该像素电极层及该填平层上，其中该间隔件设置于该配向层上。9.如权利要求1所述的显示装置，其中该第二基板包括: 第二基材； 黑色矩阵层，形成于该第二基材上；及 彩色滤光层，形成于该第二基材上。10.如权利要求9所述的显示装置，其中该些间隔件设置于该黑色矩阵层遮蔽的范围内。
【文档编号】G02F1/1339GK105842929SQ201510013971
【公开日】2016年8月10日
【申请日】2015年1月12日
【发明人】刘侑宗, 李淂裕, 黄建达
【申请人】群创光电股份有限公司