专利名称：一种彩膜基板、掩模板及显示装置的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及液晶显示领域，尤其涉及一种彩膜基板、掩模板及显示装置。
背景技术：
现有的薄膜场效应晶体管(TFT，Thin Film Transistor)液晶显示(LCD，Liquid Crystal Display)中，彩膜(CF，Color Film)基板的公共电极层(VCOM)是通过封框(Seal) 胶中的金球(AU Ball)或银胶(TR)与阵列(Array)基板的公共电极层(VCOM)导通的。其中，彩膜基板的公共电极层使用的公共电极金属为氧化铟锡(ITO，hdium-Tin Oxide)。由于彩膜基板的公共电极层实行的是全覆盖模式，即ITO没有空隙的覆盖在整个彩膜基板上，这样，在对盒工艺之后，彩膜基板位于阵列基板的上方，彩膜基板具有公共电极金属的一面朝向阵列基板，如图1所示，在彩膜基板(为图1中的虚线部位)的公共电极层与阵列基板1的栅线(Gate)扇出(Fanout)区域2和数据线(Data)扇出区域3之间，容易发生静电释放(ESD，Electro-Static Discharge)现象，造成后续不良反应，影响液晶面板的品质。
实用新型内容本实用新型实施例提供了一种彩膜基板、掩模板及显示装置，用以解决现有彩膜基板的公共电极层和阵列基板扇出区域之间产生静电释放现象，降低液晶面板品质的问题。本实用新型实施例提供了一种彩膜基板，彩膜基板的公共电极层包括未形成公共电极金属的无图案区域，该无图案区域与在同彩膜基板对盒的阵列基板中栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应。本实用新型实施例提供了一种用于制造前述彩膜基板的公共电极层的掩模板，该掩模板至少包括用于形成彩膜基板的公共电极层的无图案区域的图案。本实用新型实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括前述彩膜基板。本实用新型实施例的有益效果包括本实用新型实施例提供的一种彩膜基板、掩模板及显示装置，彩膜基板的公共电极层包括未形成公共电极金属的无图案区域，该无图案区域与在同彩膜基板对盒的阵列基板中栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应，由于在彩膜基板与阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应的区域没有公共电极金属，能够减小在彩膜基板的公共电极层与阵列基板的栅线扇出区域和数据线扇出区域之间发生静电释放现象的可能性，有效地避免了静电释放后的不良反应，增强了液晶面板的品质。
图1为现有技术中阵列基板的栅极扇出区域和数据线扇出区域的图案示意图；图2为本实用新型实施例提供的彩膜基板的公共电极层的图案示意图；图3为本实用新型实施例提供的掩模板的图案示意图。
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型实施例提供的彩膜基板、掩模板及显示装置的具体实施方式
进行详细地说明。本实用新型实施例提供的一种彩膜基板，彩膜基板的公共电极层包括未形成公共电极金属的无图案区域，该无图案区域与在同彩膜基板对盒的阵列基板中栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应，其中，形成公共电极金属的方法可以为涂布、沉积和溅射等方法，在此不做限定。图2为彩膜基板的公共电极层4中与阵列基板的栅线扇出区域和数据线扇出区域位置对应的区域为无图案区域的示意图，其中，与阵列基板的栅线扇出区域位置对应的无图案区域为5，与数据线扇出区域位置对应的无图案区域为6。使用具有上述公共电极层的彩膜基板，在对盒工艺之后，由于在彩膜基板和阵列基板的栅线扇出区域(数据线扇出区域)位置对应的区域没有公共电极金属，这样，在保证彩膜基板的公共电极层能正常工作的情况下(即通过封框胶中的金球或银胶与阵列基板的公共电极层导通)，能有效地减少在彩膜基板的公共电极层与阵列基板的栅线扇出区域和数据线扇出区域之间发生静电释放现象的可能性，从而增强了液晶面板的品质。此外，彩膜基板的公共电极层的无图案区域的形状可以为圆形、矩形或三角形等常见形状。优选地，彩膜基板的公共电极层的无图案区域的形状可以与阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域的形状相同。更优地，彩膜基板的公共电极层的无图案区域的大小可以与阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域的大小一致。或者，更优地，彩膜基板的公共电极层的无图案区域的边缘可以比阵列基板的栅线扇出区域或数据线扇出区域的边缘宽10-20 μ m，这样，由于彩膜基板的公共电极层的无图案区域的面积较阵列基板的中的栅线扇出区域或数据线扇出区域的面积更大，使得在彩膜基板的公共电极层与阵列基板的栅线扇出区域或数据线扇出区域之间发生静电释放现象的可能性进一步降低。本实用新型实施例还提供了一种用于制造上述彩膜基板的公共电极层的掩模板， 该掩模板至少包括用于形成彩膜基板的公共电极层的无图案区域的图案，即该掩模板的图案至少包括与在彩膜基板下的阵列基板中栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应的区域。图3为掩模板7的图案，其包括与阵列基板的栅线扇出区域对应的区域8和与数据线扇出区域对应的区域9。在实际操作时，只需要将本实用新型实施例提供的掩模板7置于彩膜基板上，之后，形成公共电极金属(ITO)即可形成所需的彩膜基板的公共电极层图案，或者，先在玻璃基板上形成公共电极金属，然后在公共电极金属上形成一层光刻胶，利用本实用新型实施例提供的掩模板7进行曝光、显影、刻蚀，最后形成所需的彩膜基板的公共电极层图案。本领域技术人员应知，使用上述掩膜板形成该公共电极图案的方法不限于上述两种方法，在此不再赘述。本实用新型实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括本实用新型实施例提供的彩膜基板，其中，所述显示装置可以为液晶面板、显示器、电视或手机显示屏等，在此不做限定。本实用新型实施例提供的一种彩膜基板、掩模板及显示装置，彩膜基板的公共电极层包括未形成公共电极金属的无图案区域，该无图案区域与在同彩膜基板对盒的阵列基板中栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应，由于在彩膜基板与阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应的区域没有公共电极金属，能够减小在彩膜基板的公共电极层与阵列基板的栅线扇出区域和数据线扇出区域之间发生静电释放现象的可能性，有效地避免了静电释放后的不良反应，增强了液晶面板的品质。显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板的公共电极层包括未形成公共电极金属的无图案区域，所述无图案区域与在同所述彩膜基板对盒的阵列基板中栅线扇出区域和 /或数据线扇出区域位置对应。
2.如权利要求1所述彩膜基板，其特征在于，所述无图案区域的形状与所述阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域的形状相同。
3.如权利要求2所述彩膜基板，其特征在于，所述无图案区域的大小与所述阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域的大小一致。
4.如权利要求2所述彩膜基板，其特征在于，所述无图案区域的边缘比所述阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域的边缘宽10-20 μ m。
5.一种用于制造如权利要求1-4任一项所述彩膜基板的公共电极层的掩模板，其特征在于，所述掩模板至少包括用于形成彩膜基板的公共电极层的无图案区域的图案。
6.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-4任一项所述彩膜基板。
专利摘要本实用新型公开了一种彩膜基板、掩模板及显示装置，彩膜基板的公共电极层包括未形成公共电极金属的无图案区域，该无图案区域与在同彩膜基板对盒的阵列基板中栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应，由于在彩膜基板与阵列基板的栅线扇出区域和/或数据线扇出区域位置对应的区域没有公共电极金属，能够减小在彩膜基板的公共电极层与阵列基板的栅线扇出区域和数据线扇出区域之间发生静电释放现象的可能性，有效地避免了静电释放后的不良反应，增强了液晶面板的品质。
文档编号G03F1/00GK202267805SQ20112038442
公开日2012年6月6日 申请日期2011年10月11日 优先权日2011年10月11日
发明者木素真, 李成 申请人:北京京东方光电科技有限公司