一种调焦调平测量装置的利记博彩app

文档序号:2792031阅读:192来源:国知局
专利名称:一种调焦调平测量装置的利记博彩app
技术领域
本发明涉及光刻领域,尤其涉及用于后道封装光刻机负胶工作场合中的调焦调平
测量装置。
背景技术
在投影光刻装置中,通常使用硅片调焦调平探测装置来实现对硅片特定区域进行高度和倾斜度的测量。光刻机的光刻工作按光刻胶的不同可分为正胶光刻和负胶光刻。在后道封装光刻机中多为负胶光刻,与正胶光刻相比,负胶光刻工作量大,会产生大量粉尘。因气压式调焦调平系统受粉尘影响较小,所以目前后道封装光刻机所使用的调焦调平系统多为气压式调焦调平,如UltraTech公司于2000年2月29日公开的专利US6029361中采用的就是这种方式。但是,如果在后道封装光刻机中采用光电式调焦调平测量装置,就会因 粉尘污染影响其测量精度。

发明内容
为了解决上述问题,本发明提供了一种带保护玻璃的光电式调焦调平测量装置。根据本发明的用于后道封装光刻机的调焦调平测量装置,该调焦调平测量装置具有投影单元和探测单元,其特征在于,在所述投影单元的出光口和所述探测单元的入光口分别具有保护玻璃,用于防止粉尘或杂物进入投影单元和探测单元。其中,该调焦调平测量装置具有保护装置,该保护装置具有镜框和保护玻璃,所述镜框上具有位于后端的腰形孔和位于镜框四周的阵列孔,所述腰形孔用于定位该保护装置,所述阵列孔用于滴胶,从而将保护玻璃粘结到镜框上。其中,所述保护装置为插拔件。其中,所述镜框的前端为V形插入端。其中,该调焦调平测量装置具有定位装置,所述定位装置包括镜筒和压盖,所述压盖上具有螺钉、供光束通过的通孔和弹性柱销,所述螺钉与保护装置的镜框上的腰形孔相结合,从而实现保护装置的固定定位。上述调焦调平测量装置中保护玻璃的更换方法,具有如下步骤I)将保护装置拔出后置于水中,使旧的保护玻璃从镜框中脱落,镜框清洁干净后装上新的保护玻璃;2)把新的保护装置插入投影单元或探测单元的定位装置的插槽中;3)因不同的保护玻璃厚度上存在差异以及安装面的误差,会对调焦调平系统的零位造成微小的偏移,此时通过FEM找到最佳焦面并将数据传送给调焦调平测量装置;4)调焦调平测量装置得到指令后,通过电机驱动偏置平板旋转,使调焦调平测量装置零位和物镜最佳焦面重合。利用本发明的调焦调平测量装置,既能隔绝外界污染又不影响调焦调平测量装置原有特性。该装置在调焦调平投影单元出口和探测单元入口各安装一保护玻璃,其结构简单且玻璃易于更换。


图I和图2所示分别为使用根据本发明的调焦调平测量装置的投影系统的光路图和结构不意图;图3和图4所示分别为为根据本发明的实施方式的定位装置和保护装置结构示意图。
具体实施例方式下面,结合附图详细描述根据本发明的优选实施例。为了便于描述和突出显示本发明,附图中省略了现有技术中已有的相关部件,并将省略对这些公知部件的描述。下面将结合一个较佳实施例对本发明的带保护装置的光电式调焦调平测量装置 作进一步的详细说明。图I所示为使用根据本发明的调焦调平测量装置的投影系统的光路图。从光源180出射的光经由反射镜190、170反射后从保护装置150出射并投射至投影物镜100下方的硅片160,从硅片160反射的光经保护装置150入射至反射镜140,反射光经偏置平板130偏置后由反射镜110反射至探测狭缝120。该投影系统的结构示意图如图2所示。投影单元200和探测单元210位于投影物镜100两侧,两者所处的位置为调焦调平测量装置最靠近硅片160的两个点,当光刻机进行负胶光刻时,产生的粉尘主要对投影单元200和探测单元210造成污染,为此在投影单元出口和探测单元入口处各安装了一片保护装置150来隔绝污染源。图3和图4所示分别为根据本发明的实施方式的定位装置和保护装置结构示意图。保护装置150包括镜框420和保护玻璃410。在镜框420上具有V形插入端41,后端具有与定位装置结合定位的球窝43,在镜框420四周具有阵列孔42,从阵列孔42滴胶将保护玻璃410粘结在镜框420上从而形成保护装置150。保护装置150为插拔件形式,在保护玻璃受污染后可以很方便的进行快速更换。如图3所示,定位装置包括镜筒310和压盖320,镜筒310上装有在保护装置150插入方向做限位用的圆柱销340,压盖320上具有螺钉330和弹性柱销350。压盖320上的弹性柱销350与保护装置150的镜框420上的球窝43相结合,从而实现保护装置150的固定定位。在保护玻璃更换时,有如下操作步骤I)保护装置150从方形槽中拔出,拔出后置于水中,使旧的保护玻璃410从镜框420中脱落,镜框420清洁干净后装上新的保护玻璃410 ;2)把新的保护装置150插入投影单元200和探测单元210的定位装置的插槽中,球头柱销350自动将保护玻璃夹紧;3)因不同的保护玻璃厚度上存在差异以及安装面的误差,会对调焦调平系统的零位造成微小的偏移,此时可通过FEM找到最佳焦面并将数据传送给调焦调平测量装置;4)调焦调平测量装置得到指令后,通过电机驱动偏置平板旋转,使调焦调平测量装置零位和物镜最佳焦面重合。本说明书中所述的只是本发明的较佳具体实施例,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非对本发明的限制。凡本领域技术人员依本发明的构思通过逻辑分析、推理 或者有限的实验可以得到的技术方案,皆应在本发明的范围之内。
权利要求
1.一种用于后道封装光刻机的调焦调平测量装置,该调焦调平测量装置具有投影单元和探测单元,其特征在于,在所述投影单元的出光口和所述探测单元的入光口分别具有保护装置,用于防止粉尘或杂物进入投影单元和探测单元。
2.根据权利要求I所述的调焦调平测量装置,其中,该调焦调平测量装置具有保护装置,该保护装置具有镜框和保护玻璃,所述镜框上具有位于后端的腰形孔和位于镜框四周的阵列孔,所述腰形孔用于定位该保护装置,所述阵列孔用于滴胶,从而将保护玻璃粘结到镜框上。
3.根据权利要求2所述的调焦调平测量装置,其中,所述保护装置为插拔件。
4.根据权利要求3所述的调焦调平测量装置,其中,所述镜框的前端为V形插入端。
5.根据权利要求2-4中任意一个所述的调焦调平测量装置,其中,该调焦调平测量装置具有定位装置,所述定位装置包括镜筒和压盖,所述压盖上具有螺钉、供光束通过的通孔和弹性柱销,所述螺钉与保护装置的镜框上的腰形孔相结合,从而实现保护装置的固定定位。
6.如权利要求2-5所述的调焦调平测量装置中保护玻璃的更换方法,具有如下步骤 1)将保护装置拔出后置于水中,使旧的保护玻璃从镜框中脱落,镜框清洁干净后装上新的保护玻璃; 2)把新的保护装置插入投影单元或探测单元的定位装置的插槽中; 3)因不同的保护玻璃厚度上存在差异以及安装面的误差,会对调焦调平系统的零位造成微小的偏移,此时通过FEM找到最佳焦面并将数据传送给调焦调平测量装置; 4)调焦调平测量装置得到指令后,通过电机驱动偏置平板旋转,使调焦调平测量装置零位和物镜最佳焦面重合。
全文摘要
一种用于后道封装光刻机的调焦调平测量装置,该装置具有投影单元和探测单元,其特征在于,在所述投影单元的出光口和所述探测单元的入光口分别具有保护装置,用于防止粉尘或杂物进入投影单元和探测单元。
文档编号G03F7/20GK102789135SQ201110129479
公开日2012年11月21日 申请日期2011年5月18日 优先权日2011年5月18日
发明者张冲, 李中秋, 章富平, 陈飞彪 申请人:上海微电子装备有限公司
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