专利名称：真空显影机构的利记博彩app
技术领域：
本发明涉及显影技术，具体为一种真空显影机构。
背景技术：
通常的显影机构，显影腔体都是敞开式的。显影工艺是集成电路、分立器件 制造以及微机电系统(MEMS，Micro-Electro-Mechanical Systems)、硅通孔(TSV， Through-Silicon-Via)先进封装技术等生产中的一项重要的基本工艺。在MEMS、TSV器件显影工艺中，因为基片上已有作好的图形，多为较深的沟槽结构 及深孔，此时在显影过程中由于沟槽或深孔底部积聚有空气，显影液喷洒到基片表面后在 沟槽、深孔底部容易形成气泡，这样就会造成显影不足甚至显不到的情况。如果单纯增大液 量或显影时间，则可能出现部分区域过显。
发明内容
本发明的目的在于提供一种真空显影机构，解决现有技术在已有图形的基片表面 进行曝光后，显影时容易出现图形底部显影不足甚至显不到等问题。本发明的技术方案是一种真空显影机构，该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上 盖和显影腔体扣合，上盖和显影腔体之间加有密封圈；承片台和承片台底部的主轴连接，主 轴和显影腔体间装有密封圈，显影和清洗的喷头装在上盖上。所述的真空显影机构，喷头一端伸至上盖内侧，与承片台上的基片对应，喷头另一 端连接供液管路。所述的真空显影机构，上盖外侧连接气缸，上盖的开合由气缸驱动。所述的真空显影机构，显影腔体接有排液管路、真空管路、氮气管路和大气管路， 在各管路上分别设有阀门。所述的真空显影机构，基片通过真空吸附在承片台上，真空吸附的管路穿过主轴 和承片台至基片底部。所述的真空显影机构，在显影时，该真空显影机构的显影腔体为真空腔体，显影工 艺过程在真空环境下完成。本发明的有益效果是1、本发明真空显影机构，在真空环境下加快气体排出，使得显影液能够充分和基 片接触，保证了良好的显影效果。2、本发明设计了带上盖的密闭显影腔体结构，可以实现在真空环境下显影，以使 显影液能够充分和基片接触，使沟槽或深孔结构也能得到良好的显影效果。
图1-图2为本发明结构示意图。其中，图1为主视图；图2为侧视图。
图中，1主轴；2密封圈；3承片台；4喷头；5密封圈；6供液管路；7上盖；8显影腔 体；9阀门；10气缸；11基片。
具体实施例方式如图1-2所示，本发明真空显影机构主要包括主轴1、密封圈2、承片台3、喷头4、 密封圈5、供液管路6、上盖7、显影腔体8、阀门9、气缸10、基片11，上盖7和显影腔体8紧 密的扣在一起，上盖7和显影腔体8之间加有密封圈5，防止漏气。为了保证喷液时显影腔 体8的密封，显影和清洗喷头4装在上盖7上，上盖7 —扣到显影腔体8上，喷头4就处于 工作位，可以按照设定好的程序喷洒显影液和清洗液，喷头4 一端伸至上盖7内侧，与基片 11对应，喷头4另一端连接供液管路6。上盖7外侧连接气缸10，上盖7的开合由气缸10 驱动。显影腔体8底部及侧面接有排液(EXH)管路、真空(VAC)管路、氮气(N2)管路和大 气管路，在各管路上分别设有自动阀门9，控制各管路的通断。承片台3和承片台3底部的 主轴1连在一起，为了保证主轴旋转状态下不会泄露，主轴1和显影腔体8间也装有密封圈 2。基片11通过真空(强于显影腔体真空)吸附在承片台3上，真空吸附的管路可以穿过 主轴1和承片台3至基片11底部。在工作状态下，基片11吸附在承片台3上，上盖7扣下后，排液(EXH)管路、氮气 (N2)管路和大气管路上的阀门关闭，真空(VAC)管路上的阀门9打开，将显影腔体8内抽 真空。在显影时，该真空显影机构的显影腔体为真空腔体，显影工艺过程在真空环境下完 成。当达到设定值时，停止抽气，按设定要求喷显影液、清洗液完成显影工艺。然后，将排液 (EXH)管路上的阀门打开，同时显影腔体8内通入一定量氮气之后，关闭氮气(N2)管路上的 阀门。最后，打开大气管路上的阀门，以平衡内外压力方便开盖。本发明装置可作为核心模块嵌入全自动或独立式半自动显影设备中，用于MEMS、 TSV显影工艺中。
权利要求
一种真空显影机构，其特征在于该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影腔体之间加有密封圈；承片台和承片台底部的主轴连接，主轴和显影腔体间装有密封圈，显影和清洗的喷头装在上盖上。
2.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于喷头一端伸至上盖内侧，与承片 台上的基片对应，喷头另一端连接供液管路。
3.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于上盖外侧连接气缸，上盖的开合 由气缸驱动。
4.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于显影腔体接有排液管路、真空管 路、氮气管路和大气管路，在各管路上分别设有阀门。
5.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于基片通过真空吸附在承片台上， 真空吸附的管路穿过主轴和承片台至基片底部。
6.按照权利要求1所述的真空显影机构，其特征在于在显影时，该真空显影机构的显 影腔体为真空腔体，显影工艺过程在真空环境下完成。
全文摘要
本发明涉及显影技术，具体为一种真空显影机构，解决现有技术在已有图形的基片表面进行曝光后，显影时容易出现图形底部显影不足甚至显不到等问题。该真空显影机构设有主轴、承片台、喷头、上盖、显影腔体，上盖和显影腔体扣合，上盖和显影腔体之间加有密封圈；承片台和承片台底部的主轴连接，主轴和显影腔体间装有密封圈，显影和清洗的喷头装在上盖上。在显影时，该真空显影机构的显影腔体为真空腔体，显影工艺过程在真空环境下完成。本发明装置可作为核心模块嵌入全自动或独立式半自动显影设备中，用于MEMS、TSV制成的显影工艺中。
文档编号G03F7/30GK101907834SQ200910011829
公开日2010年12月8日 申请日期2009年6月3日 优先权日2009年6月3日
发明者宗润福, 陈焱 申请人:沈阳芯源微电子设备有限公司