专利名称：曝光头、图像形成装置的利记博彩app
技术领域：
本发明涉及一种从发光元件射出光并形成斑点(spot)的曝光头、采
用该曝光头的图像形成装置。
背景技术：
以前，己知有按照由行式头(line head,曝光头)对在副扫描方向上 移动的像面形成斑点的方式来对像面进行曝光的技术。此外，作为这样的 行式头，能够采用例如专利文献l记载的行式头这样的行式头，其在与副 扫描方向垂直或者大致垂直的主扫描方向上排列配置多个发光元件。也就 是说，采用这样的行式头的曝光工作中，该行式头具有的多个发光元件发 光，在像面上形成排列在主扫描方向上的多个斑点。并且，反复执行这样 的斑点形成工作，使得整个像面曝光。
专利文献h JP特开平2—4546号公报
此外，为了达到更高的高分辨率，能够采用在像面的移动方向(第1 方向)上相互不同的位置处配置多个发光元件的行式头。但是，采用这样 的行式头，在第1方向上相互不同的位置处配置的各发光元件在该第1方 向上相互不同的位置处形成斑点。于是，某些情况下由于这样的第1方向 中的斑点形成位置的不同而产生各种曝光不良。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而作出的，其目的在于提供一种抑制由于第1 方向中的斑点形成位置的不同而产生的曝光不良的技术。
本发明涉及的图像形成装置，为了达成上述目的，其特征在于，具有.-在第1方向上移动的潜像承载体；曝光头，其具有第1成像光学系统、在 第1成像光学系统的第1方向侧配置的第2成像光学系统、发出由第1成 像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件、发出由第2成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件；控制部，其按照第l成像光学系 统的成像特性，来控制发出由第1成像光学系统在潜像承载体上成像的光 的发光元件的光量。
此外，本发明涉及的曝光头，为了达成上述目的，其特征在于，具有: 第1成像光学系统；相对第1成像光学系统配置在被曝光面移动的第1方 向侧的第2成像光学系统;发出由第1成像光学系统成像的光的发光元件; 发出由第2成像光学系统成像的光的发光元件；控制部，其按照第l成像 光学系统的成像特性，来控制发出由第1成像光学系统成像的光的发光元 件的光量。
在这样构成的发明(曝光头、图像形成装置)中，设置第l成像光学 系统和第2成像光学系统，各成像光学系统在第1方向上移动的潜像承载 体上对光成像。并且，第2成像光学系统配置在第1成像光学系统的第1
方向侧。因此，第1成像光学系统的成像光的位置和第2成像光学系统的
成像光的位置在第1方向上不同，由于这样的成像光的位置的不同，第l
成像光学系统不能与第2成像光学系统同样地进行曝光，恐怕会发生曝光
不良。相对于此，本发明通过控制部能够实现良好的曝光，其中，上述控 制部按照第1成像光学系统的成像特性来控制发出由第1成像光学系统成 像的光的发光元件的光量。
此时，成像特性可以是第1成像光学系统在潜像承载体上成像的光的 面积。或者，成像特性也可以是由第l成像光学系统在潜像承载体上成像 的光的第1方向的直径。通过按照这样的成像特性来调整发光元件的光量， 使得良好的曝光成为可能。
此外，潜像承载体可以是感光体鼓。但是，这样的感光体鼓具有曲率 形状。其结果为，存在由于使光成像的位置根据成像光学系统的不同而不 同引起曝光不良的情况。这里，针对具有感光体鼓的装置，优选应用本发 明。
此外，成像特性可以是第1成像光学系统在潜像承载体上成像的光的 位置。通过按照这样的成像特性来调整发光元件的光量，使得良好的曝光 成为可能。
也可以构成为，包括带电部，其使潜像承载体带电，曝光头对带电部
6带电的潜像承载体进行曝光来形成潜像。但是，如后述，这样形成的潜像 显示出随时间趋势而扩大的趋势。这里，上述控制部的控制可以使发出由 第1成像光学系统在潜像承载体的第1位置处成像的光的发光元件的光量 相比发出由第2成像光学系统在第2位置处成像的光的发光元件的光量更 少，其中，上述第2位置与带电部之间的距离比第1位置与带电部之间的 距离更长。原因是可以实现良好的曝光，而不依赖斑点的潜像伴随时间经 过而扩大。
此外，也可以包括显影部，其对由曝光头在潜像承载体上形成的潜像 进行显影。但是，如后述，在这样的结构中，有时由于成像光和显影位置 之间的距离根据成像光学系统的不同而不同会产生图像形成不良。这里， 也可以将由第1成像光学系统成像的光的潜像承载体的成像位置与由显影 部的光形成的潜像的显影位置之间的距离作为成像特性，来调整发光元件 的光量。原因是可以抑制由于成像光和显影位置之间的距离根据成像光学 系统的不同而不同所产生的图像形成不良。
此外，发出由第1成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件、
发出由第2成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件可以设置在
基板上。更进一步地，控制部也可以设置在基板上。此时，控制部能够由
TFT构成。
此外，可以包括设置在基板和成像光学系统之间的遮光部件，遮光部
件具有第1导光孔，其设置在发出由第l成像光学系统成像的光的发光
元件和第1成像光学系统之间；第2导光孔，其设置在发出由第2成像光 学系统成像的光的发光元件和第2成像光学系统之间。
此外，发出由第1成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件、 发出由第2成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件可以是有机 EL元件。此时，有机EL元件可以是底部发射(bottom emission)型。
此外，本发明涉及的图像形成装置，为了达成上述目的，其特征在于， 包括在第l方向上移动的潜像承载体；曝光头，其具有成像光学系统、 发出由成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件；控制部，其按 照对发光元件的光成像的成像光学系统的第1方向的位置，来调整该发光 元件的光量。这样构成的图像形成装置，按照对发光元件的光成像的成像光学系统 的第l方向的位置调整该发光元件的光量。因此，可以实现良好的曝光。
此外，本发明涉及的行式头，为了达成上述目的，其特征在于，包括 在作为像面的移动方向的第1方向上不同位置处配置了多个发光元件的头 基板，发光元件发光后在像面中形成斑点，并且，配置在第l方向上不同 位置处的各发光元件在第1方向上相互不同的位置处形成斑点，发光元件 的光量按照该发光元件形成的斑点的第1方向上的位置来调整。
本发明涉及的图像形成装置，为了达成上述目的，其特征在于，包括 表面在第l方向上移动的潜像承载体；行式头，其具有在第l方向上不同
位置处配置了多个发光元件的头基板；发光元件发光后在像面中形成斑
点，并且，配置在第1方向上不同位置处的各发光元件在潜像承载体表面 的第1方向上相互不同的位置处形成斑点，潜像承载体表面承载由斑点形 成的斑点潜像，发光元件的光量按照该发光元件形成的斑点的第1方向上 的位置来调整。
在这样构成的发明(行式头、图像形成装置)中，发光元件的光量按 照该发光元件形成的斑点的第l方向上的位置来调整。因此，能够抑制由 于第1方向上的斑点形成位置的不同而产生的曝光不良，可以实现良好的 曝光。
此外，像面是承载由斑点形成的斑点潜像的潜像承载体表面，在第1 方向上不同位置处配置的各发光元件按照与像面的移动相对应的计时来
发光，从而，尤其优选针对形成排列在与第1方向垂直或大致垂直的第2 方向上的多个斑点潜像应用本发明。
也就是说，上述行式头中，在第1方向上不同位置处配置的各发光元 件在潜像承载体表面的第1方向上相互不同的位置处形成斑点，由该斑点 在像面上形成斑点潜像。因此，为了在第2方向上排列形成多个斑点潜像， 各发光元件按照与像面的移动相对应的计时来发光。由此，从第l方向的 上游侧的斑点开始按顺序形成斑点，形成在第2方向上排列的多个斑点潜 像。但是，该斑点潜像具有随着时间经过变大的倾向。因此，在第2方向 上排列而形成的多个斑点潜像中，由于由第1方向的上游侧的斑点形成的 斑点潜像从形成开始的时间相比由第1方向的下游侧的斑点形成的斑点潜像更长，因此存在变大的情况。其结果为，在第2方向上排列而形成的多 个斑点潜像的大小会产生偏差。相对于此，应用本发明的情况下，发光元 件的光量由于是按照该发光元件形成的斑点的第1方向上的位置来调整 的，因此能够抑制这样的斑点潜像的大小的偏差，可以实现良好的曝光。
此时，在第1方向上不同位置处形成斑点的2个发光元件中，将第1 方向上在上游侧形成斑点的发光元件作为上游侧发光元件，并且，将在下 游侧形成斑点的发光元件作为下游侧发光元件，则可以将上游侧发光元件 的光量调整至比下游侧发光元件的光量更少的值。这样构成的情况下，能 够抑制在第2方向上排列而形成的多个斑点潜像的偏差，可以实现良好的 曝光，而不依赖伴随时间经过的斑点潜像的扩大。
此外，在具备对潜像承载体表面的斑点潜像进行显影的显影机构的结 构中，会发生下面的问题，其中，上述显影机构设置于第1方向上比形成 在潜像承载体表面的各斑点更下侧的下游侧的显影位置处。也就是说，在 第1方向上不同位置处形成的各斑点之间，该斑点和显影位置之间在第1 方向上的距离不同。因此，在第1方向上由上游侧的斑点形成的斑点潜像 和由下游侧的斑点形成的斑点潜像在显影位置中大小会不同，如果换句话 说就是，在显影位置中斑点潜像的大小等会发生偏差。这里，发光元件的 光量可以按照该发光元件形成的斑点与显影位置之间在第1方向上的距离 来调整。原因是，通过这样的构成，能够抑制显影位置中的斑点潜像的偏 差，并且可以这样通过对偏差较少的斑点潜像进行显影来形成良好的图 像。
此外，尤其优选，针对像面在第l方向的剖面中具有曲率形状、且为 承载由斑点形成的斑点潜像的潜像承载体表面的结构来应用本发明。也就 是说，如上所述，本发明的行式头中，在第l方向上不同位置处配置的各 发光元件在潜像承载体表面的第1方向上相互不同的位置处形成斑点。因 此，在像面具有曲率形状的情况下，在第l方向上不同位置处配置的各发 光元件之间，发光元件和该发光元件形成的斑点之间的距离会不同。但是， 如后所述，由该斑点形成的斑点潜像会显示出如下趋势，即，元件斑点间 距离越长越扩大。这里，元件斑点间距离为发光元件与该发光元件形成的 斑点之间的距离。其结果为，第1方向上由相互不同的位置的斑点形成的多个斑点潜像之间，在大小上会产生偏差。相对于此，应用本发明的情况 下，发光元件的光量由于是按照该发光元件形成的斑点的第1方向上的位 置来调整的，因此能够抑制斑点潜像的大小的偏差，可以实现良好的曝光。 此时，在第l方向上相互不同的位置处形成斑点后元件斑点间距离相 互不同的2个发光元件中，可以将元件斑点间距离较长的发光元件的光量 调整至相比元件斑点间距离较短的发光元件的光量更少的值。在这样构成 的情况下，能够抑制斑点的大小的偏差，可以实现良好的曝光，而不依赖 于元件斑点间距离。
图1是本说明书中采用的术语的说明图。
图2是本说明书中采用的术语的说明图。
图3是示出本发明涉及的图像形成装置的一例的图。
图4是示出图3的图像形成装置的电结构的图。
图5是示出本发明涉及的行式头的概略的立体图。
图6是图5示出的行式头的宽度方向剖面图。
图7是示出透镜阵列的概略的立体图。
图8是透镜阵列的长边方向LGD的剖面图。
图9是示出头基板的背面的结构的图。
图IO是示出各发光元件组中的发光元件的配置的图。
图11是用于说明斑点形成工作的立体图。
图12是示出行式头的斑点形成工作的图。
图13是示出感光体鼓表面的明衰减特性的图。
图14是示意性地示出斑点潜像的偏差的图。
图15是示意性地示出第1实施方式中的发光元件光量的调整方式的 一例的图。
图16是第2实施方式中的图像形成装置的说明图。 图17是示意性地示出第2实施方式中的发光元件光量的调整方式的 一例的图。
图18是示意性地示出斑点潜像的偏差的图。图19是示意性地示出第3实施方式中的发光元件光量的调整方式的 一例的图。
图20是示出行式头相对感光体鼓在宽度方向上偏离的情况的图。
图21是示出行式头在长边方向上弯曲的情况下的斑点偏差的图。
图22是示出行式头的另一结构的宽度方向剖面图。
图23是示出图22的行式头具有的头基板的背面的平面图。
图24是示出图22中示出的行式头执行的斑点潜像形成工作的图。
符号说明
21Y、 21K…感光体鼓(潜像承载体)
25…显影部(显影机构)
251…显影辊
29…行式头
293…头基板
295…发光元件组
2951…发光元件
299…透镜阵列
LS…透镜
SP…斑点
Lsp…斑点潜像
MD…主扫描方向(第2方向)
SD…副扫描方向(第1方向)
LGD…长边方向(第2方向)
LTD…宽度方向(第1方向)
DP…显影位置
具体实施例方式
以下，首先针对本说明书中采用的术语进行说明(参照"A.术语的说 明"的项目)。接着该术语的说明，针对配备了作为本发明的应用对象的 行式头的图像形成装置的基本结构(参照"B.基本结构"的项目)、以及该行式头的基本工作(参照"C.基本工作"的项目)进行说明。然后，接 着这些基本结构和基本工作的说明，针对本发明的实施方式进行说明。 A.术语的说明
图1和图2是本说明书中采用的术语的说明图。这里，采用这些附图，
针对本说明书中采用的术语进行整理。本说明书中，将感光体鼓21的表 面(像面IP)的传送方向定义为副扫描方向SD，将与该副扫描方向SD 垂直或者大致垂直的方向定义为主扫描方向MD。此外，行式头29面对 感光体鼓21的表面(像面IP)而配置，其中，其长边方向LGD对应主扫 描方向MD，其宽度方向LTD对应副扫描方向SD。
将按照与透镜阵列299具有的多个透镜LS —对一的对应关系配置在 头基板293上的、多个(图l和图2中为8个)发光元件2951的集合定 义为发光元件组295。也就是说，头基板293上，按照面对多个透镜LS 的每一个的方式配置有由多个发光元件2951构成的发光元件组295。此 外，来自发光元件组295的光束由与该发光元件组295相对应的透镜LS 成像，将在像面IP中形成的多个斑点SP的集合定义为斑点组SG。也就 是说，按照与多个发光元件组295 —对一地对应的方式，能够形成多个斑 点组SG。此外，各斑点组SG中，将主扫描方向MD和副扫描方向SD上 最上游的斑点特别定义为第l斑点。并且，将与第1斑点对应的发光元件 2951特别定义为第1发光元件。
此外，如图2的"像面上" 一栏所示，定义斑点组行SGR、斑点组列 SGC。也就是说，将在主扫描方向MD上排列的多个斑点组SG定义为斑 点组行SGR。并且，多行的斑点组行SGR按照规定的斑点组行间距Psgr 在副扫描方向SD上排列配置。此外，将在副扫描方向SD上按照斑点组 行间距Psgr且在主扫描方向MD上按照斑点组间距Psg排列的多个(相同 附图中为3个)斑点组SG定义为斑点组列SGC。另外，斑点组行间距Psgr 是在副扫描方向SD上相互邻接的2个斑点组行SGR各自的几何重心的、 在副扫描方向SD上的距离。此外，斑点组间距Psg是主扫描方向MD上 相互邻接的2个斑点组SG各自的几何重心的、在主扫描方向MD上的距 离。
如相同附图的"透镜阵列"一栏所示，定义透镜行LSR、透镜列LSC。也就是说，将在长边方向LGD上排列的多个透镜LS定义为透镜行LSR。 并且，多行的透镜行LSR按照规定的透镜行间距Plsr在宽度方向LTD上 排列配置。此外，将在宽度方向LTD上按照透镜行间距Plsr且在长边方 向LGD上按照透镜间距Pls排列的多个(相同附图中为3个)透镜LS定 义为透镜列LSC。另外，透镜行间距Plsr是在宽度方向LTD上相互邻接 的2个透镜行LSR各自的几何重心的、在宽度方向LTD上的距离。此外， 透镜间距Pls是在长边方向LGD上相互邻接的2个透镜LS各自的几何重 心的、在长边方向LGD上的距离。
如相同附图的"头基板" 一栏所示，定义发光元件组行295R、发光 元件组列295C。也就是说，将在长边方向LGD上排列的多个发光元件组 295定义为发光元件组行295R。并且，多行的发光元件组行295R按照规 定的发光元件组行间距Pegr在宽度方向LTD上排列配置。此外，将在宽 度方向LTD上以发光元件组行间距Pegr且在长边方向LGD上以发光元件 组间距Peg排列的多个(相同附图中为3个)发光元件组295定义为发光 元件组列295C。另外，发光元件组行间距Pegr是在宽度方向LTD上相互 邻接的2个发光元件组行295R各自的几何重心的、在宽度方向LTD上的 距离。此外，发光元件组间距Peg是在长边方向LGD上相互邻接的2个 发光元件组295各自的几何重心的、在长边方向LGD上的距离。
如相同附图的"发光元件组" 一栏所示，定义发光元件行2951R、发 光元件列2951C。也就是说，各发光元件组295中，将在长边方向LGD 上排列的多个发光元件2951定义为发光元件行2951R。并且，多行的发 光元件行2951R按照规定的发光元件行间距Pelr在宽度方向LTD上排列 配置。此外，将在宽度方向LTD上按照发光元件行间距Pelr且在长边方 向LGD上按照发光元件间距Pel排列的多个(相同附图中为2个)发光元 件2951定义为发光元件列2951C。另外，发光元件行间距Pelr是在宽度 方向LTD上相互邻接的2个发光元件行2951R各自的几何重心的、在宽 度方向LTD上的距离。此外，发光元件间距Pel是在长边方向LGD上相 互邻接的2个发光元件2951各自的几何重心的、在长边方向LGD上的距 离。
如相同附图的"斑点组" 一栏所示，定义斑点行SPR、斑点列SPC。也就是说，各斑点组SG中，将在长边方向LGD上排列的多个斑点SP定 义为斑点行SPR。并且，多行的斑点行SPR按照规定的斑点行间距Pspr 在宽度方向LTD上排列配置。此外，将在宽度方向LTD上以斑点行间距 Pspr且在长边方向LGD上以斑点间距Psp排列的多个(相同附图中为2 个)斑点定义为斑点列SPC。另外，斑点行间距Pspr是在副扫描方向SD 上相互邻接的2个斑点行SPR各自的几何重心的、在副扫描方向SD上的 距离。此外，斑点间距Psp是在主扫描方向MD上相互邻接的2个斑点 SP各自的几何重心的、在长边方向LGD上的距离。 B.基本结构
图3示出配备了作为本发明的应用对象的行式头的图像形成装置的一 例。此外，图4示出图3的图像形成装置的电结构。该装置为图像形成装 置，其可以选择性地执行如下模式彩色模式，其重叠黑色(K)、青色(C)、 红紫色(M)、黄色(Y) 4色的调色剂来形成彩色图像；单色模式，只采 用黑色(K)的调色剂来形成单色图像。此外，图3是与彩色模式执行时 相对应的附图。在该图像形成装置中，从主机(host computer)等外部装 置将图像形成指令给予具有CPU或内存等的主控制器MC后，该主控制 器MC向引擎控制器EC给出控制信号等，并且将与图像形成指令对应的 视频数据VD给予头控制器HC。此外，该头控制器HC根据来自主控制 器MC的视频数据VD和来自引擎控制器EC的垂直同步信号Vsync以及 参数值来控制各色的行式头29。由此，引擎部EG执行规定的图像形成工 作，在复写纸、转印纸、用纸以及OHP用透明纸张等纸张上形成与图像 形成指令对应的图像。
在图像形成装置具有的壳体主体3内，设置有内部安装有电源电路基 板、主控制器MC、引擎控制器EC以及头控制器HC的电部件盒5。此外， 图像形成单元7、转印带单元8以及送纸单元11也配置在壳体主体3内。 此外，图3中在壳体主体3内右侧，配置有2次转印单元12、固定单元 13、纸张引导部件15。另外，送纸单元11，相对装置主体1装卸自由。 并且，对于该送纸单元11和转印带单元8，构成为可以分别取下来进行修 理或交换。
图像形成单元7包括形成多个不同颜色的图像的4个图像形成站(station) Y (黄色用)、M (红紫色用)、C (青色用)、K (黑色用)。此 外，各图像形成站Y、 M、 C、 K设置有在主扫描方向MD上具有规定长 度的表面的圆筒形感光体鼓21。并且，各图像形成站Y、 M、 C、 K各自 在感光体鼓21的表面上形成对应颜色的调色剂像。感光体鼓按照其轴方 向与主扫描方向MD大致平行的方式配置。此外，各感光体鼓21与各自 专用的驱动电动机连接且在图中箭头D21的方向上按照规定的速度被旋 转驱动。由此，感光体鼓21的表面，在与主扫描方向MD垂直或者大致 垂直的副扫描方向SD上被传送。此外，在感光体鼓21的周围，沿旋转方 向配置有带电部23、行式头29、显影部25以及感光体清洁器27。并且， 根据这些功能部来执行带电工作、潜像形成工作以及调色剂显影工作。因 此，在彩色模式执行时，将由所有的图像形成站Y、 M、 C、 K形成的调 色剂像重叠在转印带单元8具有的转印带81上来形成彩色图像，并且在 单色模式执行时，只采用由图像形成站K形成的调色剂像来形成单色图 像。另外，图3中，由于图像形成单元7的各图像形成站结构相互相同， 因此为图示方便只在一部分的图像形成站上附加符号，对其他图像形成站 省略符号。
带电部23包括其表面由弹性橡胶构成的带电辊。该带电辊按照在带 电位置处与感光体鼓21的表面接触并被驱动旋转的方式构成，伴随感光 体鼓21的驱动工作其相对感光体鼓21在被驱动方向上按照圆周速度被驱 动旋转。此外，该带电辊与带电偏压产生部(省略图示)连接，接受来自 带电偏压产生部的带电偏压的供电，并在带电部23和感光体鼓21接触的 带电位置处使得感光体鼓21的表面带电。
行式头29按照其长边方向与主扫描方向MD对应且其宽度方向与副 扫描方向SD对应的方式面对感光体鼓21配置，行式头29的长边方向与 主扫描方向MD大致平行。行式头29包括在长边方向上排列配置的多个 发光元件，并且与感光体鼓21相离配置。并且，从这些发光元件对通过 带电部23带电的感光体鼓21的表面照射光，在该表面上形成静电潜像。
显影部25在其表面上具有调色剂承载的显影辊251。并且，通过从与 显影辊251电连接的显影偏压产生部(省略图示)给显影辊251施加的显 影偏压，在显影辊251和感光体鼓21相接触的显影位置中，带电调色剂
15从显影辊251向感光体鼓21移动并使得由行式头29形成的静电潜像明显化。
在上述显影位置中这样地明显化了的调色剂像，在向感光体鼓21的 旋转方向D21传送后，在之后详述的与转印带81和各感光体鼓21相接触 的1次转印位置TR1处被1次转印在转印带81上。
此外，本实施方式中，在感光体鼓21的旋转方向D21的1次转印位 置TR1的下游侧且带电部23的上游侧，按照与感光体鼓21的表面相接触 的方式设置有感光体清洁器27。该感光体清洁器27通过与感光体鼓的表 面相接触而清除1次转印后在感光体鼓21的表面上残留的调色剂。
转印带单元8包括驱动辊82、图3中配置在驱动辊82的左侧的被 驱动辊83 (刀相对辊)、以及架在这些辊上朝着图示箭头D81的方向(传 送方向)被循环驱动的转印带81。此外，转印带单元8包括在转印带 81的内侧，在安装感光体盒(photo conductor cartridge)时与各图像形成 站Y、 M、 C、 K具有的感光体鼓21各自一对一地相对配置的、4个1次 转印辊85Y、 85M、 85C、 85K。这些1次转印辊85分别与1次转印偏压 产生部(省略图示)电连接。并且，如之后详述，在彩色模式执行时，如 图3所示通过将全部1次转印辊85Y、 85M、 85C、 85K配置在图像形成 站Y、 M、 C、 K侧，转印带81被推开而与图像形成站Y、 M、 C、 K各 自具有的感光体鼓21接触，在各感光体鼓21和转印带81之间形成1次 转印位置TR1。然后，按照适当的计时从上述1次转印偏压产生部给1次 转印辊85施加1次转印偏压，由此将在各感光体鼓21的表面上形成的调 色剂像转印在与其各自对应的1次转印位置TR1中转印带81表面上并形 成彩色图像。
另一方面，单色模式执行时，4个1次转印辊85中，使得彩色1次转 印辊85Y、 85M、 85C从各自相对的图像形成站Y、 M、 C离开，并且只 是单色1次转印辊85K与图像形成站K相接触，由此，只有单色图像形 成站K与转印带81接触。其结果为，只在单色1次转印辊85K和图像形 成站K之间形成1次转印位置TR1。然后，按照适当的计时从上述1次转 印偏压产生部给单色1次转印辊85K施加1次转印偏压，由此，将在各感 光体鼓21的表面上形成的调色剂像转印在1次转印位置TR1中转印带81
16表面上并形成单色图像。
更进一步地，转印带单元8包括下游引导辊86，其配置在单色1次转
印辊85K的下游侧且驱动辊82的上游侧处。此外，该下游引导辊86在由 单色1次转印辊85K与图像形成站K的感光体鼓21相接触而形成的1次 转印位置TR1处的1次转印辊85K与感光体鼓21之间的共同内切线上与 转印带81接触。
驱动辊82在图示箭头D81的方向上循环驱动转印带81，并且兼作2 次转印辊121的备份辊。在驱动辊82的周面上形成厚度3mm左右、体积 电阻率为lOOOkQ，cm以下的橡胶层，通过金属制的轴接地，由此，作为从 省略图示的2次转印偏压产生部通过2次转印辊121被供给的2次转印偏 压的导电路径。通过这样在驱动辊82上设置高摩擦且具有冲击吸收性的 橡胶层，纸张向驱动辊82和2次转印辊121的接触部分(2次转印位置 TR2)进入时的冲击难以传达至转印带81，能够防止图像质量的劣化。
送纸单元11包括送纸部，上述送纸部具有可以层叠保存纸张的送 纸盒77、以及从送纸盒77将纸张一张一张送出的拾取辊79。通过拾取辊 79从送纸部送出的纸张，在抵抗辊对(resist roller) 80中调整送纸计时之 后，沿纸张引导部件15被送至2次转印位置TR2。
2次转印辊121按照与转印带81自由分离接触的方式设置，通过2 次转印辊驱动机构(省略图示)来对其进行分离接触驱动。固定单元13 具有内部安装卤素加热器(halogen heater)等发热体且自由旋转的加热 辊131、以及对该加热辊131进行施压的加压部132。并且，在其表面进 行2次转印图像的纸张，通过纸张引导部件15，被引导至由加热辊131 和加压部132的加压带1323形成的夹捏部，该夹捏部中以规定的温度使 得图像热固定。加压部132由以下构成2个辊1321、 1322;架在这些上 的加压带1323。并且，加压带1323的表面中，将由2个辊1321、 1322 展开的带张面按压在加热辊131的周面上，由此，使得由加热辊131和加 压带1323形成的夹捏部扩大。此外，受到这样固定处理的纸张被传送至 设置在壳体主体3的上面部的排纸盘4。
此外，在该装置中，与刀相对辊83相对地配置有清洁部71。清洁部 71具有清洁刀711和废调色剂盒713。清洁刀711其顶端部隔着转印带81与刀相对辊83接触，由此，除去2次转印后在转印带上残留的调色剂 和纸屑等异物。并且，这样除去的异物被回收至废调色剂盒713。此外， 清洁刀711以及废调色剂盒713与刀相对辊83构成为一个整体。因此， 在如下面说明这样刀相对辊83移动的情况下，清洁刀711和废调色剂盒 713也与刀相对辊83 —起移动。
图5是示出本发明涉及的行式头的概略的立体图。此外，图6是图5 示出的行式头的宽度方向剖面图。与上述一样，按照其长边方向LGD与 主扫描方向MD对应、且其宽度方向LTD与副扫描方向SD对应的方式， 行式头29针对感光体鼓21配置。另外，长边方向LGD和宽度方向LTD 相互垂直或者大致垂直。行式头29包括容器291，并且在这样的容器291 的长边方向LGD的两端设置有定位销(locating pin) 2911和螺丝插入孔 2912。并且，通过将这样的定位销2911嵌入覆盖感光体鼓21并且穿出面 对感光体鼓21配置的感光体盖(省略图示)的定位孔(省略图示)中， 使得行式头29面对感光体鼓21而配置。更进一步地，通过螺丝插入孔2912
将固定螺丝拧进感光体盖的螺丝孔(省略图示)来固定，由此，使得行式 头29针对感光体鼓21而配置固定。
容器291在相对感光体鼓21的表面的位置处保持透镜阵列299，并且 在其内部，按照接近该透镜阵列299的次序，具备遮光部件297以及头基 板293。头基板293由可以透过光束的材料(例如玻璃)形成。此外，头 基板293的背面(头基板293具有的2个面中与透镜阵列299相反一侧的 面)上，如后述，配置有多个将多个发光元件2951分组化了的发光元件 组295 。此外，各发光元件2951为底部发射型的有机EL
(Electro-Luminescence)元件。并且，从各发光元件组295射出的光束， 从头基板293的背面向表面透射，并射向遮光部件297。
在遮光部件297上，按照与多个发光元件组295 —对一的方式穿出多 个导光孔2971。此外，这样的导光孔2971作为将与头基板293的法线平 行的线作为中心轴而贯通遮光部件297的大致圆柱状的孔而穿出。因此， 从发光元件组295射出的光束中，射向与该发光元件组295对应的导光孔 2971以外的光束被遮光部件297遮光。这样，从1个发光元件组295射出 的光全部通过同一个导光孔2971射向透镜阵列299，并且从不同发光元件组295射出的光束之间的干涉由遮光部件297防止。然后，通过穿出遮光 部件297的导光孔2971的光束由透镜阵列299成像，在感光体鼓21的表 面上形成斑点。
如图6所示，由固定器具2914，隔着头基板293向容器291按压里盖 2913。也就是说，固定器具2914具有向容器291侧按压里盖2913的弹性 力，并且通过这样的弹性力来按压里盖，由此，容器291的内部密闭光(也 就是说，光不从容器291内部漏出，并且光不从容器291外部进入)。另 外，固定器具2914在容器291的长边方向上设置有多处。此外，发光元 件组295由密封材料294覆盖。
图7是示出透镜阵列的概略的立体图。此外，图8是透镜阵列的长边 方向LGD的剖面图。透镜阵列299具有透镜基板2991。并且，在该透镜 基板2991的背面2991B上形成透镜LS的第1面LSFf，并且在透镜基板 2991的表面2991A上形成透镜LS的第2面LSFs。并且，采用相互相对 的透镜的第1面LSFf和第2面LSfs、以及这2个面中相夹的透镜基板2991 ， 作为1个透镜LS来发挥作用。另外，透镜LS的第1面LSFf和第2面LSfs 可以由例如树脂形成。
透镜阵列299按照使得多个透镜LS与各自的光轴OA相互大致平行 的方式来配置。此外，透镜阵列299按照使得透镜LS的光轴OA与头基 板293的背面(发光元件2951所配置的面)大致垂直的方式来配置。透 镜LS按照与发光元件组295 —对一的方式来设置，与后述的发光元件组 295的配置相对应，按照两维来配置多个透镜LS。也就是说，在宽度方向 LTD上相互不同的位置处配置了 3个透镜LS的透镜列LSC沿着长边方向 LGD排列多个。
图9示出头基板的背面的结构，相当于从头基板的表面看到背面的情 况。图IO示出各发光元件组中的发光元件的配置。另外，图9中，虽然 由二点划线示出透镜LS，但是这是为了示出发光元件组295按照与透镜 LS —对一的方式来设置的情况，而不是示出透镜LS被配置在头基板背面 的情况。如图9所示，在宽度方向LTD上相互不同的位置处配置了 3个 发光元件组295的发光元件组列295C沿着长边方向LGD排列多个。如果 换句话说就是，沿着长边方向LGD排列了多个发光元件组295的发光元件组行295R按照发光元件组行间距Pegr ( = 1.7[mm])在宽度方向LTD上 排列3行。此时，各发光元件组行295R在长边方向LGD上相互错开，以 使得在长边方向LGD上各发光元件组295相互不重叠。这里，对于3行 的发光元件组行，从宽度方向LGD的上游侧依次附加符号295R_A、 295R—B、 295R—C。
各发光元件组295中，沿着长边方向LGD排列了 4个发光元件2951 的发光元件行2951R按照发光元件行间距Pelr (=63.5[pmp在宽度方向 LTD上排列2行(图10)。此时，各发光元件行2951R在长边方向LGD 上相互错开，以使得在长边方向LGD上各发光元件2951相互不重叠。其 结果，8个发光元件2951按照锯齿状来配置。此外，如图10所示，各发 光元件组295按照相对于对应的透镜LS的光轴OA轴对称的方式配置。 也就是说，构成发光元件组295的8个发光元件2951相对于光轴OA对 称配置。因此，来自与光轴OA相对的偏离的发光元件2951的光束也能 够按照像差较少的状态来成像。
与各发光元件组行295R_A、 295R一B、 295R—C相对应，设置驱动电 路DC—A (各发光元件组行295R—A用)，DC—B (各发光元件组行295R—B 用)，DC_C (各发光元件组行295Rj:用)，这些驱动电路DC一A等由例 如TFT (Thin Film Transistor)构成(图9)。各驱动电路DC_A等被配置 在对应的发光元件组295R—A等的宽度方向LTD的一侧，通过布线WL 与该发光元件组295R一A等的发光元件2951连接。驱动电路DC_A等给 予各发光元件2951驱动信号之后，各发光元件2951射出相互相等波长的 光束。该发光元件2951的发光面是所谓的完全扩散面光源，从发光面射 出的光束遵守朗伯(Lambert)余弦定律。
发光元件2951发出的光束由透镜LS成像，在感光体鼓21的表面(感 光体鼓表面)上形成斑点SP。另一方面，如上述，在斑点形成之前，感 光体鼓表面由带电部23带电。因此，形成斑点SP的区域被除电，形成斑 点潜像Lsp。然后，这样形成的斑点潜像Lsp被承载在感光体鼓表面上， 并且向副扫描方向SD的下游侧传送。接着，如下面按照"C.基本工作" 的项目说明的那样，斑点SP按照与感光体鼓表面的移动相对应的计时形 成，形成在主扫描方向MD上排列的多个斑点潜像Lsp。c.基本工作
图11是用于说明由行式头形成的斑点的立体图。另外，图11中省略
透镜阵列299的记载。如图11所示，各发光元件组295可以在主扫描方 向MD上相互不同的曝光区域ER中形成斑点组SG。这里，斑点组SG是 发光元件组295的全部发光元件2951同时发光而形成的多个斑点SP的集 合。如相同附图所示，可以在主扫描方向MD上连续的曝光区域ER中形 成斑点组SG的3个发光元件组295在宽度方向LTD上以相互错开的方式 配置。也就是说，例如，可以在主扫描方向MD上连续的曝光区域ER一1、 ER一2、 ER—3中形成斑点组SG—1、 SG—2、 SG—3的3个发光元件组295_1、 295一2、 295—3在宽度方向LTD上按照相互错开的方式配置。这3个发光 元件组295构成发光元件组列295C，多个发光元件组列295C沿着长边方 向LGD排列。其结果为，图9的说明时也阐明了， 3行的发光元件组行 295R_A、 295R—B、 295R一C在宽度方向LTD上排列，并且各发光元件组 行295R—A等在副扫描方向SD上相互不同的位置处形成斑点组SG。
也就是说，该行式头29中，多个发光元件组295 (例如发光元件组 295—1、 295—2、 295—3)配置在宽度方向LTD上相互不同的位置处。并且， 在宽度方向LTD上相互不同的位置处配置的各发光元件组295在副扫描 方向SD上相互不同的位置处形成斑点组SG (例如，斑点组SG—1、 SG—2、 SG—3)。
换句话说就是，如果在该行式头29中，在宽度方向LTD上相互不同 的位置处配置有多个发光元件2951 (例如，属于发光元件组295一1的发光 元件2951和属于发光元件组295一2的发光元件2951被配置在宽度方向 LTD上相互不同的位置处)。并且，在宽度方向LTD上相互不同的位置处 配置的各发光元件2951在副扫描方向LTD上相互不同的位置处形成斑点 SP (例如，属于斑点组SG一1的斑点SP和属于斑点组SG—2的斑点SP在 副扫描方向SD上相互不同的位置处形成)。
这样地，根据发光元件2951的不同副扫描方向SD中的斑点SP的形 成位置不同。因此，为了在主扫描方向MD上排列形成多个斑点潜像Lsp (也就是说，为了在副扫描方向SD上相同位置处形成多个斑点潜像Lsp)， 有必要考虑这样的斑点形成位置的不同。这里，在该行式头29中，各发光元件2951按照与感光体鼓表面的移动相对应的计时来发光。
图12示出上述行式头的斑点形成工作。以下，采用图9、图11、图 12说明行式头的斑点形成工作。概略地，感光体鼓表面(潜像承载体表面) 在副扫描方向SD上移动的同时，头控制模块54 (图4)按照与感光体鼓 表面的移动相对应的计时使得发光元件2951发光，由此，形成在主扫描 方向MD上排列的多个斑点潜像Lsp。
首先，属于宽度方向LTD上最上游的发光元件组295—1、 295一4等的 发光元件行2951R (图10)中，使得宽度方向LTD的下游侧的发光元件 行2951R发光。然后，由这样的发光工作射出的多个光束由透镜LS成像， 在感光体鼓表面上形成斑点SP。另外，透镜LS具有倒立特性，来自发光 元件2951的光束按照倒立的方式成像。这样地，图12的"第1次"的阴 影模式的位置处形成斑点潜像Lsp。另外，相同附图中，空白的圆圈表示 尚未形成但以后会形成的预定的斑点潜像。此外，相同附图中，按照符号 295_1 295_4来分级的斑点潜像表示由与各自附加的符号相对应的发光 元件组295形成的斑点潜像。
接着，属于相同发光元件组295—1、 295—4等的发光元件行2951R中， 使得宽度方向LTD的上游侧的发光元件行2951R发光。然后，由这样的 发光工作射出的多个光束由透镜LS成像，在感光体鼓表面上形成斑点SP。 这样地，图12的"第2次"的阴影模式的位置处形成斑点潜像Lsp。这里， 从宽度方向LTD的下游侧的发光元件行2951R开始依次发光的情况是为 了与透镜LS具有倒立特性的情况相对应。
接着，属于从宽度方向上游侧开始第2发光元件组295—2等的发光元 件行2951R中，使得宽度方向LTD的下游侧的发光元件行2951R发光。 然后，由这样的发光工作射出的多个光束由透镜LS成像，在感光体鼓表 面上形成斑点SP。这样地，图12的"第3次"的阴影模式的位置处形成 斑点潜像Lsp。
接着，属于从宽度方向上游侧开始第2发光元件组295一2等的发光元 件行2951R中，使得宽度方向LTD的上游侧的发光元件行2951R发光。 然后，由这样的发光工作射出的多个光束由透镜LS成像，在感光体鼓表 面上形成斑点SP。这样地，图12的"第4次"的阴影模式的位置处形成
22斑点潜像Lsp。
接着，属于从宽度方向上游侧开始第3发光元件组295—3等的发光元 件行2951R中，使得宽度方向LTD的下游侧的发光元件行2951R发光。 然后，由这样的发光工作射出的多个光束由透镜LS成像，在感光体鼓表 面上形成斑点SP。这样地，图12的"第5次"的阴影模式的位置处形成 斑点潜像Lsp。
然后，最后，属于从宽度方向上游侧开始第3发光元件组295—3等的 发光元件行2951R中，使得宽度方向LTD的上游侧的发光元件行2951R 发光。然后，由这样的发光工作射出的多个光束由透镜LS成像，在感光 体鼓表面上形成斑点SP。这样地，图12的"第6次"的阴影模式的位置 处形成斑点潜像Lsp。这样地，通过执行第1 6次为止的发光工作，从副 扫描方向SD的上游侧的斑点SP开始依次形成斑点SP，形成在主扫描方 向MD上排列的多个斑点潜像Lsp。
但是，这样的行式头29中，宽度方向LTD上相互不同的位置处配置 的各发光元件2951在副扫描方向SD上相互不同的位置处形成斑点SP(图 11)。并且，由于这样的副扫描方向SD中的斑点形成位置的不同，会产生 各种曝光不良。
具体地，例如第1及第2实施方式所示，由于感光体鼓表面具有图13 所示的明衰减特性，斑点潜像具有随时间经过变大的倾向。因此，副扫描 方向SD上排列形成的多个斑点潜像Lsp中，由副扫描方向的上游侧的斑 点SP形成的斑点潜像Lsp，由于从形成开始的时间相比由副扫描方向SD 的下游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp更长，因此会变大。其结果为， 在主扫描方向MD上排列形成的多个斑点潜像Lsp的大小会产生偏差。
或者，如第3实施方式所示，感光体鼓表面在副扫描方向剖面(副扫 描剖面)上具有曲率形状。因此，在配置在宽度方向LTD上不同位置处 的各发光元件2951之间，发光元件2951与该发光元件2951形成的斑点 SP之间距离(元件斑点之间距离)会不同。但是，如后述，由该斑点SP 形成的斑点潜像会显示出元件斑点间距离越长越扩大的倾向。其结果为， 由副扫描方向SD中相互不同位置的斑点SP形成的多个斑点潜像之间在 大小上会产生偏差。
23对于此，在以下实施方式中示出的行式头29中，发光元件2951的光 量按照该发光元件2951形成的斑点SP的副扫描方向SD中的位置来调整。 因此，可以抑制由于副扫描方向SD中的斑点SP形成位置的不同而引起 的曝光不良，可以实现良好的曝光。
D—l.第l实施方式
图13示出感光体鼓表面的明衰减特性，横轴表示时间"秒"，纵轴表 示感光体鼓表面的电位"V"。这里，所谓明衰减特性是表示感光体鼓的表 面电位相对于时间经过的变化的特性。如相同附图所示，时间0"秒"下， 在规定的负电位带电的感光体鼓的表面电位随着时间经过而增大。这样 地，感光体鼓表面不能维持一定的表面电位，表面电位随时间经过而增大。
另一方面，按照示出图11、图12的同时所说明的，从副扫描方向SD 的上游侧的斑点SP开始依次形成斑点SP，形成在主扫描方向MD上排列 的多个斑点潜像。因此，主扫描方向MD上排列而形成的多个斑点潜像 Lsp中，由副扫描方向SD的上游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp，由于 从形成开始的时间相比由副扫描方向SD的下游侧的斑点SP形成的斑点 潜像Lsp更长，因此变大，在形成的斑点潜像上会产生偏差。
图14示意性地示出斑点潜像的偏差。在相同附图中，示意性地示出 由发光元件组295—1、 295—2、 295—3的各发光元件2951形成的斑点潜像。 按照从上述说明判断的，发光元件组295—1的发光元件2951相比发光元 件组295_2、 295—3的发光元件2951在副扫描方向SD中的更上的上游侧 形成斑点SP。此外，发光元件组295_2的发光元件2951相比发光元件组 295一3的发光元件2951在副扫描方向SD中的更上的上游侧形成斑点SP。 此时，如相同附图的"光量的大小关系" 一栏所示，如果不依赖于形成的 斑点SP的位置而将各发光元件2951的光量设置为一定，则如相同附图的 "斑点潜像" 一栏所示的斑点潜像Lsp在主扫描方向MD上排列而形成。 这里，各斑点潜像Lsp的阴影模式具有与图12的阴影模式相同的意思。
也就是说，副扫描方向SD上由上游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp 相比由下游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp更大。如果更具体地来看， 则由发光元件组295—1的发光元件2951形成的斑点潜像Lsp—1相比由发 光元件组295—2、 295—3的发光元件2951形成的斑点潜像Lsp—2、 Lsp—3更大。此外，由发光元件组295一2的发光元件2951形成的斑点潜像Lsp—2 相比由发光元件组295一3的发光元件2951形成的斑点潜像Lsp一3更大。 特别地，在相同附图的例子中，斑点潜像Lsp—1、 Lsp—2、 Lsp—3的主扫描 方向MD中的直径Dlm一l、 Dlm一2、 Dlm一3的大小关系为，
Dlm一l > Dim—2 > Dlm_3 。 这里，为了与这样的问题相对应，在第l实施方式中，按照下面这样的方 式来调整发光元件2951的光量。
图15示意性地示出第1实施方式中的发光元件光量的调整方式的一 例。如相同附图所示，在第1实施方式中，在上游侧形成斑点SP的发光 元件组295的发光元件2951这样，设定其光量较少(小)。具体地，发光 元件组295—1的发光元件2951的光量被调整至相比发光元件组295—2、 295一3的发光元件2951的光量更少的值，发光元件组295—2的发光元件 2951的光量被调整至相比发光元件组295—3的发光元件2951的光量更少 的值(参照相同附图的"光量的大小关系" 一栏)。其结果为，如相同附 图的"斑点潜像" 一栏所示，抑制斑点潜像Lsp一l、 Lsp—2、 Lsp—3的偏差， 也缓和斑点潜像Lsp—l、Lsp—2、Lsp—3的主扫描方向MD中的直径Dlm—1、 Dim—2、 Dim—3的偏差。
如上述的第1实施方式中，发光元件2951的光量按照该发光元件2951 形成的斑点SP的副扫描方向SD中的位置来调整。因此，能够抑制由于 副扫描方向SD中的斑点形成位置的不同而引起的曝光不良，可以实现良 好的曝光。
此外，第1实施方式中，在副扫描方向SD上不同位置处形成斑点SP 的2个发光元件2951中，将副扫描方向SD中在上游侧形成斑点的发光元 件作为上游侧发光元件，并且将在下游侧形成斑点的发光元件作为下游侧 发光元件，上游侧发光元件的光量被调整至相比下游侧发光元件的光量更 少的值。如果具体地来说明，则发光元件组295—1的发光元件2951 (上游 侧发光元件)的光量被调整至相比发光元件组295一2的发光元件2951 (下 游侧发光元件)的光量更少的值。此外，发光元件组295—2的发光元件2951 (上游侧发光元件)的光量被调整至相比发光元件组295—3的发光元件 2951 (下游侧发光元件)的光量更少的值。因此，能够抑制在主扫描方向MD上排列而形成的多个斑点潜像Lsp的偏差，可以实现良好的曝光，而 不依赖伴随时间经过的斑点潜像Lsp的扩大。 D—2.第2实施方式
图16是第2实施方式中的图像形成装置的说明图。以下，釆用相同 附图针对第2实施方式进行说明。配置了上述这样的行式头29的图像形 成装置l中，如果行式头29对由带电部23带电的感光体鼓表面形成斑点 SP，则对形成该斑点SP的区域进行除电，形成斑点潜像Lsp。然后，在 显影位置DP中由显影部25对该斑点潜像Lsp进行调色剂显影。这里，显 影位置DP是对斑点潜像Lsp进行调色剂显影的位置，本实施方式中显影 辊251和感光体鼓21相接触的位置相当于显影位置DP。
另一方面，将斑点SP和显影位置DP之间在副扫描方向SD中的距离 作为斑点显影间距离DT，上述行式头29中，在副扫描方向SD上不同位 置处形成的各斑点SP之间，斑点显影间距离DT不同。也就是说，将由 发光元件组295J的发光元件2951形成的斑点SP的副扫描方向SD中的 位置作为位置LC—1，将由发光元件组295—2的发光元件2951形成的斑点 SP的副扫描方向SD中的位置作为位置LC一2，将由发光元件组295_3的 发光元件2951形成的斑点SP的副扫描方向SD中的位置作为位置LC—3， 各位置LC—1、 LC一2、 LC—3与显影位置DP之间在副扫描方向SD中的距 离DT—1、 DT—2、 DT_3 (斑点显影间距离DT)相互不同，具有下面的大 小关系，
DT—1 > DT—2 > DT_3 (参照图16)。 因此，副扫描方向SD中由上游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp的电位 与由下游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp的电位在显影位置DP处会不 同。
如果示出更具体的模拟结果来说明，则将显影位置DP中的斑点潜像 Lsp—1、 Lsp—2、 Lsp—3各自的电位记做电位VT—1、 VT—2、 VT一3，则有 VT_1 = _105.9[V] VT一2二一102.4[V] VT—3=—99.3[V〗，
存在各电位有偏差的情况。另外，这样的模拟在如下条件下进行感光体鼓直径二40[mm]，感光体线速度二212mm/秒，曝光显影间角度AG=68°， 发光元件组行的行间距Pegr=1.7[mm]。另外，曝光显影间角度AG是从 感光体鼓21的旋转轴CP21开始伸长至发光元件组295_2的斑点形成位置 LC—2的直线与从旋转轴CP21开始伸长至显影位置DP的直线相交叉的角 度(图16)。此外，感光体鼓表面具有图13示出的明衰减特性。
因此，副扫描方向SD中由上游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp和 由下游侧的斑点SP形成的斑点潜像Lsp在显影位置DP处大小等会不同， 如果换句话说就是，显影位置DP处斑点潜像Lsp的大小等会有偏差。这 里，为了与这样的问题相对应，在第2实施方式中，如下面这样对发光元 件2951的光量进行调整。
图17示意性地示出第2实施方式中的发光元件光量的调整方式的一 例。如相同附图所示，斑点SP的位置LC—1、 LC一2、 LC一3与到显影位置 DP为止的距离DT较长(大)的发光元件组295的发光元件2951这样， 将其光量设定为较少(小)。具体地，发光元件组295_1的发光元件2951 的光量被调整至相比发光元件组295—2、 295_3的发光元件2951的光量更 少的值，发光元件组295—2的发光元件2951的光量被调整至相比发光元 件组295一3的发光元件2951的光量更少的值(参照相同附图的"光量的 大小关系"一栏)。其结果为，如相同附图的"显影位置DP中的斑点潜像" 一栏所示，抑制显影位置DP中的斑点潜像LspJ、 Lsp—2、 Lsp—3的偏差， 例如，抑制斑点潜像Lsp一l、 Lsp—2、 Lsp一3的主扫描方向MD中的直径 Dim—1、 Dim—2、 Dlm_3的偏差。
如上所述的第2实施方式中，发光元件2951的光量也按照该发光元 件2951形成的斑点SP的副扫描方向SD中的位置来调整。因此，能够抑 制由于副扫描方向SD中的斑点形成位置的不同而引起的曝光不良，可以 实现良好的曝光。
此外，第2实施方式中，发光元件2951的光量按照该发光元件2951 形成的斑点SP与显影位置DP之间在副扫描方向SD中的距离DT来调整。 因此，可以抑制显影位置DP中的斑点潜像Lsp的偏差，能够形成良好的图像。
D—3.第3实施方式
27但是，感光体鼓21的表面在副扫描方向SD的剖面(副扫描剖面)中
具有曲率形状(图18等)。另外，本说明书中，将圆筒形的周表面的形状 定义为"曲率形状"。并且，如上所述，行式头29中，宽度方向LTD上 不同位置处配置的各发光元件组295的各发光元件2951在感光体鼓表面 的副扫描方向SD上相互不同的位置处形成斑点SP。因此，宽度方向LTD 上不同的位置处配置的各发光元件组295之间，发光元件2951和该发光 元件2951形成的斑点SP之间的距离(元件斑点间距离Les)会不同。但 是，由该斑点SP形成的斑点潜像Lsp会显示出元件斑点间距离Les越长 越扩大的倾向。也就是说，由于感光体鼓表面的曲率形状，光束的成像位 置会从感光体鼓表面错开，元件斑点间距离Les较短的发光元件2951的 光束会在感光体鼓表面上成像，而元件斑点间距离Les较长的发光元件 2951的光束会在从感光体鼓表面错开的位置处成像。这样的情况下，由元 件斑点间距离Les较长的发光元件2951在感光体鼓表面形成得到的斑点 SP扩大。其结果为，副扫描方向SD中由相互不同的位置的斑点SP形成 的多个斑点潜像Lsp之间，大小上会有偏差。
图18示意性地示出斑点潜像的偏差。如相同附图的"行式头的侧视 图"一栏所示，元件斑点间距离Les在发光元件组295之间不同。具体地， 将发光元件组295—1的发光元件2951与该发光元件2951的斑点形成位置 LC一1之间的距离作为元件斑点间距离Les—1，并且发光元件组295—2的发 光元件2951与该发光元件2951的斑点形成位置LC—2之间的距离作为元 件斑点间距离Les—2，则各元件斑点间距离Les一l、 Les一2的大小关系为下 面表达式，
Les—1 > Les—2。
其结果为，由发光元件组295—1的发光元件2951形成的斑点潜像Lsp—1 相比由发光元件组295一2的发光元件2951形成的斑点潜像Lsp一2更大(参 照相同附图的"感光体鼓表面的平面图" 一栏)。特别地，相同附图的例 子中，斑点潜像Lsp_l的副扫描方向SD中的直径Dls—1相比斑点潜像 Lsp一2的副扫描方向SD中的直径Dls—2更大。另外，第3实施方式中， 发光元件组295—3的发光元件2951与该发光元件2951的斑点形成位置 LC 3之间距离大致等于与发光元件组295—1相对应的元件斑点间距离Les—1。并且，为了与这样的斑点潜像的偏差相对应，在第3实施方式中， 按照下面这样的方式来调整发光元件2951的光量。
图19示意性地示出第3实施方式中的发光元件光量的调整方式的一 例。第3实施方式中，元件斑点间距离Les较长的发光元件组295的发光 元件这样，将其光量设定为较少(小)。具体地，将发光元件组295—1 (295—3 ) 的发光元件2951的光量调整至相比发光元件组295_2的发光元件2951的 光量更少的值。其结果为，如图19的"感光体鼓表面的平面图"所示， 使得斑点潜像Lsp一l的副扫描方向SD中的直径Dls—1与斑点潜像Lsp一2 的副扫描方向SD中的直径Dls—2大致相等，来抑制图18中示出的斑点潜 像的偏差。
如上所述的第3实施方式中，发光元件2951的光量按照该发光元件 2951形成的斑点SP的副扫描方向SD中的位置来调整。因此，能够抑制 由于副扫描方向SD中的斑点形成位置的不同而引起的曝光不良，可以实 现良好的曝光。
特别地，在第3实施方式中，在副扫描方向SD上相互不同的位置处 形成斑点SP后元件斑点间距离Les相互不同的2个发光元件2951中，元 件斑点间距离Les较长的发光元件2951的光量被调整至相比元件斑点间 距离Les较短的发光元件2951的光量更少的值。如果具体地来说明，则 发光元件组295—1的发光元件2951的光量被调整至相比发光元件组295一2 的发光元件2951的光量更少的值。因此，能够抑制斑点潜像Lsp的大小 的偏差，可以实现良好的曝光，而不依赖于元件斑点间距离Les。
D—4.第4实施方式
本实施方式中，在针对由于行式头29面对感光体鼓21在宽度方向 LTD上偏离而产生的斑点偏差进行说明之后，针对抑制该斑点偏差给予潜 像形成的影响的技术进行说明。
图20示出行式头面对感光体鼓在宽度方向上偏离的情况下的斑点偏 差。如相同附图的"行式头等侧视图"一栏所示，3个发光元件组295—1 295—3构成同一发光元件组列295C， 3个透镜LS一1 LS—3构成同一透镜 列LSC。并且，发光元件组295—1 295—3各自射出的光由透镜LS—1 LS—3 中对应的透镜成像，在感光体鼓21表面形成斑点。在相同附图中，行式头29在宽度方向LTD上偏离，由此各透镜LS一1 LS—3的斑点形成位置LC一1 LC一3在副扫描方向SD上只偏离偏移量 △sft。另一方面，由于感光体鼓21表面具有曲率形状，因此，如果斑点形 成位置LC—1 LC—3在副扫描方向SD上只偏离偏移量Asft，则斑点形成 位置LCJ、…和透镜LSJ、...之间的距离改变。具体地，透镜LSJ与 斑点形成位置LC—1之间的距离变短，而透镜LS—2与斑点形成位置LC—2 之间的距离变长。其结果为， 一部分斑点SP会扩大。图20所示的例子中， 由透镜LS_1形成的斑点SP_1没有那样扩大，但是由透镜LS—2形成的斑 点SP_2扩大了 (参照相同附图"表示斑点的偏差的平面图" 一栏)。由此， 斑点SP—2中光量密度(单位面积附近的光量)会降低，不能由斑点SP一2 稳定地形成斑点潜像。其结果为，如下情况存在可能性，即，由斑点SPJ 和斑点SP—2形成的潜像的大小等有偏差。
也就是说，存在斑点SP根据形成位置(斑点形成位置)的不同而扩 大的情况，其结果为，有些情况下不能形成良好的潜像。这里，为了与这 样的问题相对应，可以按照斑点形成位置LC—1、...(从另一观点来看， 按照透镜的宽度方向LTD的位置)来调整在该斑点形成位置LC一1、…中 形成斑点的发光元件的光量。具体地，可以相比形成斑点SP—1的发光元 件来增大形成斑点SP一2的发光元件的光量。由此，斑点SP一1和斑点SP—2 全都可以形成均匀的潜像。
这样地，在本实施方式中，行式头29 (曝光头)具有透镜LS一1 (第 1成像光学系统)和配置在透镜LS—1的宽度方向LTD侧的透镜LS_2 (第 2成像光学系统)。并且，发光元件的光量按照对该发光元件的光进行成像 的透镜来调整。因此，可以实现良好的曝光，能够形成良好的图像。另外， 发光元件的光量调整可以由头基板293中设置的驱动电路DC—A等(控制 部)来执行(图9)，或者也可以由头控制器HC (控制部)来进行(图4)。
E.其他
这样地，在上述实施方式中，行式头29相当于本发明的"曝光头"， 感光体鼓21相当于本发明的"潜像承载体"，副扫描方向SD和宽度方向 LTD相当于本发明的"第1方向"，透镜LS相当于本发明的"成像光学系 统"，头基板293相当于本发明的"基板"。感光体鼓21表面相当于本发明的"被曝光面"。此外，将对来自发光元件组295_1的光进行成像的透
镜LS作为本发明的"第l成像光学系统"，则对来自发光元件组295一2、 295—3的光进行成像的透镜LS相当于本发明的"第2成像光学系统"，将 对来自发光元件组295_2的光进行成像的透镜LS作为本发明的"第1成 像光学系统"，则对来自发光元件组295—3的光进行成像的透镜LS相当于 本发明的"第2成像光学系统"。此外，斑点SP相当于本发明的"由成像 光学系统成像的光"。此外，在第1实施方式中，发光元件组295—1的发 光元件相当于本发明的"发出由第1成像光学系统在潜像承载体的第1位 置处成像的光的发光元件"，发光元件组295_2的发光元件相当于本发明 的"发出由第2成像光学系统在第2位置处成像的光的发光元件，其中， 上述第2位置与带电部之间的距离相比第1位置与带电部之间的距离更 长"。此外，第3实施方式中，由透镜LS在感光体鼓21上成像的光(斑 点SP)的副扫描方向SD的直径相当于本发明的"成像光学系统的成像特 性"。此外，在第4实施方式中，透镜LS在感光体鼓21上成像的光(斑 点SP)的位置相当于本发明的"成像光学系统的成像特性"。此外，第2 实施方式中，由透镜LS在感光体鼓21上成像的光的位置LCJ等与显影 位置DP之间的距离相当于本发明的"成像光学系统的成像特性"。
另外，本发明不限定为上述实施方式，可以在不背离其宗旨的范围中 在上述情况以外进行各种变更。在上述实施方式中，3行的发光元件组行 295R在宽度方向LTD上排列。但是，发光元件组行295R的行数不限定 为3行，例如也可以为2行。
此外，在上述实施方式中，发光元件组295由2行的发光元件行2951R 构成。但是，构成发光元件组295的发光元件行2951R的行数不限定为2 行，例如也可以为1行。
此外，在上述实施方式中，发光元件行2951R由4个发光元件2951 构成。但是，构成发光元件行2951R的发光元件2951的个数不限定为4 个。
此外，在上述实施方式中，采用有机EL元件作为发光元件2951。但 是，也可以采用有机EL元件以外的元件来作为发光元件2951，例如，可 以采用LED (Light Emitting Diode)作为发光元件2951。
31此外，在上述实施方式中，通过使得显影辊251与感光体鼓表面相接 触的接触显影方式来执行调色剂显影。但是，调色剂显影的方式不限定于 此，也可以通过非接触显影方式来执行调色剂显影，即，从感光体鼓表面 相离配置显影辊，并且使得调色剂从显影辊向感光体鼓表面飞出。
此外，在第l及第2实施方式等中，虽然说明了按每透镜行LSR来调 整成像光的光量的技术，但是没有特别提到属于同一透镜行LSR的透镜之 间的成像光的光量。但是，如下面说明这样，行式头29在长边方向LGD (主扫描方向MD)上弯曲的情况下，也可以在属于同一透镜行LSR的透 镜之间调整成像光量。
图21示出行式头在长边方向上弯曲的情况下的斑点偏差。相同附图 的"行式头等的侧视图" 一栏中，由1个透镜行LSR各透镜成像的光束 LB用点划线示出。此外，透镜行LSR的长边方向LGD末端的末端透镜 LS—e与透镜行LSR的长边方向LGD (第2方向)中央部的中央部透镜 LS—m属于同一透镜行。
在相同附图中，行式头29面对感光体鼓21表面变凸，在长边方向 LGD上弯曲。其结果为，斑点形成位置与透镜之间的距离由于透镜的不同 而不同。具体地，末端透镜LS—e与斑点形成位置LC_e之间的距离相比中 央部透镜LS—m与斑点形成位置LC—m之间距离变长。其结果为，从中央 部朝向末端形成的斑点会扩大。具体地，与由中央部透镜LS—m形成的斑 点SP—m相比，由末端透镜LS一e形成的斑点SPj扩大。由此，越靠近末 端的斑点，光量密度越低，不能稳定地形成斑点潜像。这里，为了与这样 的问题相对应，只要越靠近末端的透镜LS，越增大对应的发光元件2951 的光量即可。由此，可以均匀地形成潜像。
此外，上述实施方式的行式头29，将多个发光元件2951成组化后构 成发光元件组295，并且按每个发光元件组295来设置透镜LS。但是，行 式头29的结构不限定于此，例如也可以构成为下面这样。
图22是示出行式头的另一结构的宽度方向剖面图，图23是示出图22 的行式头具有的头基板的背面的平面图。另外，图23中，透镜阵列299s一l、 299s—2用二点划线来示出，这用于示出透镜阵列299s—1、 299s—2和发光 元件之间的配置关系，而不是示出透镜阵列299sJ、 299s一2被配置在头基板背面上。另外，以下，针对与上述行式头的差异点进行主要说明，对于 共同部分附加适当的符号而省略说明。
如图23所示，在头基板293的背面，2行的发光元件阵列LUs—1 、LUs一2 在宽度方向LTD上排列。发光元件阵列LU中，多个发光元件2951在长 边方向LGD上排列配置。并且，各发光元件阵列LUs一l、 LUs一2在长边 方向LGD上相互错开，以使得宽度方向LTD中各发光元件2951的位置 不同。此外，按照与发光元件阵列LUsJ、 LUs一2—对一相对应的方式， 2个透镜阵列LA相对配置(图22、图23)。该透镜阵列LA按照叠积多 个折射率分布型透镜的方式构成，具有正立等倍的光学特性。
这样地，发光元件阵列LUs_l的发光元件2951和发光元件阵列LUs一2 的发光元件2951配置在宽度方向LTD上不同的位置处。并且，各发光元 件阵列LUs—1、 LUs—2在副扫描方向SD上相互不同的位置LCs—1、 LCs—2 处形成斑点SP。因此，为了在主扫描方向MD上排列形成多个斑点潜像， 在宽度方向LTD上不同位置处配置的各发光元件阵列LUs_l、LUs_2按照 与感光体鼓表面的移动相对应的计时来发光。
图24示出图22中示出的行式头执行的斑点潜像形成工作。图24中， 斑点潜像LspsJ是由各发光元件阵列LUsJ的发光元件2951形成的斑点 潜像，斑点潜像Lsps—2是由各发光元件阵列LUs一2的发光元件2951形成 的斑点潜像。也就是说，在其他结构中涉及的行式头29中，首先，宽度 方向LTD的上游侧的发光元件阵列LUs_l发光，形成斑点潜像Lsps一l。 接着，宽度方向LTD的下游侧的发光元件阵列LUs—2发光，形成斑点潜 像Lsps—2。这样地，形成在主扫描方向MD上排列的多个斑点潜像(图 24)。
这样地，在图22中示出的行式头29中，也从副扫描方向SD的上游 侧的斑点SP开始依次形成斑点SP，并形成在主扫描方向MD上排列的多 个斑点潜像Lsp。因此，与第1实施方式等中示出的情况相同，形成的斑 点潜像会有偏差。因此，也对图22中示出的行式头29应用本发明，发光 元件2951的光量优选按照该发光元件2951形成的斑点SP的副扫描方向 SD中的位置来调整。原因是，抑制斑点潜像的偏差的产生，实现良好的 曝光。此外，如从图22 了解的这样，感光体鼓21的表面在副扫描方向SD 的剖面(副扫描剖面)上具有曲率形状。并且，如上述，宽度方向LTD 上不同位置处配置的各发光元件阵列LUs一l、 LUs—2的各发光元件2951 在感光体鼓表面的副扫描方向SD上相互不同的位置LCsJ、 LCs_2处形 成斑点SP。因此，在各发光元件阵列LUs—1、 LUs—2之间，发光元件2951 和该发光元件形成的斑点SP之间的距离(元件斑点间距离LessJ、Less—2) 会不同。因此，与第3实施方式中示出的情况相同，由副扫描方向SD上 相互不同的位置的斑点SP形成的多个斑点潜像之间，大小上会有偏差。
因此，也对图22中示出的行式头29应用本发明，发光元件2951的 光量优选按照该发光元件2951形成的斑点SP的副扫描方向SD中的位置 来调整。原因是，可以抑制斑点潜像的偏差的产生，可以实现良好的曝光。
权利要求
1. 一种图像形成装置，具有在第1方向上移动的潜像承载体；曝光头，其具有第1成像光学系统、在上述第1成像光学系统的上述第1方向侧配置的第2成像光学系统、发出由上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光元件以及发出由上述第2成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光元件；以及控制部，其按照上述第1成像光学系统的成像特性，来控制发出由上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光元件的光量。
2. 根据权利要求l所述的图像形成装置，其特征在于， 上述成像特性是上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的面积。
3. 根据权利要求l所述的图像形成装置，其特征在于， 上述成像特性是由上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的上述第1方向上的直径。
4. 根据权利要求2或3所述的图像形成装置，其特征在于， 上述潜像承载体是感光体鼓。
5. 根据权利要求l所述的图像形成装置，其特征在于， 上述成像特性是上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的位置。
6. 根据权利要求5所述的图像形成装置，其特征在于， 具有带电部，其使上述潜像承载体带电，通过上述控制部的控制，使得发出由上述第1成像光学系统在上述潜 像承载体的第1位置处成像的光的上述发光元件的光量相比发出由上述第 2成像光学系统在第2位置处成像的光的上述发光元件的光量更少，其中， 上述第2位置与上述带电部之间的距离比上述第1位置与上述带电部之间 的距离更长。
7. 根据权利要求5所述的图像形成装置，其特征在于， 具有显影部，其对由上述曝光头在上述潜像承载体上形成的潜像进行显影，上述成像特性是由上述第1成像光学系统成像的光的上述潜像承载体 的成像位置与由上述显影部的上述光形成的潜像的显影位置之间的距离。
8. 根据权利要求1至7中任一项所述的图像形成装置，其特征在于， 发出由上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光元件以及发出由上述第2成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光 元件设置在基板上。
9. 根据权利要求8所述的图像形成装置，其特征在于， 上述控制部设置在上述基板。
10. 根据权利要求9所述的图像形成装置，其特征在于， 上述控制部由TFT构成。
11. 根据权利要求9或10所述的图像形成装置，其特征在于， 具有设置在上述基板与上述成像光学系统之间的遮光部件， 上述遮光部件具有第1导光孔，其设置在发出由上述第l成像光学系统成像的光的上述发光元件与上述第1成像光学系统之间；以及第2导 光孔，其设置在发出由上述第2成像光学系统成像的光的上述发光元件与 上述第2成像光学系统之间。
12. 根据权利要求1至11中任一项所述的图像形成装置，其特征在于，发出由上述第1成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光元 件以及发出由上述第2成像光学系统在上述潜像承载体上成像的光的发光 元件是有机EL元件。
13. 根据权利要求12所述的图像形成装置，其特征在于， 上述有机EL元件是底部发射型。
14. 一种图像形成装置，具有 在第1方向上移动的潜像承载体；曝光头，其具有成像光学系统以及发出由上述成像光学系统在上述潜 像承载体上成像的光的发光元件；以及控制部，其按照使上述发光元件的光成像的成像光学系统的第1方向 的位置，来控制该发光元件的光量。
15. —种曝光头，具有 第1成像光学系统；相对上述第1成像光学系统配置在被曝光面移动的第1方向侧的第2成像光学系统；发出由上述第1成像光学系统成像的光的发光元件；发出由上述第2成像光学系统成像的光的发光元件；以及控制部，其按照上述第1成像光学系统的成像特性，来控制发出由上述第1成像光学系统成像的光的发光元件的光量。
全文摘要
本发明提供一种抑制由于第1方向中的斑点形成位置的不同而引起的曝光不良的产生的技术。本发明的图像形成装置包括在第1方向(SD)上移动的潜像承载体；曝光头(29)，其具有第1成像光学系统(LS_1)、配置在第1成像光学系统(LS_1)的第1方向侧的第2成像光学系统(LS_2)、发出由第1成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件、以及发出由第2成像光学系统在潜像承载体上成像的光的发光元件；以及控制部，其按照第1成像光学系统(LS_1)的成像特性来控制发出由第1成像光学系统(LS_1)在潜像承载体上成像的光的发光元件的光量。
文档编号G03G15/01GK101470379SQ20081018525
公开日2009年7月1日 申请日期2008年12月24日 优先权日2007年12月25日
发明者井上望, 井熊健, 辻野净士, 野村雄二郎 申请人:精工爱普生株式会社