一种镭射电化铝烫印箔的利记博彩app

文档序号:10914384阅读:546来源:国知局
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【专利摘要】本实用新型提供了一种镭射电化铝烫印箔,属于涂布印刷技术领域。它解决了现有镭射电化铝烫印箔亮度不均匀,烫印图案铝层容易被氧化的技术问题。本实用新型所述的一种镭射电化铝烫印箔,它包含一层BOPET薄膜基材,在基材正面依次涂覆有剥离层、着色树脂层、镭射模压层、镀铝底涂层、真空镀铝层、铝层保护层、背胶层。本实用新型具备亮度均匀,烫印图案不易被氧化的优点,适应范围广泛。
【专利说明】
一种镭射电化铝烫印箔
技术领域
[0001]本实用新型属于涂布印刷技术领域,特别是一种镭射电化铝烫印箱。技术背景
[0002]镭射电化铝烫印箱一种新型包装材料,具有烫印图案精美,可提升承印基材包装档次的特点。目前镭射电化铝烫印箱使用范围日益广泛,然而现有镭射电化铝烫印箱因生产工艺与技术的限制,真空镀铝后亮度时常不均匀,同时烫印图案铝层容易被氧化,影响承印基材外观效果。【实用新型内容】
[0003]本实用新型的目的为了解决上述现有技术的不足而提供一种镭射电化铝烫印箱。
[0004]为了实现上述目的,本实用新型所采取的技术方案是:
[0005]—种镭射电化铝烫印箱,它包含一层B0PET薄膜基材,在基材正面依次涂覆有剥离层、着色树脂层、镭射模压层、镀铝底涂层、真空镀铝层、铝层保护层、背胶层。
[0006]所述的镀铝底涂层为透明涂层,对外观效果和烫印性能无影响。
[0007]所述的铝层保护层为环氧树脂涂层,可有效保护真空镀铝层,防止真空镀铝层氧化。
[0008]本实用新型的有益效果是:亮度均匀,烫印图案不易被氧化。【附图说明】
[0009]图1是本实用新型的结构示意图。
[0010]图1中:1为B0PET薄膜基材;2为剥离层;3为着色树脂层;4为镭射模压层;5为镀铝底涂层;6为真空镀铝层;7为铝层保护层;8为背胶层。【具体实施方式】[〇〇11]以下是本实用新型的具体实施例并结合附图,对本实用新型的技术方案作进一步描述:
[0012]参见图1,本实用新型所述的一种镭射电化铝烫印箱,它包含一层B0PET薄膜基材 1,在基材正面依次涂覆有剥离层2、着色树脂层3、镭射模压层4、镀铝底涂层5、真空镀铝层 6、铝层保护层7、背胶层8。所述的剥离层2是通过涂布机涂覆在B0PET薄膜基材1正面;所述的着色树脂层3是通过涂布机涂覆在剥离层2表面;所述的镭射模压层4是通过模压机涂覆在着色树脂层3表面;所述的镀铝底涂层5是通过涂布机涂覆在镭射模压层4表面;所述的真空镀铝层6是通过真空镀铝机涂覆在镀铝底涂层5表面;所述的铝层保护层7是通过涂布机涂覆在真空镀铝层6表面;所述的背胶层8是通过涂布机涂覆在铝层保护层7表面。所述的 B0PET薄膜基材1的厚度为15?18wii;所述的镀铝底涂层5为透明涂层,对外观效果和烫印性能无影响;所述的铝层保护层7为环氧树脂涂层,可有效保护真空镀铝层,防止真空镀铝层氧化。
【主权项】
1.一种镭射电化铝烫印箱,其特征在于,它包含一层BOPET薄膜基材(1),在基材(1)正 面依次涂覆有剥离层(2)、着色树脂层(3)、镭射模压层(4)、镀铝底涂层(5)、真空镀铝层 (6)、铝层保护层(7)、背胶层(8)。
【文档编号】B41M5/40GK205601424SQ201620353096
【公开日】2016年9月28日
【申请日】2016年4月25日
【发明人】林雪峰, 周晋, 陆游
【申请人】浙江恒丰包装有限公司
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