利用等离子体预处理的rgb印刷方法及用于其的等离子体装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及利用等离子体预处理的RGB印刷方法及用于其的等离子体装置，更具体地涉及，其中，包括如下步骤:a)在无机基板上形成有机隔断；b)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处理的基板表面进行疏水化处理；以及d)在上述疏水化处理的基板上的有机隔断之间，喷墨打印RGB有机溶剂。通过利用本发明的等离子体预处理的RGB印刷方法及大气压等离子体装置，从而在喷墨打印RGB有机溶剂时，可简单有效地防止溶剂之间的相互干扰及弥散，进而可显著提高利用RGB有机溶剂的显示器装置的品质。
【专利说明】利用等离子体预处理的RGB印刷方法及用于其的等离子体装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及利用等离子体预处理的RGB印刷方法及用于其的等离子体装置，更具体地涉及，其中，包括如下步骤:a)在无机基板上形成有机隔断；b)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处理的基板表面进行疏水化处理；以及d)在上述疏水化处理的基板上的有机隔断之间，喷墨打印RGB有机溶剂。
[0002]通过利用本发明的等离子体预处理的RGB印刷方法及大气压等离子体装置，从而在喷墨打印RGB有机溶剂时，可简单有效地防止溶剂之间的相互干扰及弥散，进而可显著提高利用RGB有机溶剂的显示器装置的品质。
【背景技术】
[0003]如图1所示，通常在显示器基板上喷墨打印RGB有机溶剂的步骤中，首先利用聚合物(polymer)或者光刻胶(PR, photoresist)物质等各种物质,在基板上形成隔断,之后将彼此不同的有机溶剂喷射在上述隔断之间。
[0004]但是，此过程中会隔着隔断发生有机溶剂之间的互相干扰，并且在隔断等中发生溶剂弥散的现象，同时发生有机溶剂无法稳定地存放在各个位置的基板中，从而最终降低整个显示器装置的品质。
[0005]由此，在本发明中开发了防止方法，其在整个显示器制造工艺中，对喷墨打印RGB有机溶剂时，发生的打印溶剂之间的干扰现象可简单有效地进行防止。
【发明内容】
[0006]本发明的目的在于提供一种RGB印刷方法及用于其的装置，其在将RGB有机溶剂喷墨打印于显示器基板上的步骤中，有效地抑制打印溶剂之间产生干扰及溶剂在隔断等中发生弥散的现象，并且使各种RGB有机溶剂在基板中存放下来，从而可显著提高利用RGB有机溶剂的显示器装置的品质。
[0007]为实现上述目的的本发明提供一种利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其包括如下步骤:a)在无机基板上形成有机隔断；b)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处理的基板表面进行疏水化处理；以及d)在上述疏水化处理的基板上的有机隔断间，喷墨打印RGB有机溶剂。
[0008]通过上述印刷方法打印RGB有机溶剂时，其具有如下特征:有机隔断具有疏水性，因此可抑制有机溶剂的弥散，并且有机隔断之间的基板具有亲水性，因此可使有机溶剂存放于基板中。
[0009]此时,上述有机隔断可由高分子(polymer)或者光刻胶(photoresist)物质形成，并且在上述亲水化处理时利用大气压等离子体，同时作为工艺气体使用氧气(02)、干净的干燥空气(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4),并且在上述疏水化处理时使用大气压等离子体，并且，优选地，将类似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、铪(HF)等的含氟的化合物使用为工艺气体。
[0010]同时，为实现上述目的，本发明提供用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置，其包括:a)大气压等离子体模块,其由阴极(cathode)、阳极(anode)、夕卜壳(housing)构成；
b)第一气体供应及控制装置，其向上述大气压等离子体模块供应亲水化用气体，并且控制气体供应量；c)第二气体供应及控制装置，其向上述大气压等离子体模块供应疏水化用气体，并且控制气体供应量；d)排气装置，其排出上述大气压等离子体模块中的工艺气体；e)冷却装置，其冷却上述大气压等离子体模块；以及f)电源装置，其向上述大气压等离子体模块供应电源。
[0011]此时，优选地，从上述第一气体供应及控制装置中供应的亲水化用气体包括氧气
(02)、干净的干燥空气(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4),并且从上述第二气体供应及控制装置中供应的疏水化用气体包括由类似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、铪(HF)的含氟的化合物组成的工艺气体。
[0012]本发明在将RGB有机溶剂喷墨打印于显示器基板上的步骤之前，增加利用大气压等离子体装置的亲水化及疏水化工艺，从而通过增加非常单一的工艺来简单有效地防止打印溶剂之间发生的干扰现象，进而利用RGB有机溶剂可显著提高显示器装置的品质。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1是表示根据本发明的利用等离子体预处理的RGB印刷方法的流程图。
[0014]图2是表示根据本发明的用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置的亲水化模块。
[0015]图3是表示根据本发明的用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置的疏水化模块。
【具体实施方式】
[0016]以下参照附图详细说明根据本发明的利用等离子体预处理RGB印刷方法及用于其的等离子体装置。
[0017]本发明的利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其包括如下步骤:a)在无机基板上形成有机隔断山)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处理的基板表面进行疏水化处理；以及d)在上述疏水化处理的基板上的有机隔断之间，喷墨打印RGB有机溶剂。
[0018]通常，在将RGB有机溶剂喷墨打印于显示器基板上的步骤中，利用聚合物(polymer)或者光刻胶(PR, photoresist)物质等各种物质形成隔断,之后将彼此不同的有机溶剂喷射在上述隔断之间。
[0019]但是，在此过程中会发生如下问题:隔着隔断有机溶剂之间发生互相干扰，或者在隔断上发生溶剂弥散的现象，并且发生有机溶剂无法稳定地存放于各个位置的基板中。
[0020]在本发明中，为解决上述问题，如图1所示，在喷墨打印步骤之前利用等离子体连续执行亲水化及疏水化处理，从而使其具有如下特征:有机隔断具有疏水性，从而抑制有机溶剂的弥散，并且有机隔断间的基板具有亲水性，从而使有机溶剂存放在基板上。此时，上述有机隔断可由高分子(polymer)或者光刻胶(photoresist)物质等各种有机材料构成。
[0021]上述亲水化处理通常可利用大气压等离子体工艺，并且作为工艺气体可使用类似于氧气(02)、干净的干燥空气(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4)的可进行表面亲水化的物质。如此地对上述无机基板和有机隔断整体进行亲水化处理后，会重新再对基板表面进行疏水化处理，其同样可使用通常的大气压等离子体工艺，但不同于亲水化处理，作为工艺气体可优选地使用含氟的化合物，上述氟化物类似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、铪(HF )表现出疏水化特性。
[0022]在上述疏水化处理过程中，表现疏水化特性的氟的化学反应只与以C成分为基础的有机物表面进行反应，由此只有有机隔断表现出疏水化特性，而上述有机隔断之间的无机基板仍然具有亲水性。总而言之，有机隔断具有疏水性，从而抑制有机溶剂的干扰及弥散，并且由于有机隔断的基板具有亲水性，从而使有机溶剂存放于基板中。
[0023]同时，如图2、3所示，上述说明的用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置包括如下构成:a)大气压等离子体模块，其由阴极、阳极、外壳构成；b)第一气体供应及控制装置，其向上述大气压等离子体模块供应亲水化用气体，并且控制气体供应量；c)第二气体供应及控制装置，其向上述大气压等离子体模块供应疏水化用气体，并且控制气体供应量；d)排气装置，其排出上述大气压等离子体模块内的工艺气体；e)冷却装置，其冷却上述大气压等离子体模块；以及f)电源装置，其向上述大气压等离子体模块供应电源。
[0024]此时，从上述第一气体供应及控制装置中供应的亲水化用气体可包括氮气(N2)和氧气(02)、干净的干燥空气(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4)的工艺气体，并且从上述第二气体供应及控制中供应的疏水化用气体可包括由氮气(N2)和类似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、铪(HF)的含氟的化合物组成的工艺气体。
[0025]通过上述说明中的利用本发明的等离子体预处理的RGB印刷方法，从而显示器制造工艺中喷墨打印RGB有机溶剂的步骤中，可有效抑制打印溶剂之间产生的干扰和隔断等中弥散溶剂的现象，并且可使各个RGB有机溶剂存放于基板上，从而可显著提高利用RGB有机溶剂的显示器装置的品质。
[0026]本发明并非限定于上述特定的实施例及说明，在所属于本发明的【技术领域】，且具备一般知识的人员，可在不脱离请求范围中请求的本发明的要点的情况下进行各种变更，其变更所属于本发明权利要求保护范围内。
【权利要求】
1.一种利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其包括如下步骤: a)在无机基板上形成有机隔断；b)利用等离子体对基板表面进行亲水化处理，上述基板表面形成有上述有机隔断；c)利用等离子体对上述亲水化处理的基板表面进行疏水化处理；以及d)在上述疏水化处理的基板上的有机隔断之间，喷墨打印RGB有机溶剂。
2.根据权利要求1所述的利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其特征在于: 打印上述RGB有机溶剂时，上述有机隔断具有疏水性，因此可抑制有机溶剂的弥散，并且有机隔断之间的基板具有亲水性，因此可使有机溶剂存放于基板上。
3.根据权利要求1所述的利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其特征在于: 上述有机隔断由高分子(Polymer)或者光刻胶(Photoresist)物质形成。
4.根据权利要求1所述的利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其特征在于: 在上述亲水化处理时，利用大气压等离子体，同时作为工艺气体使用氧气(02)、干净的干燥空气(CDA，Clean Dry Air)或者甲烷(CH4)。
5.根据权利要求1所述的利用等离子体预处理的RGB印刷方法，其特征在于: 上述疏水化处理时，使用大气压等离子体，并且将类似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、铪(HF)的含氟的化合物使用为工艺气体。
6.用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置，其包括: a)大气压等离子体模块，其由阴极(cathode)、阳极(anode)、夕卜壳(housing)构成；b)第一气体供应及控制装置，其向上述大气压等离子体模块供应亲水化用气体，并且控制气体供应量；c)第二气体供应及控制装置，其向上述大气压等离子体模块供应疏水化用气体，并且控制供应量；d)排气装置，其排出上述大气压等离子体模块内的工艺气体；e)冷却装置，其冷却上述大气压等离子体模块；以及f)电源装置，其向上述大气压等离子体模块供应电源。
7.根据权利要求6所述的用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置，其特征在于: 从上述第一气体供应及控制装置中供应的亲水化用气体包括氧气(02)、干净的干燥空气(CDA，Clean Dry Air )或者甲烷(CH4)。
8.根据权利要求6所述的用于RGB印刷预处理的大气压等离子体装置，其特征在于: 从上述第二气体供应及控制装置中供应的疏水化用气体包括由类似于六氟化硫(SF6)、四氟化碳(CF4)、三氟化氮(NF3)、铪(HF)的含氟的化合物组成的工艺气体。
【文档编号】B41M1/14GK103476594SQ201280018028
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2012年3月27日 优先权日:2011年4月12日
【发明者】李相老, 金允焕, 任赞株 申请人:（株）Sep