专利名称：一种镭射印裱机用镭射信息层及其制备方法
技术领域：
本发明涉及镭射包装薄膜技术领域，特别是涉及一种雷射印裱机用镭射信息层及 其制备方法。
背景技术：
镭射薄膜，具有层状结构，自下而上包括背胶层、铝层、镭射信息层和离型层。现有 技术中镭射信息层仅具有单层结构，且该配方在烫金后印刷再过雷射印裱机时，存在因产 品耐温不足而失光、雷射强度差的问题，从而导致镭射薄膜的不良品的增加，无形中增加了 生产成本。因此，针对现有技术中的不足，亟需提供一种适合烫后印过雷射印裱机不失光、雷 射强度好的雷射印裱机用镭射信息层及其制备方法。
发明内容
本发明的目的在于避免现有技术中的不足之处而提供一种适合烫后印过雷射印 裱机不失光、雷射强度好的雷射印裱机用镭射信息层及其制备方法。本发明的目的通过以下技术方案实现
一方面，本发明提供了一种雷射印裱机用镭射信息层，其中，包括有第一涂层和第二涂 层，所述第一涂层涂覆于离型层，所述第二涂层涂覆于所述第一涂层，所述第一涂层按重量 百分比计，包含以下组成
甲基丙烯酸甲酯10 12%
丁酮45 50 %
甲基异丁酮38 45 % ；
所述第二涂层按重量百分比计，包含以下组成 丙烯酸树脂20 28 %
聚醚改性硅氧烷0. 02 0. 03 %
聚矽氧烷有机硅0. 03 0. 04 %
甲苯二异氰酸酯16 18 %
丁酮30 35 %
甲基异丁酮25 33 %。雷射印裱机用镭射信息层，其中，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成 甲基丙烯酸甲酯11 12 %
丁酮45 48 %
甲基异丁酮40 44 %。雷射印裱机用镭射信息层，其中，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成 甲基丙烯酸甲酯12 %
丁酮45 %
5甲基异丁酮43 %。 雷射印裱机用镭射信息层，其中，所述第涂层按重量百分比计，包含以下组成
丙烯酸树脂20 25%聚醚改性硅氧烷0. 023 0. 03聚矽氧烷有机硅0. 035 0. 04甲苯二异氰酸酯17 18%丁酮30 33%甲基异丁酮25 30%。雷射印裱机用镭射信息层，其中，所述第 丙烯酸树脂20 % 聚醚改性硅氧烷 聚矽氧烷有机硅 甲苯二异氰酸酯 丁酮
甲基异丁酮另一方面，本发明还提供了 步骤
步骤一，按以下重量百分比计的组分准备原料
第一涂层
.涂层按重量百分比计，包含以下组成
0. 03 % 0. 04 % 18 % 30 %
31. 93 %。
种雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，包括以下
甲基丙烯酸甲酯 丁酮
甲基异丁酮 第一涂层 丙烯酸树脂 聚醚改性硅氧烷 聚矽氧烷有机硅 甲苯二异氰酸酯 丁酮
甲基异丁酮
10
45 38
20 0. 02 0. 03
16 30 25
12 % 50 % 45 % ；
28 %
0. 03 % 0. 04 % 18 % 35 % 33 % ；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温 度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；
步骤三，将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁 酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待分散均勻时，再持续搅拌 10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。
所述步骤一具体为按以下重量百分比计的组分准备原料 第一涂层
甲基丙烯酸甲酯11 12 %
丁酮45 48 %
甲基异丁酮40 44 % ；
6第_■涂层
丙烯酸树脂20 25%聚醚改性硅氧烷0. 023 0. 03聚矽氧烷有机硅0. 035 0. 04甲苯二异氰酸酯17 18%丁酮30 33%甲基异丁酮25 30%。 所述步骤一具体为按以下重量百分比计的组分准备原料
第一涂层
甲基丙烯酸甲酯12 %丁酮45 %甲基异丁酮43 % ；第一涂层丙烯酸树脂20 %聚醚改性硅氧烷0. 03 %聚矽氧烷有机硅0. 04 %甲苯二异氰酸酯18 %丁酮30 %甲基异丁酮31. 93 本发明的有益效果本发明的雷射印裱机用镭射信息层，包括有第一涂层和第二 涂层，第一涂层涂覆于离型层，第二涂层涂覆于所述第一涂层，第一涂层按重量百分比计， 包含以下组成甲基丙烯酸甲酯10 12 %、丁酮45 50 %、甲基异丁酮38 45 % ；第二 涂层按重量百分比计，包含以下组成丙烯酸树脂20 28 %、聚醚改性硅氧烷0. 02 0. 03 %、聚矽氧烷有机硅0. 03 0. 04 %、甲苯二异氰酸酯16 18 %、丁酮30 35 %、甲基异 丁酮25 33 %。本发明的雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，将原料甲基丙烯酸甲酯、 丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌 5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；再将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有 机硅、甲苯二异氰酸酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待 分散均勻时，再持续搅拌10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。与现 有技术相比，本发明的镭射信息层采用双层涂层，第一涂层与第二涂层的组合，其中第一涂 层中采用甲基丙烯酸甲酯具有耐刮的特点，采用丁酮与甲基异丁酮的溶剂，可以与所选用 的甲基丙烯酸甲酯的相容性好，不会发生异常情况，而且按照甲基丙烯酸甲酯10 12 %， 丁酮45 50 %，甲基异丁酮38 45 %的组成及配比所形成的第一涂层的耐刮性能较佳。 其中第二涂层中的丙烯酸树脂和甲苯二异氰酸酯具有耐高温的特点，将二者组合其耐高温 的特性更好，同时采用聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁酮、甲基异丁 酮的溶剂，可以与所选用的丙烯酸树脂的相容性好，不会发生异常情况，而且按照聚醚改性 硅氧烷0. 02 0. 03 %、聚矽氧烷有机硅0. 03 0. 04 %、甲苯二异氰酸酯16 18 %、丁 酮30 35 %、甲基异丁酮25 33 %的组成及配比所形成的第二涂层的耐高温性能较佳。 该具有双层结构的镭射信息层比现有技术中的单层的镭射信息层相比，其耐刮和耐高温性
7能更好。本发明的镭射信息层耐温检测约140 150°C，经后续镭射信息层涂布测量离形 力2. 0 3. 0g，破膜力5 12g，用常规硬压方式压印，雷射效果清晰闪耀，然后镀铝，上背 胶后再烫印在铝箔底材上。该雷射印裱机用镭射信息层具有烫印后过打印机不失光的耐高 温效果，雷射强度好，且可大大减少镭射薄膜的不良品，节约成本。
具体实施例方式结合以下实施例对本发明作进一步描述。实施例1
一种雷射印裱机用镭射信息层，其中，包括有第一涂层和第二涂层，第一涂层涂覆于离 型层，第二涂层涂覆于所述第一涂层，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成 甲基丙烯酸甲酯12 %
丁酮45 %
甲基异丁酮43 % ；
第二涂层按重量百分比计，包含以下组成 丙烯酸树脂20 %
聚醚改性硅氧烷0. 03 %
聚矽氧烷有机硅0. 04 %
甲苯二异氰酸酯18 %
丁酮30 %
甲基异丁酮31.93%。该雷射印裱机用镭射信息层的耐温检测150°C，经后续镭射信息层涂布测量离形 力2.0 2. 5g，破膜力8 12g。实施例2
一种雷射印裱机用镭射信息层，其中，包括有第一涂层和第二涂层，第一涂层涂覆于离 型层，第二涂层涂覆于所述第一涂层，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成 甲基丙烯酸甲酯10 %
丁酮46 %
甲基异丁酮44 % ；
第二涂层按重量百分比计，包含以下组成 丙烯酸树脂21 %
聚醚改性硅氧烷0. 02 %
聚矽氧烷有机硅0. 03 %
甲苯二异氰酸酯16 %
丁酮31 %
甲基异丁酮31.95%。该雷射印裱机用镭射信息层的耐温检测145°C，经后续镭射信息层涂布测量离形 力2. 2 2. 5g，破膜力7 9g。实施例3
一种雷射印裱机用镭射信息层，其中，包括有第一涂层和第二涂层，第一涂层涂覆于离型层，第二涂层涂覆于所述第一涂层，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成 甲基丙烯酸甲酯11 %
丁酮50 %
甲基异丁酮39 % ；
第二涂层按重量百分比计，包含以下组成 丙烯酸树脂25 %
聚醚改性硅氧烷0. 023 %
聚矽氧烷有机硅0. 035 %
甲苯二异氰酸酯17 %
丁酮32 %
甲基异丁酮25. 942 %。该雷射印裱机用镭射信息层的耐温检测146°C，经后续镭射信息层涂布测量离形 力2.5 3g，破膜力10 Ilgo实施例4
一种雷射印裱机用镭射信息层，其中，包括有第一涂层和第二涂层，第一涂层涂覆于离 型层，第二涂层涂覆于所述第一涂层，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成 甲基丙烯酸甲酯10.5%
丁酮48 %
甲基异丁酮41. 5 % ；
第二涂层按重量百分比计，包含以下组成 丙烯酸树脂28 %
聚醚改性硅氧烷0. 028 %
聚矽氧烷有机硅0. 034 %
甲苯二异氰酸酯16. 8 %
丁酮30 %
甲基异丁酮25. 138 %。该雷射印裱机用镭射信息层的耐温检测143°C，经后续镭射信息层涂布测量离形 力2. 3 2. 9g，破膜力5 7g。实施例5
一种雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施1中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温 度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；
步骤三，将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁 酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待分散均勻时，再持续搅拌 10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。实施例6
一种雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施2中的重量百分比计的组分准备原料；
9步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温 度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；
步骤三，将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁 酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待分散均勻时，再持续搅拌 10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。实施例7
一种雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施3中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温 度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；
步骤三，将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁 酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待分散均勻时，再持续搅拌 10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。实施例8
一种雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其中，包括以下步骤 步骤一，按照实施4中的重量百分比计的组分准备原料；
步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温 度在恒温25 30°范围内，勻速搅拌5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；
步骤三，将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁 酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待分散均勻时，再持续搅拌 10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对本发明保 护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明，本领域的普通技术人员应 当理解，可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本发明技术方案的实 质和范围。
10
权利要求
一种雷射印裱机用镭射信息层，其特征在于，包括有第一涂层和第二涂层，所述第一涂层涂覆于离型层，所述第二涂层涂覆于所述第一涂层，所述第一涂层按重量百分比计，包含以下组成甲基丙烯酸甲酯 10～12﹪丁酮45～50﹪甲基异丁酮 38～45﹪；所述第二涂层按重量百分比计，包含以下组成丙烯酸树脂 20～28﹪聚醚改性硅氧烷 0.02～0.03﹪聚矽氧烷有机硅 0.03～0.04﹪甲苯二异氰酸酯 16～18﹪丁酮30～35﹪甲基异丁酮 25～33﹪。
2.根据权利要求1所述的雷射印裱机用镭射信息层，其特征在于，所述第一涂层按重 量百分比计，包含以下组成甲基丙烯酸甲酯11 12 %丁酮45 48 %甲基异丁酮40 44 %。
3.根据权利要求2所述的雷射印裱机用镭射信息层，其特征在于，所述第一涂层按重 量百分比计，包含以下组成甲基丙烯酸甲酯12 %丁酮45 %甲基异丁酮43 %。
4.根据权利要求1所述的雷射印裱机用镭射信息层，其特征在于，所述第二涂层按重 量百分比计，包含以下组成丙烯酸树脂20 25%聚醚改性硅氧烷0. 023 0. 03聚矽氧烷有机硅0. 035 0. 04甲苯二异氰酸酯17 18%丁酮30 33%甲基异丁酮25 30%。
5.根据权利要求4所述的雷射印裱机用镭射信息层，其特征在于，所述第二涂层按重 量百分比计，包含以下组成丙烯酸树脂20 %聚醚改性硅氧烷0. 03 ‘聚矽氧烷有机硅0. 04 ‘甲苯二异氰酸酯18 %丁酮30 %甲基异丁酮31. 93
6.一种雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤 步骤一，按以下重量百分比计的组分准备原料第一涂层甲基丙烯酸甲酯10 12%丁酮45 50 %甲基异丁酮38 45 % ；第_■涂层丙烯酸树脂20 28 %聚醚改性硅氧烷0. 02 0. 03 %聚矽氧烷有机硅0. 03 0. 04 %甲苯二异氰酸酯16 18 %丁酮30 35 %甲基异丁酮25 33 % ；步骤二，将原料甲基丙烯酸甲酯、丁酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，保持搅拌筒的温 度在恒温25 30°C范围内，勻速搅拌5 IOmin后，上机涂布形成第一涂层；步骤三，将原料丙烯酸树脂、聚醚改性硅氧烷、聚矽氧烷有机硅、甲苯二异氰酸酯、丁 酮和甲基异丁酮依序加入搅拌筒，加入时一边搅拌一边加入，待分散均勻时，再持续搅拌 10 15min，然后上机涂布在所述第一涂布上形成第二涂层。
7.根据权利要求6所述的雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其特征在于，所述步 骤一具体为按以下重量百分比计的组分准备原料第一涂层甲基丙烯酸甲酯11 12%丁酮45 48%甲基异丁酮40 44% ；第一涂层丙烯酸树脂20 25%聚醚改性硅氧烷0. 023 0. 03聚矽氧烷有机硅0. 035 0. 04甲苯二异氰酸酯17 18%丁酮30 33%甲基异丁酮25 30%。
8.根据权利要求7所述的雷射印裱机用镭射信息层的制备方法，其特征在于，所述步 骤一具体为按以下重量百分比计的组分准备原料第一涂层甲基丙烯酸甲酯12 %丁酮45 %甲基异丁酮43 % ；第_■涂层丙烯酸树脂20 %聚醚改性硅氧烷0. 03 %聚矽氧烷有机硅0. 04 %甲苯二异氰酸酯18 %丁酮30 %甲基异丁酮31.93%全文摘要
一种镭射印裱机用镭射信息层，包括有第一涂层和第二涂层，第一涂层涂覆于离型层，第二涂层涂覆于第一涂层，第一涂层按重量百分比计，包含甲基丙烯酸甲酯10～12％、丁酮45～50％、甲基异丁酮38～45％；第二涂层按重量百分比计，包含丙烯酸树脂20～28％、聚醚改性硅氧烷0.02～0.03％、聚矽氧烷有机硅0.03～0.04％、甲苯二异氰酸酯16～18％、丁酮30～35％、甲基异丁酮25～33％。一种镭射印裱机用镭射信息层的制备方法，按照上述重量百分比计的组分准备原料；先涂布第一涂层，然后在第一涂布上涂布从而形成第二涂层。该镭射印裱机用镭射信息层具有烫印后过印裱机不失光的耐高温效果，镭射强度好，可大大减少镭射薄膜的不良品，节约成本。
文档编号B32B27/28GK101967314SQ201010514
公开日2011年2月9日 申请日期2010年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者三德·沙达西文, 吴俊德, 岑尚林 申请人:东莞光群雷射科技有限公司