专利名称：具有多层膜结构的基板的利记博彩app
技术领域：
本发明涉及镀膜技术领域，特别涉及一种具有多层膜结构的基板。
背景技术：
镀膜作为一种薄膜制程技术，其主要包括离子镀膜法、磁控溅射镀膜法、真空蒸发 法、化学气相沉积法等。Ichiki，M.等人在2003年5月发表于2003Symposium on Design, Test, Integration arid Packaging of MEMS/MOEMS的论文Thin film formation-a fabricationon non_planar surface by spray coating method中介绍了通过喷涂在非平 面形成薄膜的方法。以反应式磁控溅射镀膜方式，在金属或玻璃基底上镀制具备高金属质 感与色彩艳丽饱满的多层膜结构已日益广泛地应用在通讯以及消费类电子产品上。
目前，为提高所镀膜层的硬度与耐磨性，通常采用增加所镀制膜的层数以及膜层 厚度。然而，当镀膜层为表现为金属性的合金，而被镀基底为玻璃基底时，该被镀基底该与 镀膜层之间会存在晶格结构以及膨胀系数等物理性能上的差异，使该镀膜层与被镀基底的 结合能力降低，导致该镀膜层不耐磨耗而容易脱落等缺点。
发明内容
因此，有必要提供一种具有多层膜结构的玻璃板，以解决上述问题，提高具有多层 膜结构的基板的稳定性。 以下将以实施例说明一种具有多层膜结构的基板。 —种具有多层膜结构的基板，其包括基材层、镀膜层及设置于基材层与镀膜层之
间的过渡膜。该过渡膜含铬与氮，其含铬量由基材层表面向镀膜层表面减小。 与现有技术相比，基材层通过过渡膜与镀膜层相结合，提高基材层及外层膜与过
渡膜的结合力，从而提高具有多层膜结构的基板的结构稳定性。
图1是本技术方案第一实施例提供的基板的结构示意图。
图2是本技术方案第二实施例提供的基板的结构示意图。
图3是本技术方案第三实施例提供的基板的结构示意图。
具体实施例方式
下面将结合附图及多个实施例，对本技术方案提供的具有多层膜结构的基作进一
步的详细说明。 请参阅图l，本技术方案第一实施例提供的具有多层膜结构的基板IO，其包括基 材层ll，镀膜层12与设置于基材层11与镀膜层13之间的过渡膜13。 该基材层ll采用金属材料制作，例如金属单质(如铝、钛)或合金(如不锈 钢、铝钛合金)。该基材层ll包括位于最外侧的外表面lll，用于设置镀层。于基材层11上，可根据需要镀制不同材料组成的膜层。该镀膜 层12包括位于最外侧与基材层ll相对的外层膜121，其可以为由一种材料组成形成的单 层膜(即该单层膜为外层膜)，也可以为由多层单层膜叠加形成的多层膜。该外层膜121 采用非金属材料形成，例如类钻碳、玻璃或陶瓷。该陶瓷为含氮、碳或氧的金属化合物，例 如氮化钛、碳化铬、氮化铝钛。 该过渡膜13的相对两侧分别与基材层11及镀膜层12。本实施例中，过渡膜13 的相对两侧分别与外表面111及外层膜121接触。该过渡膜13包含铬与氮，其化学式为 CrNx， x小于等于1且大于等于0。该过渡膜13含铬量由基材层表面向镀膜层表面减小。 由于过渡膜13中铬含量较高时(如铬，Cr)，表现为金属性，而氮含量较高时(如氮化铬， CrN)，表现为非金属性。因此，过渡膜13与基材层11及外层膜121在接触界面处的材料的 物理性能(如晶格结构、膨胀系数等)相近，提高基材层11及外层膜121与过渡膜13的 结合力，从而提高具有多层膜结构的基板10的结构稳定性。当然，过渡膜13可包括具有较 高硬度的CrN，以提高整个镀层的硬度。 该过渡膜13可采用真空镀膜的方法制备。本实施例中，以铬作为起始材料，在真 空镀腔内通入氩气与氮气的混合气体，经电磁场作用使其离子化，并与铬结合形成包含氮 与铬的过渡层13。在镀膜过程中，可通过调整通入真空腔内氩气与氮气的比例，以及溅镀速 度等参数，从而获得具有所需性能的过渡层13。 例如，当通入氮气含量较高的氩气与氮气的混合气体(如氩气以每分钟25立方 厘米的速度通入，氮气以每分钟99立方厘米的速度通入)，即可形成过渡膜13中含氮量较 高的区域，即CrN。相反地，当降低氮气含量或停止通入氮气(如氩气以每分钟25立方厘 米的速度通入，氮气停止通入)即可形成过渡膜13中含铬量较高的区域，即Cr。另外，可 根据过渡膜13所需硬度的要求调整氮气的含量(在每分钟0至99立方厘米的速度之间调 整)。 请参阅图2，本技术方案第二实施例提供的具有多层膜结构的基板20，其结构与 第一实施例提供的具有多层膜结构的基板10的结构大致相同，其区别在于，基材层21。该 基材层21采用非金属材料制作。该非金属材料可以为玻璃或陶瓷。该陶瓷为含氮、碳或氧 的金属化合物。 为保证膜层的结合力，基板20在基材层21与过渡膜23之间设置第一匹配层24。 该第一匹配层24的相对两侧与外表面211及过渡层23接触。该第一匹配层24含氮与铬， 且含氮量高于过渡膜23的含氮量，如氮化铬。该过渡膜23背离基材层21的一侧与外层 膜221接触。 请参阅图3，本技术方案第三实施例提供的具有多层膜结构的基板30，其结构与 第一实施例提供的具有多层膜结构的基板10的结构大致相同，其区别在于，镀膜层32。该 镀膜层32的外层膜321为金属膜。 为保证膜层的结合力，基板30在外层膜321与过渡膜33之间设置第二匹配层35。 该第二匹配层35的相对两侧与外层膜321及过渡膜33接触。该第二匹配层35含氮与铬， 且含铬量高于过渡膜33的含铬量，如铬。 另外，如果基材层为非金属材料制作，而外层膜为金属膜，该基板可同时在基材层 与过渡层以及过渡层与外层膜之间分别设置第一匹配层与第二匹配层，以获得较好的膜层
4结合力。 可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做 出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范 围。
权利要求
一种具有多层膜结构的基板，其包括基材层、镀膜层及设置于基材层与镀膜层之间的过渡膜，其特征在于，所述过渡膜含铬与氮，其含铬量由基材层表面向镀膜层表面减小。
2. 如权利要求1所述的基板，其特征在于，所述基材层为金属层，所述过渡膜与基材层 接触。
3. 如权利要求1所述的基板，其特征在于，进一步包括第一匹配层，所述第一匹配层的 相对两侧分别与基材层及过渡膜接触，所述基材层为玻璃或陶瓷层，所述第一匹配层的含 氮量高于过渡膜的含氮量。
4. 如权利要求3所述的基板，其特征在于，所述第一匹配层为氮化铬层。
5. 如权利要求2、3或4所述的基板，其特征在于，所述镀膜层包括位于最外侧并面对基 材层的外层膜，所述外层膜选自类钻碳膜、陶瓷膜与玻璃膜，所述过渡膜与外层膜接触。
6. 如权利要求2、3或4所述的基板，其特征在于，其包括第二匹配层，所述第二匹配层 的相对两侧分别与过渡膜及镀膜层接触，所述外层膜选自铝膜、钛膜和铝钛合金膜，所述第 二匹配层含铬量高于过渡膜的含铬量。
7. 如权利要求1所述的基板，其特征在于，所述过渡膜包括氮化铬。
全文摘要
本发明提供一种具有多层膜结构的基板，其包括基材层、镀膜层及设置于基材层与镀膜层之间的过渡膜。该过渡膜含铬与氮，其含铬量由基材层表面向镀膜层表面减小。该具有多层膜结构的基板避免镀膜层脱落，提高结构稳定性。
文档编号B32B5/14GK101746083SQ200810306318
公开日2010年6月23日 申请日期2008年12月17日 优先权日2008年12月17日
发明者凌维成, 吴佳颖, 王仲培, 陈杰良, 魏朝沧, 黄建豪 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司