专利名称：真空吸附台面及具有该真空吸附台面的真空吸附台的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及真空吸附技术领域，尤其涉及一种真空吸附台面及具有该真空吸附台面的真空吸附台。
背景技术：
真空吸附台是一种常用的工件支撑设备，其用于在线路板制造、液晶显示面板制造、半导体工艺、光学薄膜制造等领域中支撑并定位工件，以便对工件进行各种处理。如图1 所示，现有的真空吸附台通常包括真空源，真空源包括通过真空泵接口 93连接真空泵的真空腔室9，真空腔室9上方开口并覆盖有支撑网91，带有多个支撑板吸附孔“的支撑板1位于支撑网91上并通过定位销钉92等定位结构被定位，待加工的工件被放在支撑板1上，当真空泵开始抽真空时，工件会被支撑板吸附孔11吸住而定位。发明人发现现有技术中至少存在如下问题由于吸附时支撑板1两侧分别为真空和大气压，存在较大的压差，故支撑板1必须采用有较高硬度和强度的材料制造以保证其不会弯曲变形；但有些工件的表面硬度较低(例如，线路板表面阻焊层的硬度在曝光前后分别仅约为2H和4H)，或者有些工件的表面具有易损伤的光学薄膜等，且工件与支撑板1间的作用力又较大(因为存在真空吸附力)，因此当真空吸附台用于支撑这类工件时，较硬的支撑板1 (尤其是支撑板吸附孔11)很容易在工件表面造成吸痕等表面不良。
发明内容本实用新型的实施例提供一种真空吸附台面，其可以在保证支撑稳定的情况下避免工件表面的损伤。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案一种真空吸附台面，包括用于设在真空源上的支撑板，所述支撑板上具有支撑板吸附孔；设在所述支撑板上的承载板，所述承载板上与所述支撑板吸附孔相对应的位置处具有承载板吸附孔，且所述承载板中，至少用于承载工件的部分的硬度低于所述支撑板的硬度。由于本实用新型的实施例的真空吸附台面中，工件与硬度较低的承载板相接触， 而承载板又被硬度较高的支撑板支撑，因此其可在保证支撑稳定的情况下避免工件表面的损伤。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板吸附孔的横截面尺寸小于或大于其所对应的所述支撑板吸附孔的横截面尺寸。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板吸附孔和支撑板吸附孔均为圆孔，且所述承载板吸附孔的直径比其所对应的所述支撑板吸附孔的直径小1毫米以上。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板吸附孔和支撑板吸附孔均为圆孔，且所述承载板吸附孔的直径在0. 5毫米至1毫米之间，所述支撑板吸附孔的直径在 1.5毫米至3毫米之间。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板用于承载所述工件的面上在所述承载板吸附孔的边缘具有倒角。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板由塑料或橡胶构成。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板由聚氯乙稀、聚丙烯、聚氨基甲酸酯、丁苯橡胶中的任意一种构成。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板的厚度在0. 1毫米至0. 5 毫米之间。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，所述承载板的厚度为0. 2毫米。本实用新型的实施例还提供一种真空吸附台，其可避免工件表面的损伤。为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案一种真空吸附台，包括用于提供真空环境的真空源，以及设在所述真空源上的上述的真空吸附台面。由于本实用新型的实施例的真空吸附台具有上述的真空吸附台面，因此其可在保证支撑稳定的情况下避免工件表面的损伤。作为本实用新型的实施例的一种优选方案，真空吸附台还包括用于将所述支撑板和承载板相对定位的定位结构。
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为现有的真空吸附台分解时的结构示意图；图2为本实用新型实施例一的真空吸附台面分解时的结构示意图；图3为本实用新型实施例一的真空吸附台面承载工件时的剖视结构示意图；图4为本实用新型实施例的另一种承载板的剖视结构示意图；图5为本实用新型实施例二的真空吸附台分解时的结构示意图。
具体实施方式
本实用新型提供一种真空吸附台面，包括用于设在真空源上的支撑板，所述支撑板上具有支撑板吸附孔；其特征在于，所述真空吸附台面还包括设在所述支撑板上的承载板，所述承载板上与所述支撑板吸附孔相对应的位置处具有承载板吸附孔，且所述承载板中，至少用于承载工件的部分的硬度低于所述支撑板的硬度。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板吸附孔的横截面尺寸小于或大于其所对应的所述支撑板吸附孔的横截面尺寸。[0034]优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板吸附孔和支撑板吸附孔均为圆孔，且所述承载板吸附孔的直径比其所对应的所述支撑板吸附孔的直径小1毫米以上。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板吸附孔和支撑板吸附孔均为圆孔，且所述承载板吸附孔的直径在0. 5毫米至1毫米之间，所述支撑板吸附孔的直径在1. 5 毫米至3毫米之间。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板用于承载所述工件的面上在所述承载板吸附孔的边缘具有倒角。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板由塑料或橡胶构成。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板由聚氯乙稀、聚丙烯、聚氨基甲酸酯、丁苯橡胶中的任意一种构成。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板的厚度在0. 1毫米至0. 5毫米之间。优选地，在本实用新型的各实施例中，所述承载板的厚度为0. 2毫米。本实用新型提供一种真空吸附台，包括用于提供真空环境的真空源，其特征在于， 所述真空吸附台还包括设在所述真空源上的、如前述的真空吸附台面。优选地，在本实用新型的各实施例中，还包括用于将所述支撑板和承载板相对定位的定位结构。下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。本实用新型实施例提供一种真空吸附台面，包括用于设在真空源上的支撑板，所述支撑板上具有支撑板吸附孔；设在所述支撑板上的承载板，所述承载板上与所述支撑板吸附孔相对应的位置处具有承载板吸附孔，且所述承载板中，至少用于承载工件的部分的硬度低于所述支撑板的硬度。由于本实用新型的实施例的真空吸附台面中，工件与硬度较低的承载板相接触， 而承载板又被硬度较高的支撑板支撑，因此其可在保证支撑稳定的情况下避免工件表面的损伤；且由此其还可提高工件成品率，减少后续所需的表面检测、表面修补等步骤，并使真空吸附台面能用于支撑一些因表面过软而原先并不适用的工件，从而扩大了其应用范围。实施例一本实用新型实施例提供一种真空吸附台面，如图2至图4所示，其包括支撑板1和承载板2。支撑板1用于设在真空源(该真空源可为上方设有支撑网的真空腔室等形式) 上，支撑板1上具有多个支撑板吸附孔11。该支撑板1可具有与现有的常规支撑板1类似的结构。从材料上看，支撑板1优选由合金、工程塑料等具有较高硬度和强度的材料构成， 例如由不锈钢、铝合金、特氟龙(聚四氟乙烯)等构成。当由合金材料构成时，支撑板1厚度优选在0. 5 1mm，当由工程塑料构成时，支撑板1厚度优选在1 2mm。支撑板吸附孔11优选为孔径在1. 5 3mm的圆孔。支撑板吸附孔11在支撑板1上的分布也可采取不同的现有方式，例如，可如图2所示均勻分布；或也可在对应工件(例如在曝光工艺中的线路板)8边缘的位置分布密度较大(如孔中心距在4 8mm)，而在对应工件8中部的位置分布密度较小(如孔中心距在10 15mm)，以达到更好的吸附效果。承载板2则位于支撑板1上，从而在吸附时其可直接与工件8接触。承载板2上与支撑板吸附孔11相对应的位置具有承载板吸附孔21，也就是说当承载板2正确定位在支撑板1上时，支撑板吸附孔11上方有承载板吸附孔21，承载板吸附孔21下方也有支撑板吸附孔11，两种孔11、21形成贯通的结构。该承载板2用于支撑工件8的部分的硬度应当小于支撑板1的硬度(当然，也可承载板2整体的硬度均低于支撑板1的硬度)，以保证承载板2(尤其是承载板吸附孔21)不会对与其接触的工件8表面造成吸痕等损伤。优选地，该承载板2可由塑料或橡胶材料构成，例如由聚氯乙稀(PVC)、聚氨基甲酸酯(PU)、聚丙烯、丁苯橡胶中的任意一种构成；当然承载板2也可由其它的硬度低于支撑板1硬度的材料构成。在进行吸附时，硬度较高的支撑板1可以抵抗其两侧的压差而基本不弯曲变形， 从而保证支撑面平整，为工件8提供稳定且均勻的支撑；而硬度较低的承载板2可与支撑板 1紧密接触，从而保证与工件8相接触的表面较软，以防止工件8表面产生吸痕等。优选地，承载板吸附孔21的横截面尺寸小于其所对应的支撑板吸附孔11的横截面尺寸；也就是说承载板吸附孔21优选比支撑板吸附孔11更小，且从垂直于承载板2和支撑板1的方向上看，承载板吸附孔21优选位于支撑板吸附孔11内。这样，如图3所示，当进行吸附时，由于吸力的作用，承载板2可在承载板吸附孔21的周边产生轻微凹陷，从而使承载板吸附孔21周边与工件8形成平滑过渡的接触，以更好地避免工件8在与承载板吸附孔21相对应的位置产生损伤。更优选地，当承载板吸附孔21和支撑板吸附孔11均为圆孔时，承载板吸附孔21的直径应比支撑板吸附孔11的直径小Imm以上(也就是孔的每一侧小0. 5mm以上)；再优选地，当支撑板吸附孔11的直径在1. 5 3mm之间时，承载板吸附孔 21的直径可在0. 5 Imm之间。优选地，如图4所示，承载板2用于承载工件8的面上在承载板吸附孔21的边缘处具有倒角211，该倒角211同样可以起到防止承载板吸附孔21损伤工件8的作用。优选地，承载板2的厚度在0. 1 0. 5mm之间，更优选为0. 2mm。这个范围的厚度可以保证承载板2本身具有足够的强度，能为工件8提供足够的保护，同时还可保证吸附时承载板吸附孔21周边能产生足够程度的凹陷。优选地，在支撑板1和承载板2上均可具有定位销钉孔12、22等用于将支撑板1 和承载板2相对定位的定位结构。实施例二本实用新型实施例提供一种真空吸附台，如图5所示，其包括用于提供真空环境的真空源，以及设在所述真空源上的上述的真空吸附台面。其中，真空源可包括真空腔室9，真空腔室9具有与真空泵相连的真空泵接口 93， 而真空腔室9上方开口并设有支撑网91，真空吸附台面的支撑板1即可被设在该支撑网91 上。当然，该真空源也可为其它形式的公知的真空源，例如，支撑网91可被支撑条等代替； 或真空源可为与真空泵直接相连的、具有较大开口的真空吸头等。优选地，真空吸附台还可包括用于将支撑板1和承载板2相对定位的定位结构。定位结构用于将支撑板1和承载板2相对定位，从而保证吸附时支撑板吸附孔11和承载板吸附孔21可以准确的处于对应位置。该定位结构可包括设在真空腔室9上的至少两根定位销钉92，定位销钉92可穿过支撑板1和承载板2上的销钉定位孔12、22，从而将支撑板1 和承载板2相对定位(此时实际为将真空腔室9、支撑板1、承载板2相对定位了)。当然， 定位结构也可为其它许多公知的形式，例如，定位结构也可包括设在真空腔室周边的一圈凸边，从而将支撑板1和承载板2 —起限定在该凸边内；再如，定位结构也可包括位于支撑板1边缘的凸起以及位于承载板2边缘的凹口，当凸起卡入凹口时即可将支撑板1和承载板2相对定位。由于本实用新型的实施例的真空吸附台具有上述的真空吸附台面，因此其可在保证支撑稳定的情况下避免工件表面的损伤，并提高工件成品率，减少后续所需的表面检测、 表面修补等步骤，具有较大的应用范围。显然，本实用新型实施例的真空吸附台面和真空吸附台还可进行许多变化。例如， 承载板、支撑板的具体形状、尺寸、材料等可不同；承载板吸附孔、支撑板吸附孔的具体形状、尺寸、分布位置可不同；定位结构的具体形式可不同；真空源的具体形式可不同等。显然，本实用新型实施例的真空吸附台面和真空吸附台并不限于用在线路板的阻焊层曝光处理中；它们也可用于许多其它领域中，例如在薄膜沉积、刻蚀、显影、摩擦等工艺中支撑液晶显示基板、半导体基板、硅片、光学元件等许多其它工件。以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式
，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
权利要求1.一种真空吸附台面，包括用于设在真空源上的支撑板，所述支撑板上具有支撑板吸附孔；其特征在于，所述真空吸附台面还包括设在所述支撑板上的承载板，所述承载板上与所述支撑板吸附孔相对应的位置处具有承载板吸附孔，且所述承载板中，至少用于承载工件的部分的硬度低于所述支撑板的硬度。
2.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板吸附孔的横截面尺寸小于或大于其所对应的所述支撑板吸附孔的横截面尺寸。
3.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板吸附孔和支撑板吸附孔均为圆孔，且所述承载板吸附孔的直径比其所对应的所述支撑板吸附孔的直径小1毫米以上。
4.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板吸附孔和支撑板吸附孔均为圆孔，且所述承载板吸附孔的直径在0. 5毫米至1毫米之间，所述支撑板吸附孔的直径在1.5毫米至3毫米之间。
5.根据权利要求1所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板用于承载所述工件的面上在所述承载板吸附孔的边缘具有倒角。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板由塑料或橡胶构成。
7.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板由聚氯乙稀、聚丙烯、聚氨基甲酸酯、丁苯橡胶中的任意一种构成。
8.根据权利要求1至5任意一项所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板的厚度在0. 1毫米至0.5毫米之间。
9.根据权利要求1至5中任意一项所述的真空吸附台面，其特征在于，所述承载板的厚度为0.2毫米。
10.一种真空吸附台，包括用于提供真空环境的真空源，其特征在于，所述真空吸附台还包括设在所述真空源上的、如上述权利要求1至9中任意一项所述的真空吸附台面。
11.根据权利要求10所述的真空吸附台，其特征在于，还包括用于将所述支撑板和承载板相对定位的定位结构。
专利摘要本实用新型提供一种真空吸附台面及具有该真空吸附台面的真空吸附台，属于真空吸附技术领域，其可解决现有的真空吸附台面易造成工件表面损伤的问题。本实用新型的真空吸附台面包括用于设在真空源上的支撑板，所述支撑板上具有支撑板吸附孔；设在所述支撑板上的承载板，所述承载板上与所述支撑板吸附孔相对应的位置处具有承载板吸附孔，且所述承载板中，至少用于承载工件的部分的硬度低于所述支撑板的硬度。本实用新型的真空吸附台包括用于提供真空环境的真空源，以及设在所述真空源上的上述真空吸附台面。本实用新型可用于在曝光工艺中支撑线路板等。
文档编号B25H1/08GK201931454SQ20102066859
公开日2011年8月17日 申请日期2010年12月9日 优先权日2010年12月9日
发明者朱兴华, 苏新虹 申请人:北大方正集团有限公司