一种x型抗浮抗拔桩的利记博彩app

文档序号:10507101阅读:196来源:国知局
一种x型抗浮抗拔桩的利记博彩app
【专利摘要】本发明属于地下工程建设领域,尤其涉及一种X型抗浮抗拔桩,其特征在于,包括桩体,所述桩体呈圆柱状,所述桩体向桩体外侧延伸形成以桩体为旋转轴并且无底面的第一圆椎体、第二圆椎体,所述第一圆椎体位于第二锥体的上方并且其二者的顶角相接,所述第一圆椎体、第二圆椎体沿桩体中轴线所在平面为剖示面剖开后呈X形。本发明扩大了桩的承载面积,相比较传统的同截面桩,承载面积可以增加50%以上,可以承载更重荷载,从而降低了总体造价;扩大了桩的抗上浮作用面积,有效低抑制了桩的上浮;增加了承载面积,有效地减少桩的长度和截面积。
【专利说明】
一种X型抗浮抗拔桩
技术领域
[0001 ]本发明属于地下工程建设领域,尤其涉及一种X型抗浮抗拔粧。
【背景技术】
[0002]在我国高地下水位地区,特别是在高地下水位的饱和软土层或淤土层较厚地层中构筑地下工程都因难以大面积进行深处理而必须采用打粧办法进行加固处理,但都得解决粧结构上浮和承载力问题。
[0003]粧基础技术多种多样,早期多采用水泥土搅拌粧、砂石粧、木粧,目前很少使用,一是水泥土搅拌粧水灰比、输浆量和搅拌次数等控制管理自动化系统未健全,设备陈旧,技术落后,存在搅拌均匀性差及成粧质量不稳定问题;二是砂石粧用以加固较深淤泥软土地基,由于存在工期长,工后变形大等问题,已不再用作对变形有要求的建筑地基处理;三是民用建筑已禁用木粧基础。
[0004]淤土层较厚地基处理还可以采用灌注粧,打灌注粧至硬土层,作承载台,灌注粧有沉管灌注粧和冲钻孔灌注粧,但两种方法灌注粧还存在一些技术难题,一是沉管灌注粧在深厚软土中存在粧身完整性问题;二是冲钻孔灌注粧存在泥浆污染问题,粧身混凝土灌注质量,粧底沉渣清理和持力层判断不易监控等问题,容易发生灌注粧基础民用建筑不均匀沉陷,导致墙体裂缝事件,是由于施工中存在上述技术问题造成。
[0005]因此,有必要研制出一种新型粧体结构,解决上述问题。

【发明内容】

[0006]为了解决上述技术问题,本发明提供了一种扩大了粧的承载面积和粧的抗上浮作用面积的X型抗浮抗拔粧。
[0007]本发明所采用的技术方案为:
一种X型抗浮抗拔粧,其特征在于,包括粧体,所述粧体呈圆柱状,所述粧体向粧体外侧延伸形成以粧体为旋转轴并且无底面的第一圆椎体、第二圆椎体,所述第一圆椎体位于第二锥体的上方并且其二者的顶角相接,所述第一圆椎体、第二圆椎体沿粧体中轴线所在平面为剖示面剖开后呈X形。
[0008]所述第一圆椎体、第二圆椎体大小相同。
[0009]所述第一圆椎体、第二圆椎体位于所述粧体的上部。
[0010]所述第一圆椎体、第二圆椎体位于所述粧体的中部。
[0011]所述第一圆椎体、第二圆椎体位于所述粧体的下部。
[0012]本发明的有益效果为:
1、本发明扩大了粧的承载面积,相比较传统的同截面粧,承载面积可以增加50%以上,可以承载更重荷载,从而降低了总体造价;
2、本发明扩大了粧的抗上浮作用面积,有效低抑制了粧的上浮;
3、本发明增加了承载面积,有效地减少粧的长度和截面积。
【附图说明】
[0013]图1为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的下部时的主视结构示意图;
图2为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的下部时的剖视结构示意图;
图3为本发明的俯视结构示意图;
图4-图7为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的下部时的施工示意图;
图8为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的中部时的主视结构示意图;
图9为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的中部时的剖视结构示意图;
图10-图13为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的中部时的施工示意图。
[0014]图14为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的上部时的主视结构示意图;
图15为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的上部时的剖视结构示意图;
图16-图19为本发明中第一圆椎体、第二圆椎体位于粧体的上部时的施工示意图。
【具体实施方式】
[0015]下面结合附图对本发明作进一步说明:
图中,1-粧体,2-第一圆椎体,3-第二圆椎体,4-圆柱形孔,5-锥形孔,6-锥形孔,7-地面。
[0016]实施例1
如图1-3所示,一种X型抗浮抗拔粧,包括粧体I,粧体I呈圆柱状,粧体I向粧体I外侧延伸形成以粧体I为旋转轴并且无底面的第一圆椎体2、第二圆椎体3,第一圆椎体2位于第二锥体3的上方并且其二者的顶角相接,第一圆椎体2、第二圆椎体3沿粧体I中轴线所在平面为剖示面剖开后呈X形。
[0017]第一圆椎体2、第二圆椎体3大小相同。
[0018]第一圆椎体2、第二圆椎体3位于粧体I的下部。
[0019]如图4-7所示,具体施工工艺如下:(I)施工顺序按照旋喷粧工艺的造圆柱形孔4;
(2)在粧基靠近底部,钻机伸出斜旋挖钻,造锥形孔5; (3)钻机往上提一定距离,伸出反向旋挖钻臂,再次进行造锥形孔6; (4)形成一个底部剖面为“X”的粧孔;(5)下钢筋笼浇筑混凝土成粧体I。
[0020]实施例2
如图3、8、9所示,一种X型抗浮抗拔粧,包括粧体1,粧体I呈圆柱状,粧体I向粧体I外侧延伸形成以粧体I为旋转轴并且无底面的第一圆椎体2、第二圆椎体3,第一圆椎体2位于第二锥体3的上方并且其二者的顶角相接,第一圆椎体2、第二圆椎体3沿粧体I中轴线所在平面为剖示面剖开后呈X形。
[0021]第一圆椎体2、第二圆椎体3大小相同。
[0022]第一圆椎体2、第二圆椎体3位于粧体I的中部。
[0023]如图10-13所示,具体施工工艺如下:(I)施工顺序按照旋喷粧工艺的造圆柱形孔4; (2)在粧基中部,钻机伸出斜旋挖钻,造锥形孔5 ; (3 )钻机往上提一定距离,伸出反向旋挖钻臂,再次进行造锥形孔6; (4)形成一个底部剖面为“X”的粧孔;(5)下钢筋笼浇筑混凝土成粧体I。
[0024]实施例3
如图3、14、15所示,一种X型抗浮抗拔粧,包括粧体I,粧体I呈圆柱状,粧体I向粧体I夕卜侧延伸形成以粧体I为旋转轴并且无底面的第一圆椎体2、第二圆椎体3,第一圆椎体2位于第二锥体3的上方并且其二者的顶角相接,第一圆椎体2、第二圆椎体3沿粧体I中轴线所在平面为剖示面剖开后呈X形。
[0025]第一圆椎体2、第二圆椎体3大小相同。
[0026]第一圆椎体2、第二圆椎体3位于粧体I的上部。
[0027]如图16-19所示,具体施工工艺如下:(I)施工顺序按照旋喷粧工艺的造圆柱形孔4; (2)在粧基靠近顶部,钻机伸出斜旋挖钻,造锥形孔5; (3)钻机往上提一定距离,伸出反向旋挖钻臂,再次进行造锥形孔6; (4)形成一个顶部剖面为“X”的粧孔;(5)下钢筋笼浇筑混凝土成粧体I。
[0028]X型抗浮抗拔粧不同于一般的基础粧,有其自身的独特性能,同时具备抗浮粧所有特征;粧底端增大了承载面积,且经济,粧体I能承受更大建筑荷载压力,受力自粧顶向粧底传递;同样,粧体I抵抗建筑物向上位移的粧截面积增大了,能承受更大的抗浮力,做到了经济实惠;但两者受力机制恰好相反。
[0029]以上对本发明的3个实施例进行了详细说明,但所述内容仅为本发明的较佳实施例,不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明申请范围所作的均等变化与改进等,均应仍归属于本发明的专利涵盖范围之内。
【主权项】
1.一种X型抗浮抗拔粧,其特征在于,包括粧体,所述粧体呈圆柱状,所述粧体向粧体外侧延伸形成以粧体为旋转轴并且无底面的第一圆椎体、第二圆椎体,所述第一圆椎体位于第二锥体的上方并且其二者的顶角相接,所述第一圆椎体、第二圆椎体沿粧体中轴线所在平面为剖示面剖开后呈X形。2.根据权利要求1所述的一种X型抗浮抗拔粧,其特征在于,所述第一圆椎体、第二圆椎体大小相同。3.根据权利要求1所述的一种X型抗浮抗拔粧,其特征在于,所述第一圆椎体、第二圆椎体位于所述粧体的上部。4.根据权利要求1所述的一种X型抗浮抗拔粧,其特征在于,所述第一圆椎体、第二圆椎体位于所述粧体的中部。5.根据权利要求1所述的一种X型抗浮抗拔粧,其特征在于,所述第一圆椎体、第二圆椎体位于所述粧体的下部。
【文档编号】E02D5/44GK105862735SQ201610413535
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年6月14日
【发明人】徐韬, 周建军, 朱世友, 周金忠, 张笑可
【申请人】中铁隧道勘测设计院有限公司
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