一种防污液及采用该防污液的人造石材处理方法

文档序号:1883935阅读:280来源:国知局
一种防污液及采用该防污液的人造石材处理方法
【专利摘要】本发明公开一种防污液,按重量百分比包括:35~50%的纳米SiO2,0.1~1.0%的稀土抛光材料,0.2~3.0%的超纳米级TiO2,0.5~1.0%的增稠剂,0.1~0.2%的光亮剂,0.2~1.2%的耐温助剂,其余为水。其中,所述超纳米级是指颗粒的平均粒径小于10纳米,所述稀土抛光材料为铈基抛光粉或锆基抛光粉。与现有技术相比,本发明提供的一种防污液涂磨在石材表面上时,能迅速渗入基材内部封堵毛细孔及细微裂纹,同时,在基材表面形成一层功能性保护膜,有效的阻止各种污迹的渗入,使石材表面清澈亮丽。本发明还提供一种采用上述人造石材用防污液的人造石材处理方法。
【专利说明】一种防污液及采用该防污液的人造石材处理方法

【技术领域】
[0001]本发明涉及人造石材的涂覆或浸溃处理【技术领域】,尤其涉及一种人造石材用防污液及其使用方法。

【背景技术】
[0002]人造石材因其颜色一致、美观、坚固、易清洁及无缝接驳等优点主要用于橱柜面板及卫浴间,但因这种板材是由树脂和填充材料及分散助剂等由特定的工艺制作而成,其表面及内部存在不少气孔、毛细孔及细微裂纹,虽然经过抛光打磨,但板面亮度不够(光泽度偏低,大约45°左右),不太防污且防污不持久,这是目前人造石材的不足。
[0003]针对人造石材的这一缺陷,目前大多数厂家采用硅烷氟碳类防污剂做防污处理,然而,硅烷氟碳类防污剂的防污效果并不理想,不仅增光效果差,有时甚至还影响了表面光泽度。
[0004]在具体防污剂具体使用过程中,目前所采用的工艺主要包括以下流程:首先采用打蜡机对人造石材表面打蜡,打好蜡后再在人造石材上点滴防污剂,并进行均抛处理,最后,将均抛好的人造石材进行覆膜、包装即可。


【发明内容】

[0005]本发明的一个目的在于提供一种无味、无毒、不挥发、增光效果好的人造石材用防污液。
[0006]本发明的另一个目的在于提供一种采用上述防污液的人造石材处理方法。
[0007]为达到以上目的,本发明采用如下技术方案。
[0008]一种防污液,其特征在于,按重量百分比包括:
[0009]35 ?50% 的纳米 S12,
[0010]0.1?L 0%的稀土抛光材料,
[0011]0.2?3.0%的超纳米级T12,
[0012]0.5?1.0%的增稠剂,
[0013]0.1?0.2%的光亮剂,
[0014]0.2?1.2%的耐温助剂,其余为水;
[0015]其中,所述稀土抛光材料为铈基抛光粉或锆基抛光粉,所述超纳米级是指颗粒的平均粒径小于10纳米。
[0016]作为改进地,所述增稠剂为海藻酸丙二醇酯,瓜尔豆胶,黄原胶,阿拉伯胶,卡拉胶中的一种或几种。
[0017]作为改进地,所述光亮剂包括:苄叉丙酮,壬基酚聚氧乙烯醚,苯甲酸钠和水。
[0018]作为改进地,所述耐温助剂为聚醚多元醇。
[0019]一种人造石材处理方法,其特征在于,它采用如权利要求1-4中任意一项所述的人造石材用防污液。
[0020]作为改进地,所述的人造石材处理方法,包括:
[0021]除尘,除去人造石材板面的灰尘;
[0022]研磨,首先采用滴加管道,将防污液滴加到人造石材表面,然后采用6?12组抛光磨头进行连续研磨,研磨过程中,不另外施压而仅借助磨头自身压力抛磨,研磨温度不超过45 0C ;
[0023]清除残渣,清除人造石材表面、侧面的残渣;
[0024]覆膜,在人造石材外包覆一层保护膜;
[0025]包装出货。
[0026]作为改进地,抛磨速度为I米/分钟-1.5米/分钟,以使防污液充分渗入人造石材,利于填充针孔、裂纹及毛细孔。
[0027]作为作为改进地,在研磨过程中,防污液分A、B两组配合使用;A组防污液的浓度高于B组防污液的浓度。
[0028]作为改进地,每两组磨头加料一次;具体研磨步骤为:先用A组防污液研磨至加料3-4次后,再用B组防污液研磨至加料2-3次后结束。其中,高浓度的A组防污液有利于填充人造石材表面的针孔、裂纹及毛细孔,浓度稍低的B组防污液有利于深层渗透,与石材机体有机结合,从而强化填充效果。
[0029]与现有技术相比,本发明提供的一种防污液涂磨在石材表面上时,能迅速渗入基材内部封堵毛细孔及细微裂纹,在基材表面形成一层功能性保护膜,有效的阻止各种污迹的渗入。同时,由于防污液中含有光亮剂,有效提高人造石材表面亮度;通过实验测试,使用本发明提供的防污液后,人造石材表面光泽度由传统的45°左右增至85°以上。
[0030]本发明提供的采用上述防污液的人造石材处理方法,利用连续研磨方式,并在研磨头自身压力的作用下研磨,使防污液一部分深入人造石材的基材内部填满气孔及细微裂纹,另一部分在表面形成一层硬度同基材相一致的致密高光防护层,既增光又防污。同时,由于防污液中含有纳米级S12和超纳米级T12,利用纳米材料的超细微和极优异的渗透、静电吸附功能,在研磨产生微静电时,均匀吸附微细的纳米材料填充人造石材板面气孔。此夕卜,在相对的压力、温度及一定的速度下,优异的纳米稀土抛光功能,让防污液产生二次致密结晶,静电吸附能使材料在填充气孔和凹坑后均匀的布满板材表面,由于体积发生一定的膨胀,渗透在气孔中的晶体能咬紧基材,而形成附着力极强的分子键体系,与板材表面咬结聚合成一体的致密保护层,在高分子稀土微粉研磨下产生高光泽度,从而达到板面的增光防污性能。

【具体实施方式】
[0031]为方便本领域普通技术人员更好地理解本创作的实质,下面对本发明的【具体实施方式】进行详细阐述。
[0032]防污液实施例一
[0033]一种防污液,其特征在于,按重量百分比包括:35?50%的纳米S12,0.1?1.0%的稀土抛光材料,0.2?3.0%的超纳米级T12, 0.5?1.0%的增稠剂,0.1?0.2%的光亮齐IJ,0.2?1.2%的耐温助剂,其余为水。在这里,所述超纳米级是指颗粒的平均粒径小于10纳米。
[0034]本实施例中,优选纳米S12的含量为40% ;优选稀土抛光材料为氧化铈抛光粉,稀土抛光材料的含量为0.5% ;优选超纳米级T12的含量为2% ;优选增稠剂为海藻酸丙二醇酯,增稠剂含量为0.8%;优选光亮剂优苄叉丙酮,壬基酚聚氧乙烯醚,苯甲酸钠和水组成,光亮剂的含量为0.1% ;优选耐温助剂为聚醚多元醇,助温剂含量为1%。其他实施方式中,所述氧化铈由其他铈基抛光粉或锆基抛光粉替代;所述增稠剂为海藻酸丙二醇酯,瓜尔豆胶,黄原胶,阿拉伯胶,卡拉胶中的一种或几种;不限于本实施例。
[0035]本实施例提供的一种防污液涂磨在石材表面上时,能迅速渗入基材内部封堵毛细孔及细微裂纹,同时,在基材表面形成一层功能性保护膜,有效的阻止各种污迹的渗入,使石材表面清澈亮丽。
[0036]防污液实施例二
[0037]一种防污液,按重量百分比包括:35%的纳米Si02,0.1%的稀土抛光材料,0.2%的超纳米级Ti02,0.5%的增稠剂,0.1%的光亮剂,0.2%的耐温助剂,其余为水。其中,所述超纳米级是指颗粒的平均粒径小于10纳米,所述稀土抛光材料为氧化锆抛光粉,所述增稠剂为阿拉伯胶,所述光亮剂由苄叉丙酮、壬基酚聚氧乙烯醚、苯甲酸钠和水组成,所述耐温助剂为聚醚多元醇。
[0038]防污液实施例三
[0039]一种防污液,按重量百分比包括:50%的纳米Si02,1%的稀土抛光材料,3%的超纳米级Ti02,1%的增稠剂,0.2%的光亮剂,1.2%的耐温助剂,其余为水。其中,所述超纳米级是指颗粒的平均粒径小于10纳米,所述稀土抛光材料为氧化锆抛光粉,所述增稠剂为瓜尔豆胶,所述光亮剂由苄叉丙酮、壬基酚聚氧乙烯醚、苯甲酸钠和水组成,所述耐温助剂为聚醚多元醇。
[0040]方法实施例
[0041]一种采用上述人造石材用防污液的人造石材处理方法,包括:
[0042]除尘,除去人造石材板面的灰尘;
[0043]研磨,首先采用滴加管道,将防污液滴加到人造石材表面,然后采用6?12组抛光磨头进行连续研磨,研磨过程中,不另外施压而仅借助磨头自身压力抛磨,研磨温度不超过45 0C ;
[0044]清除残渣,清除人造石材表面、侧面的残渣;
[0045]覆膜,在人造石材外包覆一层保护膜;
[0046]包装出货。
[0047]其中,抛磨速度为I米/分钟-1.5米/分钟,以使防污液充分渗入人造石材,利于填充针孔、裂纹及毛细孔。
[0048]在研磨过程中,防污液分A、B两组配合使用,优选A组防污液的浓度高于B组防污液的浓度。高浓度的A组防污液有利于填充人造石材表面的针孔、裂纹及毛细孔,浓度稍低的B组防污液有利于深层渗透,与石材机体有机结合,从而强化填充效果。本实施例中,优选A组防污液由上述防污液实施例一制得,优选B组防污液由上述防污液实施例二制得。
[0049]具体研磨时,每两组磨头加料一次;具体研磨步骤为:先用A组防污液研磨至加料3-4次后,再用B组防污液研磨至加料2-3次后结束。
[0050]本实施例提供的人造石材处理方法,利用连续研磨方式,并在研磨头自身压力的作用下研磨,使防污液一部分深入人造石材的基材内部填满气孔及细微裂纹,另一部分在表面形成一层硬度同基材相一致的致密高光防护层,既增光又防污。同时,由于防污液中含有纳米级Si02和超纳米级Ti02,利用纳米材料的超细微和极优异的渗透、静电吸附功能,在研磨产生微静电时,均匀吸附微细的纳米材料填充人造石材板面气孔。此外,在相对的压力、温度及一定的速度下,优异的纳米稀土抛光功能,让防污液产生二次致密结晶,静电吸附能使材料在填充气孔和凹坑后均匀的布满板材表面,由于体积发生一定的膨胀,渗透在气孔中的晶体能咬紧基材,而形成附着力极强的分子键体系,与板材表面咬结聚合成一体的致密保护层,在高分子稀土微粉研磨下产生高光泽度,从而达到板面的增光防污性能。
[0051]以上【具体实施方式】对本发明的实质进行了详细说明,但并不能以此来对本发明的保护范围进行限制。显而易见地,在本发明实质的启示下,本【技术领域】普通技术人员还可进行许多改进和修饰,需要注意的是,这些改进和修饰都落在本发明的权利要求保护范围之内。
【权利要求】
1.一种防污液,其特征在于,按重量百分比包括: 35?50%的纳米S12, 0.1?1.0%的稀土抛光材料, 0.2?3.0%的超纳米级T12, 0.5?1.0%的增稠剂, 0.1?0.2%的光亮剂, 0.2?1.2%的耐温助剂,其余为水; 其中,所述稀土抛光材料为铈基抛光粉或锆基抛光粉,所述超纳米级是指颗粒的平均粒径小于10纳米。
2.根据权利要求1所述的防污液,其特征在于,所述增稠剂为海藻酸丙二醇酯,瓜尔豆胶,黄原胶,阿拉伯胶,卡拉胶中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的防污液,其特征在于,所述光亮剂包括:苄叉丙酮,壬基酚聚氧乙烯醚,苯甲酸钠和水。
4.根据权利要求1所述的防污液,其特征在于,所述耐温助剂为聚醚多元醇。
5.一种人造石材处理方法,其特征在于,它采用如权利要求1-4中任意一项所述的人造石材用防污液。
6.根据权利要求5所述的人造石材处理方法,其特征在于,包括: 除尘,除去人造石材板面的灰尘; 研磨,首先采用滴加管道,将防污液滴加到人造石材表面,然后采用6?12组抛光磨头进行连续研磨,研磨过程中,不另外施压而仅借助磨头自身压力缓慢抛磨,研磨温度不超过45 0C ; 清除残渣,清除人造石材表面、侧面的残渣; 覆膜,在人造石材外包覆一层保护膜; 包装出货。
7.根据权利要求6所述的人造石材处理方法,其特征在于,抛磨速度为I米/分钟-1.5米/分钟,以使防污液充分渗入人造石材,利于填充针孔、裂纹及毛细孔。
8.根据权利要求6所述的人造石材处理方法,其特征在于,在研磨过程中,防污液分A、B两组配合使用;A组防污液的浓度高于B组防污液的浓度。
9.根据权利要求8所述的人造石材处理方法,其特征在于,每两组磨头加料一次;具体研磨步骤为:先用A组防污液研磨至加料3-4次后,再用B组防污液研磨至加料2-3次后结束。
【文档编号】C04B41/50GK104513065SQ201310594128
【公开日】2015年4月15日 申请日期:2013年11月22日 优先权日:2013年9月29日
【发明者】周文鹏, 张文斌, 肖玲华, 扬前 申请人:佛山市柯林瓷砖护理用品有限公司
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