专利名称：可异地加工且可钢化的低辐射玻璃的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种镀膜玻璃，尤其是涉及一种可异地加工且可钢化的低辐射玻璃
背景技术：
由于磁控溅射方法已经广泛用于大面积镀膜，成为生产薄膜玻璃产品的主流技 术，而膜层材料的选择对于玻璃产品的性能至关重要，尤其是镀膜玻璃表层的电解质层的 材料关系到产品的存放时间、性能及钢化过程中玻璃颜色的稳定性，传统的可异地加工且 可钢化的低辐射玻璃的表层的第三电介质层的材料为&02，此种材料使得产品存放时间 短、性能及钢化过程中玻璃颜色的稳定性不高。
发明内容为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种能有效提高玻璃存放 时间，且在钢化过程中玻璃的颜色稳定性高的可异地加工且可钢化的低辐射玻璃。本实用新型是通过以下技术方案来实现的一种可异地加工且可钢化的低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，镀膜层包括以 浮法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第一保护层、阻隔红外线层、第二保护 层、第二电介质层和第三电介质层，其中，第一电解质层和第二电解质层的材料为Si3N4，第 一保护层和第二保护层的材料为NiCr合金，而阻隔红外线层则为Ag层，其特征在于，所述 的第三电介质层的材料为Nb205。本实用新型的有益效果是本实用新型通过采用新材料Nb205作为第三电解质层 材料，其钢化后膜层更耐久，不仅可以提高玻璃的存放时间，抗氧化性能好，而且在玻璃的 钢化过程中玻璃自身的颜色不会受到高温的影响而发生太大变化，使其使用性能达到了最 佳，且镀膜玻璃的可见光透过率大于60 %，而玻璃面反射率为14 %左右。
图1为本实用新型一实施例的结构示意图。图中主要附图标记含义为1、浮法玻璃 2、第一电介质层3、第一保护层4、阻隔红外线层 5、第二保护层6、第二电介质层7、第三电介质层。
具体实施方式
下面将结合附图，详细说明本实用新型的具体实施方式
图1为本实用新型一实施例的结构示意图。如图1所示可异地加工且可钢化的低辐射玻璃，包括浮法玻璃1和镀膜层，镀膜层包括以浮法玻璃1为基础层向外依次镀覆的第一电介质层2、第一保护层3、阻隔红外线 层4、第二保护层5、第二电介质层6和第三电介质层7，其中，第一电解质层2和第二电解质 层6的材料为Si3N4，第一保护层3和第二保护层5的材料为NiCr合金，而阻隔红外线层4 则为Ag层，且所述的第三电介质层7的材料为Nb205。其中，第一电解质层2的作用为a、阻止玻璃中的Na+向膜层中渗透；b、调整玻璃 的颜色。第一保护层3和第二保护层5的主要作用是保护Ag层不被氧化、延长玻璃的存放 时间。阻隔红外线层4的作用为a、可以降低辐射率，增加保温或隔热效果。
而第二电解质层6和第三电解质层7的主要作用是a、提高玻璃的物理和化学性 能；b、调整玻璃的颜色、提高玻璃的机械性能；C、保护整个膜层，因此，第二电解质层6和 第三电解质层7的材料至关重要。此外，本实用新型的生产工艺为首先选用新鲜的浮法玻璃1，然后通过清洗机清 洗达到要求后，按顺序依次镀制第一电介质层2、第一保护层3、阻隔红外线层4、第二保护 层5、第二电介质层6和第三电介质层7，最后经喷塑胶粉粒处理后用PE布密封包装。更为具体的是其中第一电介质层2通过交流双靶溅射形成，其中溅射条件为背 景真空度在3. OX IO-3Hibar条件下，充入Ar和N2的混合气体(其中Ar和N2的体积比为 Ar :N2==30:35)o第二电介质层6也是通过交流双靶溅射形成，其中溅射条件为背景真空度在 3. 8X l(T3mbar条件下，充入Ar和02的混合气体(其中Ar和02的体积比为Ar :02==40:60)。第三电介质层7也是通过交流双靶溅射形成，其中溅射条件为背景真空度 在3. 1 X IO-3Hibar条件下，充入Ar和02的混合气体(其中Ar和02的体积比为Ar 02==57:4. 5)。第一保护层3和第二保护层5通过直流单靶材溅射形成，其中第一保护层3溅射 条件为背景真空度在3. 2X10-3mbar条件下，充入纯Ar ；第二保护层5溅射条件为背 景真空度在2. 85 X IO-3Hibar条件下，充入纯Ar。而Ag层4也是通过直流单靶材溅射形成，其中溅射条件为背景真空度在 2. 5 X KT3Hibar条件下，充入纯Ar。具体实施例1 第一电介质层2和第二电介质层6选用Si3N4，其中第一电介质层2的膜层厚度为 20 21nm，而第二电介质层6的膜层厚度为30 40nm，而第一保护层3和第二保护层5选 用NiCr，其中第一保护层3和第二保护层5的膜层厚度为3 8nm，此外，阻隔红外线层4 即银层的膜层厚度为10 20nm，第三电介质层7选用Nb205，膜层厚度为20 40nm本实用新型的生产工艺简单，降低了生产成本，并极大地降低了玻璃表面的辐射 率，并提高了玻璃对光谱的选择性，使其使用性能达到了最佳。以上已以较佳实施例公开了本实用新型，然其并非用以限制本实用新型，凡采用 等同替换或者等效变换方式所获得的技术方案，均落在本实用新型的保护范围之内。
权利要求1. 一种可异地加工且可钢化的低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，镀膜层包括以浮 法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第一保护层、阻隔红外线层、第二保护层、 第二电介质层和第三电介质层，其中，第一电解质层和第二电解质层的材料为Si3N4，第一 保护层和第二保护层的材料为NiCr合金，而阻隔红外线层则为Ag层，其特征在于，所述的 第三电介质层的材料为Nb205。
专利摘要本实用新型公开了一种可异地加工且可钢化的低辐射玻璃，包括浮法玻璃和镀膜层，镀膜层包括以浮法玻璃为基础层向外依次镀覆的第一电介质层、第一保护层、阻隔红外线层、第二保护层、第二电介质层和第三电介质层，第一电解质层和第二电解质层的材料为Si3N4，第一保护层和第二保护层的材料为NiCr合金，阻隔红外线层则为Ag层，第三电介质层的材料为Nb2O5。本实用新型通过采用新材料Nb2O5作为第三电解质层材料，其钢化后膜层更耐久，提高了玻璃的存放时间，抗氧化性能好，且在钢化过程中玻璃自身颜色不会受到高温的影响而发生太大变化，其使用性能达到了最佳，且镀膜玻璃的可见光透过率大于60％，而玻璃面反射率为14％左右。
文档编号C03C17/36GK201817409SQ201020545429
公开日2011年5月4日 申请日期2010年9月28日 优先权日2010年9月28日
发明者林嘉宏 申请人:林嘉宏