专利名称：液晶显示屏水基清洗液的制备方法
技术领域：
本发明涉及一种液晶显示屏水基清洗液的制备方法。
背景技术：
液晶是一类具有特殊性能的物质，它在液体状态下在一定范围内保持晶体特有 的在三维空间能够有序排列的特征。液晶显示屏上使用的液晶材料是具有胆留醇酯、 氰基联苯、苯基环己烷等类结构的有机化合物。将液晶材料封装到两片导电玻璃中间之 后，在其周边总会残留有多余的液晶材料，如不清除将会影响晶液显示器的性能，严重 时甚至腐蚀电极引线，造成报废。随着微电子技术的飞速发展，对液晶显示屏(LCD)及 其它的晶片玻璃以及各种器件衬底的表面清洁度提出了更高的要求。目前，液晶显示屏清洗液的制备方法大多采用敞开式机械搅拌的方法。由于 机械设备以及机械设备所使用的润滑剂中含有有机物、金属离子、大颗粒等有害成分， 在搅拌过程中进入清洗液中，而且，采用金属反应器制备，反应器中的金属离子容易溶 出，进入清洗液中，从而造成清洗后二次污染，使液晶显示屏性能及成品率降低。另 外，在环境中以及操作人员体内存在大量的钠离子，很容易对清洗液造成污染。
发明内容
本发明是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种使用非金属反应器采用负 压搅拌的方法制备液晶显示屏水基清洗液，以避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物 质进入清洗液中，提高清洗液的纯度，避免二次污染。本发明通过下述技术方案实现一种液晶显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，包括下述步骤(1)将渗透剂、非离子表面活性剂、金属离子螯合剂、电阻为18ΜΩ的超纯去 离子水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内 成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌；(2)将胺碱用电阻为18ΜΩ的超纯去离子水稀释后备用；(3)步骤(1)的透明密闭反应器内持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌边将 步骤(2)稀释后的胺碱在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；之后，持续保持完 全涡流状态，边涡流搅拌边将缓蚀剂在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中，继续 涡流搅拌均勻得到液晶显示屏水基清洗液；所述透明密闭的反应器的材料为聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂中的任一 种；得到的液晶显示屏水基清洗液中，按体积百分比胺碱5 15%，渗透剂 0.1-10%,非离子表面活性剂0.1 10%，金属离子螯合剂0.1-5%和缓蚀剂0.01 5%， 余量的电阻为18ΜΩ的超纯去离子水。金属离子螯合剂可以选用EDTA，或者采用天津 晶岭微电子材料有限公司市售产品FA/O II型螯合剂。
非离子表面活性剂可以采用常规的液晶显示屏水基清洗液中的非离子表面活性 剂，如天津晶岭微电子材料有限公司市售产品FA/O I型活性剂、FA/OII型活性剂等。 渗透剂可以采用常规的液晶显示屏水基清洗液中所使用的渗透剂，如JFC等。所述胺碱为三乙醇胺、二乙醇胺、羟乙基乙二胺中的任一种。所述缓蚀剂为苯丙三氮唑或六次甲基四胺。本发明具有下述技术效果1、本发明的制备方法通过在负压状态下使反应器中的液体形成完全涡流状态， 对反应器中的液体实现搅拌，而且，反应器使用透明的非金属材料，能够避免有机物、 金属离子、大颗粒等有害物质进入到清洗液中，从而提高了清洗液的纯度，有利于提高 液晶显示屏的清洗质量，避免二次污染，提高液晶显示屏的成品率，采用此制备方法比 原始的机械搅拌方法制备的清洗液，金属离子含量小2个数量级，能达到Ippm以下。2、本发明先将渗透剂、非离子表面活性剂、金属离子螯合剂等用负压搅拌方式 充分混合，然后在负压的作用下将稀释的胺碱抽入到反应器中，进行充分混合，从而避 免了非离子表面活性剂局部胶束现象，提高液晶显示屏水基清洗液的成品率，延长了液 晶显示屏水基清洗液的存放时间。而且，胺碱稀释后在完全涡流状态下加入到反应器 中，能够避免清洗液局部pH值过高对清洗液质量的影响，提高清洗液的质量。3、本发明的水基清洗液中的渗透剂和表面活性剂实现了降低表面张力和强渗透 力进入缝内，利用溶解、分解等作用去除有机物。胺碱对有机物有一定的溶解作用，而 且胺碱与有机物能发生化学反应，有利于消除产品表面的残留物，提高了产品表面的光 洁度。金属螯合剂可以通过螯合剂分子与金属离子的强结合作用，将金属离子包合到螯 合剂内部，变成稳定的、分子量更大的化合物，从而阻止金属离子起作用。缓蚀剂可以 吸附在金属表面形成一层很薄的膜，保护金属免受大气及有害介质的腐蚀。本发明的抛 光液的制备方法简单方便。
具体实施例方式以下结合具体实施例对本发明进行详细说明。实施例1(1)将FA/O I型活性剂10mL、渗透剂JFC 10mL、金属离子螯合剂EDTA5ml、 30mL去离子水加入到聚丙烯材料的密闭反应器内，对聚丙烯材料的密闭反应器抽真空使 反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌。(2)取三乙醇胺IOmL用35mL 18M Ω的超纯去离子水稀释后备用。(3)步骤(1)的聚丙烯材料密闭反应器持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅 拌边将步骤(2)稀释后的三乙醇胺液体在负压的作用下抽入到聚丙烯材料的密闭反应器 中。之后，保持完全涡流状态，边涡流搅拌边将2mL苯并三氮唑在负压的作用下抽入到 聚丙烯材料的密闭反应器中，继续保持完全涡流状态，涡流搅拌均勻得到液晶显示屏水 基清洗液。经测试，清洗液中金属离子含量为0.7ppm，存放时间可达2年以上，清洗成 品率达90%以上。实施例2 (1)将 FA/O II 型活性剂 2mL、渗透剂 JFC 20mL、FA/O 螯合剂 5ml，IOOmL18ΜΩ的超纯去离子水加入到聚乙烯材料的密闭反应器内，对聚乙烯材料的密闭反应器 抽真空使反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌。(2)取羟乙基乙二胺15mL用IlOmL 18ΜΩ的超纯去离子水稀释后备用。(3)步骤(1)的聚乙烯材料密闭反应器持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌 边将步骤(2)稀释后的羟乙基乙二胺液体在负压的作用下抽入到聚乙烯材料的密闭反应 器中。之后，保持完全涡流状态，边涡流搅拌边将2mL六次甲基四胺在负压的作用下抽 入到聚乙烯材料的密闭反应器中，继续保持完全涡流状态，涡流搅拌均勻得到液晶显示 屏水基清洗液。经测试，清洗液中金属离子含量为0.4ppm，存放时间可达2年以上，清 洗成品率达90%以上。
权利要求
1.一种液晶显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，包括下述步骤(1)将渗透剂、非离子表面活性剂、金属离子螯合剂、电阻为18ΜΩ的超纯去离子 水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内成负 压完全涡流状态，实现涡流搅拌；(2)将胺碱用电阻为18ΜΩ的超纯去离子水稀释后备用；(3)步骤(1)的透明密闭反应器内持续保持完全涡流状态，边进行涡流搅拌边将步骤 (2)稀释后的胺碱在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；之后，持续保持完全涡 流状态，边涡流搅拌边将缓蚀剂在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中，继续涡流 搅拌均勻得到液晶显示屏水基清洗液；所述透明密闭的反应器的材料为聚丙烯、聚乙烯、聚甲基丙烯酸甲脂中的任一种；得到的液晶显示屏水基清洗液中，按体积百分比胺碱5 15%，渗透剂 0.1-10%,非离子表面活性剂0.1 10%，金属离子螯合剂0.1-5%和缓蚀剂0.01 5%， 余量的电阻为18ΜΩ的超纯去离子水。
2.根据权利要求1所述的液晶显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，所述胺碱 为三乙醇胺、二乙醇胺、羟乙基乙二胺中的任一种。
3.根据权利要求1所述的液晶显示屏水基清洗液的制备方法，其特征在于，所述缓蚀 剂为苯丙三氮唑或六次甲基四胺。
全文摘要
本发明公开了一种液晶显示屏水基清洗液的制备方法，旨在提供一种使用非金属反应器采用负压搅拌的方法制备液晶显示屏水基清洗液，以避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物质进入清洗液中，提高清洗液的纯度，避免二次污染。将渗透剂、非离子表面活性剂、金属离子螯合剂、电阻为18MΩ的超纯去离子水加入到透明密闭的反应器内，对透明密闭的反应器抽真空使透明密闭的反应器内成负压完全涡流状态，实现涡流搅拌；边进行涡流搅拌边将稀释后的胺碱在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中；边涡流搅拌边将缓蚀剂在负压的作用下抽入到透明密闭的反应器中，继续涡流搅拌均匀得到液晶显示屏水基清洗液。
文档编号C11D3/28GK102010794SQ20101023182
公开日2011年4月13日 申请日期2010年7月21日 优先权日2010年7月21日
发明者刘玉岭, 檀柏梅, 高宝红, 黄妍妍 申请人:天津晶岭微电子材料有限公司