一种促进制种豇豆高产的物理调控方法
【专利摘要】本发明公开了一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，在播种排布阶段采取宽窄行播种，宽行60cm、窄行45cm，株距45cm不变的播种排布方式，4行一垄，垄宽170cm，垄高20-22cm，操作沟宽30cm。本发明的播种排布获得了土地最大利用率、最佳采光效果和采荚的方便性；追肥方法的省工和避免伤根；支架方法的抗风性和采光效果等增加茎叶活力，防止早衰，促侧芽萌发，减少病虫害发生，促进花序增多，致使豇豆荚长、荚多、粒多，产量提高。
【专利说明】一种促进制种豇豆高产的物理调控方法
【技术领域】
[0001]本发明属于复合肥料领域，特别涉及一种促进制种豇豆高产的物理调控方法。
【背景技术】
[0002]豇豆口感脆嫩，营养丰富，蛋白质含量高，富含粗纤维、碳水化合物、维生素和铁、磷、钙等元素，且适应性强，栽培范围广，是我国夏秋季节主要蔬菜之一。我国是长豇豆次生起源中心，栽培历史悠久，品种资源丰富，拥有种质资源近千份，在育种方面也取得了很大进展。但是，由于豇豆属于非主要农作物，种子管理部门对豇豆品种管理较主要农作物松散，目前，我国豇豆良种专业化生产基地较少，制种技术不规范，良种繁育技术不高。对于豇豆制种，多数豇豆种子生产单位还是采取粗放的栽培方式，特别是在播种排布、追肥方法、支架方法上没有专门量化研究，结果产量不高；效益偏低，一季亩效益不超过2500元。
【发明内容】
[0003]发明目的:针对现有技术的不足，本发明的目的是提供一种促进制种豇豆高产的物理调控方法。
[0004]技术方案:为了解决上述即使问题，本发明提供一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，在播种排布阶段采取宽窄行播种，宽行60cm、窄行45cm，株距45cm不变的播种排布方式，4行一垄，垄宽170cm，垄高20-22cm，操作沟宽30cm。
[0005]在追肥期间，追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆25-28cm处打洞施肥。
[0006]制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法，四穴豇豆为正四棱锥底部四点，靠每穴豇豆旁边插一根竹竿，四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧，形成正四棱锥型，竹竿离地面1.2~1.3m。
[0007]所述追肥肥料为硫酸铵肥料。冬季加强覆盖、保温，加强采光，经常擦棚膜，使其透光良好，最好在棚内挂反光幕。在豆角开花前，亩追施硫酸铵15公斤。结荚期每10~15天追肥一次，每次施硫酸铵15~20公斤。有条件的，开花后晴天每天上午追施二氧化碳气肥，施后2小时适当通风。
[0008] 传统播种排布是株距25~30厘米，行距67~70厘米，或者株距20~25cm，行距60~66cm，株行距比例在1:2.3-3之间，密度2500穴到4000穴不等；采取宽窄行播种、4行一垄间隔操作沟、操作沟兼排水沟功能，既保证了每亩3000穴的密度，又达到了最佳通风透光、采择豆荚方便的效果；传统追肥方法是穴施，在每列豇豆两株间距豇豆10-15cm处进行打洞施肥；采用四穴中心部位打洞追肥可以减少一半劳动量，而且可以避免靠根过近造成根的折伤和肥料烧根现象，促进养分快速吸收，最大限度发挥肥效，防止采收盛期过后生长缓慢、伏歇现象；由于制种豇豆栽培采用春、夏季露地直播的方式。传统支架方法是抽蔓时立支架，竹竿3~5根一束，搭成“人”字形架，在主蔓伸长后引蔓上架，这样最大的问题是遇到大风天气架子极易被吹到，同时透光通风效果也不好。采用正四棱锥型支架方法，可以稳定结构，不仅抗风，利于透光通风，增加茎叶活力，防止早衰，促侧芽萌发，减少病虫害发生，促进花序增多，致使豇豆荚长、荚多、粒多，产量提高。
[0009]有益效果:与现有技术相比，本发明具有以下优点:通过对豇豆制种环节播种排布、追肥方法、支架方法进行量化研究，总结最佳播种排布、追肥方法、支架方法，通过这一系列方法应用能提高豇豆产量30~50%。
【专利附图】
【附图说明】
[0010]图1田间播种示意图
[0011]其中附图标记I为操作沟，2为播种穴,3为种植垄。
【具体实施方式】
[0012]根据下述实施例，可以更好地理解本发明。然而，本领域的技术人员容易理解，实施例描述仅用于说明本发明，不应当也不会限制权利要求书中所详细描述的本发明。
[0013]实施例1
[0014]一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，在播种排布阶段采取宽窄行播种，宽行60cm、窄行45cm,株距45cm不变的播种排布方式,4行一垄,垄宽170cm,垄高20cm,操作沟宽 30cm。
[0015]在追肥期间，追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆25cm处打洞施肥。
[0016]制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法，四穴豇豆为正四棱锥底部四点，靠每穴豇豆旁边插一根竹竿，四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧，形成正四棱锥型，竹竿离地面1.2 m。
[0017]所述追肥肥料为有机肥料。在豆角开花前，亩追施硫酸铵15公斤。结荚期每15天追肥一次，每次施硫酸铵20公斤。有条件的，开花后晴天每天上午追施二氧化碳气肥，施后2小时适当通风。豆角生长后期植株衰老，根系老化，为延长结荚，可喷0.2%的磷酸二氢钾进行叶面施肥。豆角要及时采收，防止早衰，一般花后13-16天即可采收。大棚种植豆角，由于处在低温高湿环境，通风不良，极易发生锈病，应及时防治。还可选晴天中午放小风，以降低湿度。
[0018]实施例2
[0019]一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，在播种排布阶段采取宽窄行播种，宽行60cm、窄行45cm,株距45cm不变的播种排布方式,4行一垄,垄宽170cm,垄高22cm,操作沟宽 30cm。
[0020]在追肥期间，追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆28cm处打洞施肥。
[0021]制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法，四穴豇豆为正四棱锥底部四点，靠每穴豇豆旁边插一根竹竿，四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧，形成正四棱锥型，竹竿离地面1.3m。
[0022]所述追肥肥料为硫酸铵肥料。在豆角开花前，亩追施硫酸铵15公斤。结荚期每10天追肥一次，每次施硫酸铵15公斤。有条件的，开花后晴天每天上午追施二氧化碳气肥，施后2小时适当通风。豆角生长后期植株衰老，根系老化，为延长结荚，可喷0.2%的磷酸二氢钾进行叶面施肥。
[0023]本发明人采用本发明的方法在句容市后白良种场豇豆繁钟基地进行多年试验，采用小区对比试验、模拟抗风试验，对本发明技术在植物学性状、经济性状、抗风性、根系活力方面等有益效果进行了分析。
[0024]表1本发明对豇豆植物学性状及抗病性影响
[0025]
【权利要求】
1.一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于:在播种排布阶段采取宽窄行播种，宽行60cm、窄行45cm,株距45cm不变的播种排布方式,4行一垄,垄宽170cm,垄高20_22cm,操作沟宽 30cm。
2.根据权利要求1所述的一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于:在追肥期间，追肥方式采取在四穴豇豆中间距每穴豇豆25-28cm处打洞施肥。
3.根据权利要求1或2任一项所述的一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于:制种豇豆栽培的支架方法采用正四棱锥型方法，四穴豇豆为正四棱锥底部四点，靠每穴豇豆旁边插一根竹竿，四根竹竿斜向中心点搭汇一起用稻草或者塑料绳扎紧，形成正四棱锥型，竹竿离地面1.2~1.3m。
4.根据权利要求2所述的一种促进制种豇豆高产的物理调控方法，其特征在于:所述追肥肥料为硫酸铵肥料。
【文档编号】A01C21/00GK103460959SQ201310435807
【公开日】2013年12月25日 申请日期:2013年9月23日 优先权日:2013年9月23日
【发明者】赵九红 申请人:句容市植保植检站