专利名称：陶瓷球端圆柱研磨体的利记博彩app
技术领域：
本实用新型涉及一种陶瓷工业球磨机内用的研磨体，尤其是一种陶瓷球端圆柱研磨体。
背景技术：
目前陶瓷工业原料粉碎用的球磨机中使用的研磨体，主要是陶瓷球状研磨体，见
图1，工作时，磨体主要以点接触进行撞击研磨粉碎，其特点是撞击能量大，撞击粉碎效率高，适于粗粉料的细磨。其缺点是磨体工作时，接触面积小，研磨粉碎效率低，不适于细粉料的再细磨。也有报道采用陶瓷园柱状研磨体，见图2，工作时磨体主要以线接触进行撞击研磨粉碎，其特点是磨体接触面积大，研磨粉碎效率高，适于细粉料的再细磨。其缺点是由于接触面积大，撞击能量小，撞击粉碎效率低，不适于粗粉料的细磨，且圆柱体端面圆周呈棱角状，既降低粉碎效率，又增大磨耗。
发明内容
为了克服陶瓷球状研磨体，研磨粉碎效率低的缺点和克服陶瓷圆柱状研磨体，撞击粉碎效率低的缺点，本实用新型提供一种陶瓷球端圆柱研磨体，既有较高的撞击粉碎效率，又有很好的研磨粉碎效率，尤其适用于装载在球磨机中对陶瓷原料进行粉碎。
本实用新型解决其技术问题的技术方案是创造一种陶瓷球端圆柱研磨体，形状见图3，由1体身，2上体端，3下体端构成，其中1体身呈圆柱状，2上体端、3下体端呈球缺状。1体身圆柱与2上体端3下体端的球缺交界的外表面圆滑过渡，无棱角，1、2、3、构成一个整体。
这种陶瓷球端圆柱研磨体，装入球磨机内运转时，当一个研磨体的球端与另一上研磨体接触时呈点接触，这种接触的机率很多，粉碎型式主要为撞击粉碎，即撞击粉碎效率高。当一个磨体的体身圆柱部位与另一磨体的体身圆柱部位平行接触时，呈线接触，这种接触的机率也是比较多的，粉碎形式主要为研磨粉碎，即研磨粉碎的效率也比较高。同时也克服了陶瓷圆柱研磨体表面有棱角，降低球磨效率和增大磨耗的缺点。这种研磨体，同时具有很高的撞击粉碎效果和较好的研磨粉碎效果。
在实际生产中，陶瓷原料在球磨过程中，入磨后的前期，原料粒度较粗，此时宜采用撞击粉碎效率高的研磨体，能使原料的粗粒很快被粉碎到一定细度，原料达到一定细度的后期，宜采用研磨效率高的研磨体，能使原料更快地被粉碎到要求的细度。若球磨时选用陶瓷球状研磨体，则原料入磨后，前期效果好，后期效果差。若选用陶瓷圆柱状研磨体，则原料入磨后的前期效果差，后期效果好。若选用陶瓷球端圆柱研磨体，则原料入磨后的前期和后期都有较高的粉碎效率。综上所述，这种陶瓷球端圆柱研磨体，尤其适用于陶瓷原料在球磨粉碎中选用。
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明。
图1是陶瓷球状研磨体示意图图2是陶瓷圆柱状研磨体示意图图3是本实用新型的形状示意图图3中，1体身、圆柱状，2上体端、球缺状，3下体端、球缺状，D是1体身圆柱的端面直径，也是2、3上下体端球缺的底面直径，这两个直径相等，故用一个字母D表示。h是2、3上下体端两个球缺的高，这两个高也应相等，故用一个字母h表示，且h≤1/2D。L是1体身圆柱的高。
具体实施方案按图3的结构选择三种陶瓷球端圆柱研磨体(其规格为大号D＝40L＝40 h＝20，中号D＝32 L＝32 h＝16，小号D＝26 L＝26 h＝13)与选择三种陶瓷球状研磨体。(规格为大号φ50，中号φ40，小号φ30)按同样大中小比例分别装载于同样的球磨机中，对某一釉料进行粉碎，详见下表
从上例可知，使用陶瓷球端圆柱研磨体比使用陶瓷球状研磨体研磨某釉料达到同等细度所需球磨时间可缩短3小时。
权利要求1.一种陶瓷球端圆柱研磨体，(形状见说明书图3)，由1体身，2上体端，3下体端构成，其特征是1体身、呈圆柱状，2上体端，3下体端呈球缺状，1、2、3共同构成一整体。
2.根据权利要求书1所述的一种陶瓷球端圆柱研磨体，其特征是所述的2上体端，3下体端的球缺状，其h≤1/2D。
3.根据权利要求书1所述的一种陶瓷球端圆柱研磨体，其特征是1、2、3共同构成一整体时，1体身圆柱与2上体端、3下体端的球缺交界的外表面圆滑过度，使研磨体表面无棱角。
专利摘要本实用新型提供一种陶瓷工业原料球磨粉碎用陶瓷球端圆柱研磨体，由1体身，2上体端，3下体端，组成一整体。其中1体身呈圆柱状，2上体端，3下体端呈球缺状，外表面圆滑无棱角。在球磨机内工作时既具有较高的撞击粉碎效率，又具有很好的研磨粉碎效率。尤其适用于装载在球磨机中对陶瓷原料进行粉碎。
文档编号B02C17/18GK2668254SQ0327290
公开日2005年1月5日 申请日期2003年6月18日 优先权日2003年6月18日
发明者彭裕永 申请人:彭裕永, 彭国童